公开(公告)号：CN108883566B

公开(公告)日：2021-06-04

申请号：CN201780020542.7

申请日：2017-03-28

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 古谷勉 ,  早川登 ,  北河佑介

IPC: B29C55/04 ,  B29K29/00 ,  B29L7/00 ,  G02B5/30

Abstract: 本发明提供在制造工序中难以产生断裂的拉伸膜的制造方法、以及拉伸膜的制造装置。本发明提供一种拉伸膜的制造方法，是将原料拉伸膜沿机械流动方向纵断的拉伸膜的制造方法，该方法具有以在宽度方向具有0.5mm以上的间隔的方式断开所述原料拉伸膜的纵断工序。

公开(公告)号：CN106249335B

公开(公告)日：2021-05-04

申请号：CN201610404082.5

申请日：2016-06-08

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 古谷勉 ,  北河佑介 ,  武藤清

IPC: G02B5/30 ,  B29C55/02

Abstract: 提供聚乙烯醇系树脂薄膜上取向吸附有二向色性色素、厚度在15μm以下、聚乙烯醇系树脂的双折射率在0.040以上的偏光膜及含有其的偏光板。

公开(公告)号：CN107111035B

公开(公告)日：2020-05-29

申请号：CN201580067338.1

申请日：2015-12-09

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 北河佑介 ,  古谷勉 ,  武藤清 ,  滨松浩

IPC: G02B5/30

Abstract: 本发明提供一种偏振膜的制造方法，其包含：将聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素染色的染色工序；将染色工序后的膜用交联剂处理的交联工序；以及将交联工序后的并且处于湿润状态的膜放置在温度40～100℃、绝对湿度40g/m3以上的气氛下的高温高湿处理工序，本发明提供一种偏振膜，其是二色性色素吸附取向于聚乙烯醇系树脂膜而得的偏振膜，且该偏振膜具有特定的取向度(％)；以及含有该偏振膜的偏振板。

公开(公告)号：CN106980148B

公开(公告)日：2018-04-17

申请号：CN201710028965.5

申请日：2017-01-16

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 古谷勉 ,  北河佑介

IPC: G02B5/30

Abstract: 本发明涉及偏振板及图像显示装置。本发明提供一种提高了与水接触的环境下的耐裂纹性的偏振板。本发明提供一种偏振板，是包含偏振片、和层叠于偏振片的至少一面的功能层的偏振板，从偏振片的偏振片透射轴方向的弹性模量中减去功能层的偏振片透射轴方向的弹性模量而得的值为－1100MPa以上。

公开(公告)号：CN107209312A

公开(公告)日：2017-09-26

申请号：CN201680006230.6

申请日：2016-01-21

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 赵天熙 ,  权容铉 ,  陆根善 ,  崔允硕 ,  矢可部公彦 ,  北河佑介

IPC: G02B5/30 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02B5/30 ,  G02F1/1335

Abstract: 本发明提供一种偏振片，其满足下式：0.7≤A700/A480≤1.0、A700＝－Log10{(TMD，700×TTD，700)/10000}、A480＝－Log10{(TMD，480×TTD，480)/10000}TMD，700及TTD，700分别是将所述偏振片配置为所述偏振片的吸收轴与测定光的直线偏振光正交的状态及平行的状态时得到的700nm波长下的透射率，TMD，480及TTD，480分别是将所述偏振片配置为所述偏振片的吸收轴与测定光的直线偏振光正交的状态及平行的状态时得到的480nm波长下的透射率，它们的单位均为％。

公开(公告)号：CN107076906A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201580050228.4

申请日：2015-09-17

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 赵天熙 ,  权容铉 ,  朴旼奎 ,  薛佑焕 ,  矢可部公彦 ,  北河佑介

IPC: G02B5/30 ,  G02F1/1335

Abstract: 本发明涉及一种偏振片的制造方法，更详细而言，本发明的偏振片的制造方法包含偏振片形成用膜的溶胀、染色、交联及拉伸步骤，上述溶胀步骤、上述染色步骤及上述交联步骤以此顺序进行，上述拉伸步骤的至少一部分在上述染色步骤中、和/或上述染色步骤前进行，在上述染色步骤结束时，拉伸方向的偏振片形成用膜内的结晶与结晶之间的距离为20～40nm，染色液包含硼酸化合物。

公开(公告)号：CN118732124A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202410361281.7

申请日：2024-03-27

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 北河佑介 ,  太田阳介

IPC: G02B5/30 ,  G02F1/1337

Abstract: 本发明涉及偏光薄膜。课题是提供能抑制由入射光的界面反射引起的干涉不均的偏光薄膜。依次层叠有基材(2)、取向膜(3)和偏光膜(4)的偏光薄膜(1)，其中，基材的慢轴方向与偏光膜的吸收轴方向所成的角为45°±5°，偏光膜与取向膜之间相对于可见光的折射率差满足下述式(1)，取向膜与基材之间相对于可见光的折射率差满足下述式(2)。|n(偏光膜)‑n(取向膜)|≤0.06(1)；|n(取向膜)‑n(基材)|≤0.06(2)；式(1)中，n(偏光膜)表示偏光膜的透射轴方向的折射率。

公开(公告)号：CN117099027A

公开(公告)日：2023-11-21

申请号：CN202280026695.3

申请日：2022-03-28

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 北河佑介 ,  幡中伸行

IPC: G02B5/30

Abstract: 本发明的目的是提供薄型并且在转印至被转印体时抑制贴合错位和褶皱的产生、能容易地向任意被转印体转印的光学层叠体。光学层叠体，其为依次包含第1基材膜、第1应力缓和层、偏光层、粘合粘接层、相位差层、第2应力缓和层及第2基材膜的光学层叠体，位于第1应力缓和层与第2应力缓和层之间的层的合计厚度为20μm以下，第1应力缓和层的储能弹性模量为1.5MPa以下，第1基材膜及第2基材膜均为可剥离的基材膜。

公开(公告)号：CN114839710A

公开(公告)日：2022-08-02

申请号：CN202210113462.9

申请日：2022-01-29

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 北河佑介 ,  幡中伸行

IPC: G02B5/30 ,  G09F9/30 ,  B32B27/36 ,  B32B27/32 ,  B32B27/08 ,  B32B7/12 ,  B32B33/00

Abstract: 本发明的目的在于，提供一种光学层叠体，其能够在向被转印体转印时抑制拉链现象的产生、剥离界面的翘起，能够向任意的被转印体容易地转印。本发明的光学层叠体依次包含第1基材、取向膜、偏振膜、粘合粘接层、相位差膜及第2基材，所述偏振膜及相位差膜各自为包含液晶化合物的液晶组合物的固化膜，从该光学层叠体剥离第1基材时的剥离力F1和从该光学层叠体剥离第2基材时的剥离力F2满足式(1)、(2)及(3)：0.02(N/25mm)≤F1≤0.30(N/25mm) (1)0.02(N/25mm)≤F2≤0.30(N/25mm) (2)0.02(N/25mm)≤|F1‑F2| (3)。

公开(公告)号：CN107076906B

公开(公告)日：2020-10-13

申请号：CN201580050228.4

申请日：2015-09-17

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 赵天熙 ,  权容铉 ,  朴旼奎 ,  薛佑焕 ,  矢可部公彦 ,  北河佑介

IPC: G02B5/30 ,  G02F1/1335

Abstract: 本发明涉及一种偏振片的制造方法，更详细而言，本发明的偏振片的制造方法包含偏振片形成用膜的溶胀、染色、交联及拉伸步骤，上述溶胀步骤、上述染色步骤及上述交联步骤以此顺序进行，上述拉伸步骤的至少一部分在上述染色步骤中、和/或上述染色步骤前进行，在上述染色步骤结束时，拉伸方向的偏振片形成用膜内的结晶与结晶之间的距离为20～40nm，染色液包含硼酸化合物。