公开(公告)号：CN118832960A

公开(公告)日：2024-10-25

申请号：CN202410471575.5

申请日：2024-04-19

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 大塚学

IPC: B41J2/14

Abstract: 一种液体排出头包括：接合基板，所述接合基板包括通过粘合剂彼此接合的第一基板和第二基板。第一基板的要与第二基板接合的第一表面被构造成具有多个第一开口、第一凹部和第二凹部，每个第一开口被构造成用作液体通道，第一凹部能够保持粘合剂，第二凹部被构造成具有比第一凹部大的开口面积并且能够保持粘合剂；在所述多个第一开口中的相邻的两个第一开口之间的区域中，布置所述第一凹部；并且第二凹部布置在第一开口与第一基板的外边缘之间的区域中。

公开(公告)号：CN107031189B

公开(公告)日：2019-08-27

申请号：CN201710014595.X

申请日：2017-01-06

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 奥岛真吾 ,  青木孝纲 ,  刈田诚一郎 ,  永井议靖 ,  佐藤环树 ,  石川哲史 ,  富永康亮 ,  大塚学 ,  岩永周三 ,  森达郎 ,  山田和弘 ,  山本辉 ,  为永善太郎 ,  斋藤昭男

IPC: B41J2/16 ,  B41J2/14

Abstract: 提供一种能够抑制压力室的压力变化的液体喷出头、液体喷出设备及制造方法。因此，在晶圆状的元件基板上形成盖构件，将该元件基板切割成芯片以制造打印元件基板。

公开(公告)号：CN107031189A

公开(公告)日：2017-08-11

申请号：CN201710014595.X

申请日：2017-01-06

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 奥岛真吾 ,  青木孝纲 ,  刈田诚一郎 ,  永井议靖 ,  佐藤环树 ,  石川哲史 ,  富永康亮 ,  大塚学 ,  岩永周三 ,  森达郎 ,  山田和弘 ,  山本辉 ,  为永善太郎 ,  斋藤昭男

IPC: B41J2/16 ,  B41J2/14

Abstract: 提供一种能够抑制压力室的压力变化的液体喷出头、液体喷出设备及制造方法。因此，在晶圆状的元件基板上形成盖构件，将该元件基板切割成芯片以制造打印元件基板。

公开(公告)号：CN103035853A

公开(公告)日：2013-04-10

申请号：CN201210375193.X

申请日：2012-09-29

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 大塚学 ,  广木知之

IPC: H01L51/56 ,  H01L21/77

CPC classification number: H01L51/0018 ,  H01L27/3211 ,  H01L51/5253 ,  H01L51/56

Abstract: 一种制造有机发光设备的方法，包括：在具有有机平坦化层的基板上形成抗蚀刻保护层的步骤，在抗蚀刻保护层上形成多个电极的步骤，在具有多个电极的基板上形成有机化合物层的步骤，使用光刻法在形成在多个电极中的部分电极上的有机化合物层上形成抗蚀剂层的步骤，以及通过干蚀刻除去在不覆盖有抗蚀剂层的区域中的有机化合物层的步骤，其中，在上面执行了直到形成多个电极的步骤的各个步骤的基板上的有机平坦化层的全部表面被覆盖有抗蚀刻保护层和电极这两者中的至少一个。

公开(公告)号：CN101296537A

公开(公告)日：2008-10-29

申请号：CN200810093544.1

申请日：2008-04-25

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 德永雄三 ,  大塚学 ,  真下精二 ,  远藤太郎 ,  西田直哉

IPC: H05B33/10 ,  H05B33/22 ,  H05B33/14

Abstract: 本发明公开一种制造有机发光设备的方法，所述有机发光设备包括基底、形成在所述基底上的有机发光器件、以及形成在所述有机发光器件的外周上的器件分离膜，所述有机发光器件从基底侧依次包括下电极、有机化合物层、以及上电极，所述方法包括：通过在10Pa或更高～10000Pa或更低的范围内的压力下，在将至少包含氧气的气体引入气体环境中并且排出所述气体的同时，用UV光照射至少具有下电极和所述下电极上形成的器件分离膜的基底，从而清洁所述基底；在清洁后的下电极上形成有机化合物层；以及在所述有机化合物层上形成上电极。