光学膜、柔性显示装置及光学膜的制造方法

    公开(公告)号:CN110673234A

    公开(公告)日:2020-01-10

    申请号:CN201910947574.2

    申请日:2019-09-29

    Abstract: 提供光学均质性优异且在耐久性试验后显示高光学特性的光学膜、柔性显示装置及光学膜的制造方法。光学膜含重均分子量23万以上的聚酰亚胺系树脂及/或聚酰胺系树脂,将对使用光学膜由投影法得到的投影图像进行傅里叶变换而得的膜逆空间图像中彼此正交的方向h及方向v的线轮廓设为线轮廓h及线轮廓v,将对投影法中不使用光学膜地得到的背景图像进行傅里叶变换而得的背景逆空间图像中彼此正交的方向h’及方向v’的线轮廓设为线轮廓h’及线轮廓v’,将线轮廓(h-h’)的最大强度设为Ymh,将显示Ymh的频率设为Xmh,将线轮廓(v-v’)的最大强度设为Ymv,将显示Ymv的频率设为Xmv时,Ymh及Ymv均为30以下,满足以下关系,光学膜的380nm处透光率为20%以下,420nm处透光率为75%以上。(Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2<30。

    光学膜、柔性显示装置及光学膜的制造方法

    公开(公告)号:CN110673234B

    公开(公告)日:2022-07-12

    申请号:CN201910947574.2

    申请日:2019-09-29

    Abstract: 提供光学均质性优异且在耐久性试验后显示高光学特性的光学膜、柔性显示装置及光学膜的制造方法。光学膜含重均分子量23万以上的聚酰亚胺系树脂及/或聚酰胺系树脂,将对使用光学膜由投影法得到的投影图像进行傅里叶变换而得的膜逆空间图像中彼此正交的方向h及方向v的线轮廓设为线轮廓h及线轮廓v,将对投影法中不使用光学膜地得到的背景图像进行傅里叶变换而得的背景逆空间图像中彼此正交的方向h’及方向v’的线轮廓设为线轮廓h’及线轮廓v’,将线轮廓(h‑h’)的最大强度设为Ymh,将显示Ymh的频率设为Xmh,将线轮廓(v‑v’)的最大强度设为Ymv,将显示Ymv的频率设为Xmv时,Ymh及Ymv均为30以下,满足以下关系,光学膜的380nm处透光率为20%以下,420nm处透光率为75%以上。(Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2<30。

    聚酰胺酰亚胺系树脂、光学膜及柔性显示装置

    公开(公告)号:CN113227209A

    公开(公告)日:2021-08-06

    申请号:CN201980085963.7

    申请日:2019-12-24

    Abstract: 本发明提供能够制造在维持高光线透过率的同时具有高弹性模量的光学膜的聚酰胺酰亚胺系树脂、及包含该树脂的光学膜。聚酰胺酰亚胺系树脂至少具有式(1)表示的结构单元及式(2)表示的结构单元。式(1)中,Y表示可具有取代基的4价芳香族基团,X表示式(3)所示的2价有机基团。式(3)中,R1相互独立地表示氢原子、碳原子数为1~6的烷基、碳原子数为1~6的烷氧基或碳原子数为6~12的芳基,R1中包含的氢原子相互独立地可以被卤素原子取代;V表示‑O‑、二苯基亚甲基、碳原子数为1~12的直链状、支链状或脂环式的2价烃基、‑SO2‑、‑S‑、‑CO‑或者‑N(R12)‑,其中,该烃基中包含的氢原子相互独立地可以被卤素原子取代,R12表示氢原子、或可以被卤素原子取代的碳原子数为1~12的烷基。式(2)中,Z表示2价有机基团,X与前述式(1)中的定义相同。

    光学膜和使用该光学膜的柔性设备

    公开(公告)号:CN107356998B

    公开(公告)日:2021-04-23

    申请号:CN201710311660.5

    申请日:2017-05-05

    Abstract: 本发明涉及用于含有聚酰亚胺系高分子等的柔性设备构件的前面板等的光学膜,在吸湿特性的提高、高的透明性、少的着色和充分的紫外线吸收能力的方面谋求改善。本发明公开了一种光学膜,含有聚酰亚胺系高分子和/或聚酰胺以及紫外线吸收剂。光学膜的光线透射率在380nm为5%以下,在420nm下为80%以上。

Patent Agency Ranking