偏振膜
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107728247B

    公开(公告)日:2021-10-15

    申请号:CN201710666169.4

    申请日:2017-08-07

    Inventor: 岩田智 滨松浩

    Abstract: 本发明的目的是提供在处于反复高温和低温之类的环境下的强度得以提高的偏振膜。本发明的偏振膜的特征在于,其是以聚乙烯醇系树脂作为形成材料且具有二色性物质的偏振膜,通过广角X射线衍射法测定的方位角分布中的取向度为81.0%以上。

    偏振膜的制造方法及偏振膜

    公开(公告)号:CN107003464B

    公开(公告)日:2020-05-19

    申请号:CN201580066880.5

    申请日:2015-12-09

    Abstract: 本发明提供一种偏振膜的制造方法、偏振膜及包含偏振膜的偏振板,该制造方法包含:染色工序,其利用二色性染料将聚乙烯醇系树脂膜染色;交联工序,其利用交联剂处理染色工序后的膜;第一拉伸工序,其于上述交联工序中及/或其之前,将聚乙烯醇系树脂膜单轴拉伸;及第二拉伸工序,其将交联工序后的膜在温度40~100℃、绝对湿度40g/m3以上的高温高湿环境下进一步单轴拉伸;该偏振膜是将二色性染料吸附取向于聚乙烯醇系树脂膜而成的,且具有特定TD/MD比。

    偏振膜的制造方法及偏振膜

    公开(公告)号:CN107003464A

    公开(公告)日:2017-08-01

    申请号:CN201580066880.5

    申请日:2015-12-09

    Abstract: 本发明提供一种偏振膜的制造方法、偏振膜及包含偏振膜的偏振板,该制造方法包含:染色工序,其利用二色性染料将聚乙烯醇系树脂膜染色;交联工序,其利用交联剂处理染色工序后的膜;第一拉伸工序,其于上述交联工序中及/或其之前,将聚乙烯醇系树脂膜单轴拉伸;及第二拉伸工序,其将交联工序后的膜在温度40~100℃、绝对湿度40g/m3以上的高温高湿环境下进一步单轴拉伸;该偏振膜是将二色性染料吸附取向于聚乙烯醇系树脂膜而成的,且具有特定TD/MD比。

    荧光体及真空紫外线激发发光元件

    公开(公告)号:CN1839190A

    公开(公告)日:2006-09-27

    申请号:CN200480024019.4

    申请日:2004-08-18

    CPC classification number: C09K11/7734

    Abstract: 本发明提供一种荧光体及包括该荧光体的真空紫外线激发发光元件,所述荧光体含有从由Si及Ge构成的一组中选择的至少一种以及作为活化剂的Eu,并且对于将X射线吸收端附近结构光谱进行一阶微分而得的谱图,根据来源于Eu2+的峰的振幅a和来源于Eu3+的峰的振幅b,利用下式(1)算出的比率R在40%以上。R(%)=[a/(a+b)]×100 (1)。

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