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公开(公告)号:CN100338783C
公开(公告)日:2007-09-19
申请号:CN03155529.2
申请日:2003-08-28
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L31/103
Abstract: 本发明公开了一种光接收元件及其制造方法以及具有内建电路的光接收元件,其中该元件包括:衬底;以及,外延层,设置在衬底上并包括从外延层的表面延伸至预定深度的杂质扩散层。该预定深度为小于等于约0.3μm。杂质扩散层包括浓度小于约1×1020cm-3的杂质。其中光接收元件执行具有大于等于约390nm但小于等于约420nm的波长的光的光电转换。以及外延层为具有大于等于约100Ωcm的电阻率的高电阻率层,或者具有大于等于约100Ωcm的电阻率的高电阻率层设置在衬底与外延层之间,从而接触杂质扩散层接近衬底的表面。
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公开(公告)号:CN1447445A
公开(公告)日:2003-10-08
申请号:CN03120928.9
申请日:2003-03-21
CPC classification number: H01L31/02024 , H01L21/761 , H01L21/76202 , H01L21/763 , H01L27/0203 , H01L27/1446
Abstract: 在具有由第一导电类型半导体构成的表面层的下层衬底上形成第一层。第一层由电阻高于下层衬底表面层电阻的半导体构成。在第一层的部分表面区中形成第二导电类型的第一杂质扩散区。第一杂质扩散区没有到达下层衬底的表面。在第一层中设置第一导电类型的第二杂质扩散区且在面内方向上与第一杂质扩散区隔开一定的距离。第二杂质扩散区到达下层衬底的表面。在第一和第二杂质扩散区之间设置分隔区。分隔区包括在第一层中形成的沟槽和至少在沟槽部分内部区域中设置的介电材料。
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