公开(公告)号：CN116400445A

公开(公告)日：2023-07-07

申请号：CN202211554217.8

申请日：2022-12-05

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 朴重万 ,  崔正宁 ,  曺珉赫

IPC: G02B5/30 ,  G02F1/1335 ,  D06P3/58 ,  C08J7/12 ,  C08L29/04 ,  B29D11/00

Abstract: 本发明提供一种能够得到具有高可见度修正单体透射率且碘的含量高的偏振膜的偏振膜的制造方法、以及具有优异的光学特性的偏振膜。一种偏振膜的制造方法，其是由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的方法，具有将上述聚乙烯醇系树脂膜染色和交联的染色交联工序，上述染色交联工序包括：第1染色工序，将上述聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素进行染色；第1交联工序，在上述第1染色工序之后，用交联剂将上述聚乙烯醇系树脂膜交联；以及第2染色工序，在上述第1交联工序之后，用二色性色素对上述聚乙烯醇系树脂膜进行染色。

公开(公告)号：CN114167539A

公开(公告)日：2022-03-11

申请号：CN202111519263.X

申请日：2017-08-16

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 田中阳祐 ,  古谷勉 ,  权容铉 ,  朴重万

IPC: G02B5/30 ,  C08J7/00 ,  C08J3/28 ,  C08J3/24 ,  D06P3/58 ,  C08L29/04

Abstract: 本发明提供偏振膜的制造方法及制造装置，其能够得到光学特性和耐久性均优异的偏振膜。一种偏振膜的制造方法，其为由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的方法，所述偏振膜的制造方法包括：用二色性色素对所述聚乙烯醇系树脂膜进行染色处理的染色工序，用交联剂对所述染色工序后的所述聚乙烯醇系树脂膜进行交联处理的交联工序，对所述交联工序后的所述聚乙烯醇系树脂膜照射包含红外线的电磁波的电磁波照射工序，和将照射所述电磁波后的所述聚乙烯醇系树脂膜曝露于绝对湿度为80g/m3以上的气氛的高湿处理工序。

公开(公告)号：CN107850723B

公开(公告)日：2021-08-17

申请号：CN201680045107.5

申请日：2016-08-17

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 赵天熙 ,  朴重万 ,  崔正宁 ,  权容铉 ,  竹内智康

IPC: G02B5/30 ,  H01L51/50 ,  H05B33/02

Abstract: 本发明提供一种偏振板，其包含：凹凸平均间隔(RSm)为500至5000μm、最大高度粗糙度(Rt)为100至1000nm的偏振片；形成于所述偏振片的至少一面的厚250至850nm的粘接层；以及层叠于所述粘接层上的保护膜。

公开(公告)号：CN113189692A

公开(公告)日：2021-07-30

申请号：CN202110494521.7

申请日：2016-08-17

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 赵天熙 ,  朴重万 ,  崔正宁 ,  权容铉 ,  竹内智康

IPC: G02B5/30

Abstract: 本发明提供一种偏振板，其包含：凹凸平均间隔(RSm)为500至5000μm、最大高度粗糙度(Rt)为100至1000nm的偏振片；形成于所述偏振片的至少一面的厚250至850nm的粘接层；以及层叠于所述粘接层上的保护膜。

公开(公告)号：CN106471403B

公开(公告)日：2021-03-16

申请号：CN201580034603.6

申请日：2015-06-30

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 赵天熙 ,  权惠琳 ,  朴重万 ,  武藤清

IPC: G02B5/30 ,  C09J11/04 ,  C09J11/06 ,  C09J129/04

Abstract: 本发明提供胶粘剂组合物及包含该胶粘剂组合物的偏振板。一种偏振板用胶粘剂组合物，其包含乙酰乙酰基改性聚乙烯醇系树脂、二醛类、以及水溶性螯合化合物，不包含交联调节剂，乙酰乙酰基改性聚乙烯醇系树脂的平均聚合度为1500以下。

公开(公告)号：CN108351453A

公开(公告)日：2018-07-31

申请号：CN201680062513.2

申请日：2016-11-02

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 朴重万 ,  权容铉 ,  赵天熙 ,  崔正宁 ,  矢可部公彦

IPC: G02B5/30 ,  H01L51/50 ,  H05B33/02

CPC classification number: G02B5/30 ,  H01L51/50 ,  H05B33/02

Abstract: 本发明提供一种算术平均高度(Sa)为21.0nm以下的偏振片。

公开(公告)号：CN116256831A

公开(公告)日：2023-06-13

申请号：CN202211560025.8

申请日：2022-12-06

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 曺珉赫 ,  朴重万 ,  崔正宁

IPC: G02B5/30

Abstract: 本发明提供偏振片的色调(正交色调b值)良好、以及具有经提高的交联度的偏振片的制造方法。一种偏振片的制造方法，包括：染色处理工序，将聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素进行染色；交联处理工序，用交联剂使上述染色处理工序后的聚乙烯醇系树脂膜交联；补色处理工序，使用补色用处理液对上述交联处理工序后的聚乙烯醇系树脂膜实施补色处理；以及清洗处理工序，使用清洗用处理液对补色处理后的聚乙烯醇系树脂膜实施清洗处理，并且在进行了补色处理和清洗处理中的至少任一者后，在除去附着于聚乙烯醇系树脂膜的补色用处理液或清洗用处理液前，进行将聚乙烯醇系树脂膜暴露于温度20℃以下的气氛下的冷却处理。

公开(公告)号：CN111103648B

公开(公告)日：2023-03-28

申请号：CN201911023279.4

申请日：2019-10-25

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 住田幸司 ,  武藤清 ,  宇田幸弘 ,  赵天熙 ,  崔允硕 ,  朴重万

IPC: G02B5/30

Abstract: 偏振片及其制造方法。本发明提供一种耐热性优异的偏振片。本发明的偏振片的厚度为15μm以下，锌元素的含量为0.3质量％以上且0.8质量％以下。

公开(公告)号：CN107765354B

公开(公告)日：2022-09-09

申请号：CN201710702074.3

申请日：2017-08-16

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 住田幸司 ,  赵天熙 ,  朴重万

IPC: G02B5/30 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02B5/3033 ,  G02F1/133528

Abstract: 本发明的目的是提供尽管硼含有率降低但仍然具有高光学特性的偏振膜的制造方法及其制造装置。一种偏振膜的制造方法，其是由聚乙烯醇系树脂膜制造硼含有率为2.0～3.5重量％的偏振膜的方法，包括下述工序：将前述聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素进行染色处理的染色工序；使前述染色工序后的前述聚乙烯醇系树脂膜浸渍于交联浴而进行交联处理的交联工序，所述交联浴包含含有硼化合物的交联剂的水溶液；对前述交联工序后的前述聚乙烯醇系树脂膜照射电磁波的电磁波照射工序，所述电磁波中的波长超过2μm且为4μm以下的红外线的辐射能量的比例为总辐射能量的25％以上；以及，将照射前述电磁波后的前述聚乙烯醇系树脂膜进行清洗的清洗工序。

公开(公告)号：CN114895397A

公开(公告)日：2022-08-12

申请号：CN202210489268.0

申请日：2017-08-16

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 住田幸司 ,  赵天熙 ,  朴重万

IPC: G02B5/30 ,  G02F1/1335

Abstract: 本发明的目的是提供尽管硼含有率降低但仍然具有高光学特性的偏振膜的制造方法及其制造装置。一种偏振膜的制造方法，其是由聚乙烯醇系树脂膜制造硼含有率为2.0～3.5重量％的偏振膜的方法，包括下述工序：将前述聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素进行染色处理的染色工序；使前述染色工序后的前述聚乙烯醇系树脂膜浸渍于交联浴而进行交联处理的交联工序，所述交联浴包含含有硼化合物的交联剂的水溶液；对前述交联工序后的前述聚乙烯醇系树脂膜照射电磁波的电磁波照射工序，所述电磁波中的波长超过2μm且为4μm以下的红外线的辐射能量的比例为总辐射能量的25％以上；以及，将照射前述电磁波后的前述聚乙烯醇系树脂膜进行清洗的清洗工序。