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公开(公告)号：CN104114351A
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：CN201380009328.3
申请日：2013-02-11
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司
IPC: B29D11/00
CPC classification number: B29D11/00644 , B29D11/0073 , Y10T156/1052
Abstract: 一种制造偏振光学器件(82)的方法以及所得到的光学器件。在这种方法中，用一种粘合剂(82c)涂覆一个光学器件(82a)。将一个PVA偏振膜(82b)给湿以使得它可成形。将该PVA偏振膜层压到该粘合剂层上，使得该PVA偏振膜成形为该光学器件的形状。然后将该膜、粘合剂、器件整体进行热退火。然后使该PVA偏振膜与一种硼酸溶液接触以将该PVA交联，使得它可以耐受使用和另外的处理。一个偏振光学器件包括安置在一个光学基本元件与一个PVA偏振膜之间的一种粘合剂。
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