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公开(公告)号：CN103975278A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201280060712.1
申请日：2012-11-01
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03G9/16 , C08G77/12 , C08G77/20 , C08K3/04 , C08L2203/20 , C09D183/04 , G03G15/0818 , C08L83/00 , C08L83/04
Abstract: 提供具有较少不均匀状态的残留电荷的导电性构件。该导电性构件设置有具有导电性表面的基材和设置在基材上的导电性弹性层。弹性层通过将包含下述组分(A)-(D)的混合物固化而获得。(A)具有至少两个各自键合至硅原子的乙烯基的有机聚硅氧烷，(B)由以下化学结构式(1)表示的有机聚硅氧烷，(C)具有至少两个氢硅烷基的氢聚硅氧烷，(D)炭黑(化学结构式(1)中，l、m和n各自独立地表示正整数)。
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公开(公告)号：CN111796499B
公开(公告)日：2023-09-08
申请号：CN202010249854.9
申请日：2020-04-01
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及显影辊、处理盒和电子照相图像形成设备。本发明提供抑制感光构件的表面的污染，并且还获得高品质图像的显影辊。显影辊包括依次层压的导电性基体、导电性弹性层和表面层，其中表面层具有分散在聚氨酯基质中的树脂颗粒，表面层的外表面具有源于第一树脂颗粒的第一凸部和源于第二树脂颗粒的第二凸部，其中第一树脂颗粒包含聚氨酯，第一树脂颗粒的弹性模量E1为100至2000MPa，第二树脂颗粒的弹性模量E2为2至50MPa，外表面的最大高度粗糙度Rz为6至18μm，和峰顶点密度Spd为5.0×103至5.0×104(1/mm2)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111948923B
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN202010407938.0
申请日：2020-05-14
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及显影辊、处理盒和电子照相图像形成设备。一种显影辊，即使其在高温高湿环境下长时间使用时，也能够使电子照相图像的图像浓度保持均匀。显影辊包括导电性的芯轴和在芯轴上的导电层，具有由至少电绝缘性的第一区域和导电性比第一区域的更高的第二区域构成的外表面，第一区域配置为与第二区域相邻，第一区域配置在导电层的外表面上，第一区域的在其外表面测量的维氏硬度为10.0以上，并且第一区域的通过压痕断裂法在其外表面测量的断裂韧性值为800Pa·m0.5以上。
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公开(公告)号：CN116165859A
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN202211496680.1
申请日：2022-11-24
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及电子照相用构件和生产该构件的方法、处理盒和电子照相图像形成设备。提供一种电子照相用构件，其包括：具有导电性的基体；和在基体上形成的单层表面层。表面层具有包含交联树脂作为粘结剂的基质，并且保持包含具有离子交换能力的无机层状化合物的至少一个颗粒以使至少一个颗粒的至少一部分从表面层的外表面露出。在沿表面层的厚度方向的截面中从表面层的外表面至0.1μm深度的区域中测得的基质的弹性模量为200MPa以上。
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公开(公告)号：CN111752126B
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN202010223203.2
申请日：2020-03-26
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G15/08
Abstract: 本发明涉及电子照相用构件、处理盒和电子照相图像形成设备。所述电子照相用构件包括：导电性基体；和具有单层结构的表面层，其中所述表面层具有含有交联聚氨酯树脂作为粘结剂的基质，和在沿厚度方向从所述表面层的外表面至距离所述表面层的外表面0.1μm的深度的第一区域中所述基质的弹性模量定义为E1，且在沿厚度方向从距离所述表面层的外表面1.0μm的深度至距离所述表面层的外表面1.1μm的第二区域中所述基质的弹性模量定义为E2时，E1和E2分别满足下式(1)和(2)：E1≥200MPa(1)；和10MPa≤E2≤100MPa(2)。
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公开(公告)号：CN103765323B
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201280040934.7
申请日：2012-08-02
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G15/08
CPC classification number: G03G15/0818 , G03G2215/0129 , Y10T428/31598 , Y10T428/31663
Abstract: 提供较少发生压缩永久变形的显影构件。所述显影构件包括基体；设置于所述基体上的弹性层；和设置于所述弹性层上的覆盖层，其中所述弹性层包含含有下列(A)至(D)的混合物的固化物：(A)在一分子中含有键合至硅原子的两个以上的乙烯基、并且在25℃下的粘度为10Pa·s-100Pa·s的有机聚硅氧烷；(B)由SiO4/2构成单元和R1R2R3SiO1/2构成单元组成、并且在一分子中含有键合至硅原子的两个以上的乙烯基的有机聚硅氧烷，其中R1、R2和R3各自为甲基或乙烯基；(C)在一分子中含有键合至硅原子的两个以上的氢原子的有机氢聚硅氧烷；和(D)炭黑。
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公开(公告)号：CN103765323A
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201280040934.7
申请日：2012-08-02
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G15/08
CPC classification number: G03G15/0818 , G03G2215/0129 , Y10T428/31598 , Y10T428/31663
Abstract: 提供较少发生压缩永久变形的显影构件。所述显影构件包括基体；设置于所述基体上的弹性层；和设置于所述弹性层上的覆盖层，其中所述弹性层包含含有下列(A)至(D)的混合物的固化物：(A)在一分子中含有键合至硅原子的两个以上的乙烯基、并且在25℃下的粘度为10Pa·s-100Pa·s的有机聚硅氧烷；(B)由SiO4/2构成单元和R1R2R3SiO1/2构成单元组成、并且在一分子中含有键合至硅原子的两个以上的乙烯基的有机聚硅氧烷，其中R1、R2和R3各自为甲基或乙烯基；(C)在一分子中含有键合至硅原子的两个以上的氢原子的有机氢聚硅氧烷；和(D)炭黑。
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