-
公开(公告)号：CN112262007B
公开(公告)日：2023-06-02
申请号：CN201980038508.1
申请日：2019-06-26
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
Abstract: 该切削工具具有基材和被覆基材的表面的覆膜。覆膜包括多层结构层，其中一个以上的A层和B层各自以交替的方式从基材侧向表面侧进行堆叠。A层的平均组成为AlxCr(1‑x)N，B层包含AlyTi(1‑y)N，A层包括畴区域和基体区域，畴区域作为分布在基体区域中的多个部分而存在，基体区域被配置为围绕构成畴区域的多个部分中的每一个，并且畴区域中的Cr组成比大于基体区域中的Cr组成比。x的范围为0.5≤x≤0.8，并且y的范围为0.5≤y≤0.7。
-
公开(公告)号：CN113874144A
公开(公告)日：2021-12-31
申请号：CN202080037997.1
申请日：2020-07-16
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
IPC: B23B27/14 , C04B35/5831 , C04B41/87 , C23C14/06
Abstract: 一种切削工具，由立方氮化硼烧结体构成的基材、以及设置在所述基材上的覆膜构成，所述覆膜包括MAlN层，所述MAlN层中的M表示包括钛、铬、或二者的金属元素，所述MAlN层含有立方晶型的MxAl1‑xN的晶粒，所述MxAl1‑xN中的金属元素M的原子比x为0.3以上0.7以下，所述立方氮化硼的含有比例为20体积％以上，在通过电子背散射衍射图像分析对以包含后刀面的法线的平面切断所述MAlN层时的剖面确定所述MxAl1‑xN的晶粒的各自的结晶方位的情况下，在所述后刀面的所述MAlN层中，(111)面的法线方向相对于所述后刀面的法线方向为25°以内的所述MxAl1‑xN的晶粒所占面积的比例为45％以上且小于75％，所述MAlN层的残余应力为‑2GPa以上‑0.1GPa以下。
-
公开(公告)号：CN109070235B
公开(公告)日：2020-04-07
申请号：CN201780024349.0
申请日：2017-03-03
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
Abstract: 表面被覆切削工具具有基材和在基材的表面上形成的覆膜。覆膜包括交替层。交替层包括具有第一组成的第一层和具有第二组成的第二层。交替层通过交替地层叠一个或多个第一层以及一个或多个第二层而构成。第一层和第二层各自的厚度为2nm至100nm(含端点)。第一组成由TiaAlbSicN(其中0.25≤a≤0.45，0.55≤b≤0.75，0≤c≤0.1并且(a+b+c)＝1)表示。第二组成由TidAleSifN(其中0.35≤d≤0.55，0.45≤e≤0.65，0≤f≤0.1并且(d+e+f)＝1)表示。第一组成和第二组成满足0.05≤(d‑a)≤0.2和0.05≤(b‑e)≤0.2。
-
公开(公告)号：CN107848040B
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201780001560.0
申请日：2017-03-02
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
Abstract: 表面被覆切削工具具有基材和形成在所述基材的表面上的覆膜。该覆膜包括第一交替层和形成在所述第一交替层上的第二交替层。该第一交替层包括第一层和第二层，该第二交替层包括第三层和第四层。一个或多个所述第一层和一个或多个所述第二层交替层叠，一个或多个所述第三层和一个或多个所述第四层交替层叠。所述第一层由AlaCrbM11‑a‑b的氮化物或碳氮化物组成，所述第二层由AlcTidM21‑c‑d的氮化物或碳氮化物组成，所述第三层由AleTifM31‑e‑f的氮化物或碳氮化物组成，以及所述第四层由AlgTihM41‑g‑h的氮化物或碳氮化物组成。M1、M2、M3和M4是选自由Si、B、以及元素周期表中的除了Cr和Ti之外的第4族元素、第5族元素和第6族元素构成的组中的一种或多种元素。
-
公开(公告)号：CN109070235A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201780024349.0
申请日：2017-03-03
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
Abstract: 表面被覆切削工具具有基材和在基材的表面上形成的覆膜。覆膜包括交替层。交替层包括具有第一组成的第一层和具有第二组成的第二层。交替层通过交替地层叠一个或多个第一层以及一个或多个第二层而构成。第一层和第二层各自的厚度为2nm至100nm(含端点)。第一组成由TiaAlbSicN(其中0.25≤a≤0.45，0.55≤b≤0.75，0≤c≤0.1并且(a+b+c)＝1)表示。第二组成由TidAleSifN(其中0.35≤d≤0.55，0.45≤e≤0.65，0≤f≤0.1并且(d+e+f)＝1)表示。第一组成和第二组成满足0.05≤(d-a)≤0.2和0.05≤(b-e)≤0.2。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105473261B
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580001606.X
申请日：2015-05-19
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
CPC classification number: B23B27/148 , B23B51/00 , B23B2224/00 , B23B2228/105 , B23C5/16 , B23C2224/00 , B23C2228/10 , C23C14/022 , C23C14/024 , C23C14/06 , C23C14/0641 , C23C14/325 , C23C28/042 , C23C28/044 , C23C28/42
Abstract: 本发明提供了一种表面被覆工具(100)，其具有基材(101)和形成在所述基材(101)上的覆膜(110)。所述覆膜(110)包括交替层(112)，其中一层或多层A层(112a)和一层或多层B层(112b)交替地层叠。所述A层(112a)和所述B层(112b)各自的厚度为2nm‑100nm。所述A层(112a)的平均组成表示为TiaAlbSicN(0.5
-
公开(公告)号：CN101090790A
公开(公告)日：2007-12-19
申请号：CN200580045233.2
申请日：2005-12-26
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
CPC classification number: C23C30/005 , B23P15/28 , C23C14/0641 , Y10T428/24975 , Y10T428/265
Abstract: 本发明提供一种涂覆切削工具(1)及其制造方法。所述涂覆切削工具(1)包括基体材料(2)和在基体材料(2)表面上形成的涂层(3)。涂层(3)包括交替层(13)，交替层(13)具有彼此交替层叠的A层(12)和B层(15)中的至少各一层。A层(12)由含有Al和Cr的氮化物形成，并且当构成A层(12)的金属原子的总数表示为1时，Cr原子数的比例大于0并且不大于0.4。B层(15)由含有Ti和Al的氮化物形成，并且当构成B层(15)的金属原子的总数表示为1时，Al原子数的比例大于0并且不大于0.7。
-
公开(公告)号：CN113853265B
公开(公告)日：2024-03-01
申请号：CN202080037659.8
申请日：2020-07-16
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
IPC: B23B27/14 , C04B35/5831 , C23C14/06
Abstract: 下。一种切削工具，包括前刀面和后刀面，所述切削工具由立方氮化硼烧结体构成的基材、以及设置在所述基材上的覆膜构成，所述立方氮化硼烧结体含有立方氮化硼，所述覆膜包括MAlN层，所述MAlN层中的M表示包括钛、铬、或二者的金属元素，所述MAlN层含有立方晶型的MxAl1‑xN的晶粒，所述MxAl1‑xN中的金属元素M的原子比x为0.3以上0.7以下，所述立方氮化硼相对于所述立方氮化硼烧结体的含有比例为20体积％以上，在以包含所述后刀面的法线的平面切断所述MAlN层时的剖面中，将所述后刀面中所述MAlN层的每100μm长度中的空隙的数量设为nF；并且在以包含所述前刀面的法线的平面切断所述MAlN层时的剖面中，将所述前刀面中所述MAlN层的每100μm长度中的空隙的数量设为nR，在这种情况下，满足nF＜nR，在以包含所述后刀面的法线的平面
-
公开(公告)号：CN112368094B
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN201980039905.0
申请日：2019-03-08
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
Abstract: 一种表面被覆切削工具，包括基材和设置在基材的表面上的膜，其中：膜包括设置在基材上的第一交替层和设置在第一交替层上的第二交替层；第一交替层包括A层和B层；第二交替层包括C层和D层；一个以上的A层和B层以交替的方式层叠；一个以上的C层和D层以交替的方式层叠；A层包含AlaCrbM1(1‑a‑b)的氮化物或碳氮化物；B层包含AlcTidM2(1‑c‑d)的氮化物或碳氮化物；C层包含TieSifM3(1‑e‑f)的氮化物或碳氮化物；并且D层包含TigSihM4(1‑g‑h)的氮化物或碳氮化物。
-
公开(公告)号：CN111526956B
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN201880084644.X
申请日：2018-10-30
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
Abstract: 该表面被覆切削工具包括基材和被覆基材的覆层，覆层包括由彼此交替层叠的第一单元层和第二单元层获得的交替层。第一单元层中包含含有铝和锆的氮化物，并且在第一单元层中，如果将构成第一单元层的金属原子的总数定义为1时，那么锆原子数的比率为0.65至0.95，包括端值。第二单元层中包含含有钛和硅的氮化物，并且如果将构成第二单元层的金属原子的总数定义为1时，那么硅原子数的比率大于0并且为0.20以下。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
49
records
(took 0.052 seconds)
