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公开(公告)号：CN1126653C
公开(公告)日：2003-11-05
申请号：CN00801985.1
申请日：2000-09-12
Applicant: 日本板硝子株式会社
CPC classification number: C09D183/08 , B29C33/42 , B29C39/10 , B29D11/00663 , B29L2011/0075 , G02B6/138
Abstract: 提供可以低成本地制造具有耐热性、耐试剂性及尺寸精度优良的规定表面形状的物品、以及耐热性、耐试剂性强、折射率大，在近红外区域的通信波长的吸收小，满足可信度及在光通讯区域的低损失的光波导以及其制造方法。将溶胶凝胶材料密接于基材和成形模之间膜状配置，然后加热具有转印所述成形模的表面形状的形状的表面的凝胶化膜包覆于基材表面，得到具有规定表面形状的物品的制造方法。所述溶胶凝胶材料含有二烷基二烷氧基硅烷(或二烷基二卤素硅烷)、及芳基或取代芳基三烷氧基硅烷(或芳基或取代芳基三卤代硅烷)中的至少一种，并且含有氟代烷基三烷氧基硅烷(或氟代烷基三卤硅烷)，由此可以利用上述方法制造具有规定表面形状的物品。
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公开(公告)号：CN1404436A
公开(公告)日：2003-03-19
申请号：CN01805503.6
申请日：2001-12-19
Applicant: 日本板硝子株式会社
IPC: B29C39/10 , C08J5/00 , C08F299/08 , B29K83/00 , C08L101/00
CPC classification number: B29C39/148 , B29C39/10 , C08F283/12 , C08F299/08 , C08G77/20 , C08L51/085 , C09D183/04 , Y10T428/24479 , Y10T428/31612 , Y10T428/31663
Abstract: 提供一种耐热性高、成膜时热收缩小尺寸精度高且有微小凹凸表面的光学元件之类的具有特定表面形状的物品及其制造方法。其特征在于：组合物含有分子内至少具有3个重复单元的二甲基硅氧烷骨架结构，以及至少含有一个聚合性有机基团的化合物，使该组合物在基材表面和成形模的成形表面间以紧密结合膜状配置，然后赋予其热和紫外线的至少一种，最后分离成形模，其后必要时进行加热，制得有成形模表面形状翻转后形状的表面的膜被覆在基材表面的具有特定表面形状的物品。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1201916C
公开(公告)日：2005-05-18
申请号：CN02800188.5
申请日：2002-01-25
Applicant: 日本板硝子株式会社
CPC classification number: B29C41/20 , B29C33/42 , B29C33/424 , B29C33/56 , B29C41/12 , B29C41/38 , B29K2105/0061 , B29L2011/00 , B29L2017/005
Abstract: 一种脱模性优良、表面形状精度高地涂覆物品的高效制造方法。该方法中，将成形模的成形表面向上保持水平，在该成形表面上供给溶胶凝胶材料液，形成膜状，加热，然后，使基材与前述膜接触，再加热，其后脱成形模，必要时再加热，形成基材表面涂覆有成形模的成形表面形状翻转的表面的凝胶化膜，得到有特定表面形状的物品。该方法特征在于，沿前述成形模的成形表面的外周部分，比前述成形模的成形表面低的位置设有溶胶凝胶材料液的膜边缘部分维持区域，将前述溶胶凝胶材料液供给前述溶胶凝胶的成形表面，使前述溶胶凝胶材料液的膜边缘部分超过前述成形模的成形表面，到达前述膜边缘部分维持的区域形成前述膜。
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公开(公告)号：CN1457293A
公开(公告)日：2003-11-19
申请号：CN02800439.6
申请日：2002-02-22
IPC: B32B9/00 , C03C17/25 , G02B1/10 , G02B3/00 , C09D183/02 , C09D183/04 , C09D185/00
CPC classification number: G02B1/10 , C03C17/25 , C03C2217/23 , C03C2218/113 , C08G79/00 , C08L85/00 , C09D183/04 , C09D183/14 , C09D185/00 , G02B3/0031
Abstract: 提供一种具有规定表面形状的物品，其在基材表面上涂覆高折射率、优良的耐热性、高膜硬度和优良的转印性的凝胶化膜；以及一种具有规定表面形状的物品的制造方法，该方法为：将溶胶凝胶材料在基材和成型模之间紧密粘合，呈膜状配置，然后加热，用有转印表面的膜涂覆在基材表面。前述溶胶凝胶材料含有M1Xm表示的金属化合物、其水解物或其水解缩聚物，和R1M2Yn表示的金属化合物、其水解物或其水解缩聚物，M1和M2的至少一方为Ti、Zr、Al、Ge、Sn或Sb的金属原子，上述金属原子至少占M1和M2总量的10原子％。
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公开(公告)号：CN1124920C
公开(公告)日：2003-10-22
申请号：CN00801345.4
申请日：2000-07-06
Applicant: 日本板硝子株式会社
CPC classification number: G02B3/0006 , G02B5/1852 , Y10T428/31507 , Y10T428/31612 , Y10T428/31663
Abstract: 提供一种包覆有耐热性强、不产生裂化而且和基材不剥离的膜的具有微细凹凸表面的物品的制造方法。一种制造方法。将含非水解性的有机基团及水解性基团的特定的硅烷化合物(A)、含水解性基团的特定的硅烷化合物(B)及含有催化剂的原溶液水解，并且使其进行脱水缩聚反应，将得到的形成膜用液密接于基材和成形模之间，膜状配置，然后，加热，将具有使所述成形模的表面形状翻转的形状的凹凸膜包覆在基材表面上，制成物品；所述形成膜用液其中对于所述原溶液中的所述硅烷化合物(A)及(B)的含量，分别含有0.5～40重量%及0.5～60重量%的未水解物的形态中的所述硅烷化合物(A)及(B)。并且，所述形成膜用液中的所述脱水缩聚反应生成的缩聚物分子量为300～1,900。本发明涉及在表面具有微细的凹凸形状的物品、特别是微小光学元件及其信息记录媒体基板、其制造方法及其使用的混合组合物。
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公开(公告)号：CN1319191A
公开(公告)日：2001-10-24
申请号：CN00801600.3
申请日：2000-08-01
Applicant: 日本板硝子株式会社
CPC classification number: G02B6/138 , G02B1/04 , G02B5/1814 , G02B5/1852 , C08L83/04
Abstract: 提供一种可以低成本制造且耐热性优良的阶梯状衍射光栅,和耐热性高、对近红外区的通信波长吸收少、可满足可靠性和光通信波段的低损失的要求的光波导。该阶梯状衍射光栅,由在基板及其表面上形成的1μm～1mm厚的有机聚硅氧烷膜构成,该有机聚硅氧烷膜上形成有多个具有1μm～500μm范围内的预定宽度和5～500μm范围内的预定高度的阶梯,上述有机聚硅氧烷膜以下式(1)表示的二甲基硅氧烷和下式(2)表示的苯基硅氧烷为主要成分,(CH3)2SiO2/2…(1)；PhSiO3/2…(2)其中P是苯基或取代苯基。
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公开(公告)号：CN1316946A
公开(公告)日：2001-10-10
申请号：CN00801345.4
申请日：2000-07-06
Applicant: 日本板硝子株式会社
CPC classification number: G02B3/0006 , G02B5/1852 , Y10T428/31507 , Y10T428/31612 , Y10T428/31663
Abstract: 提供一种包覆有耐热性强、不产生裂化而且和基材不剥离的膜的具有微细凹凸表面的物品的制造方法。一种制造方法。将含非水解性的有机基团及水解性基团的特定的硅烷化合物(A)、含水解性基团的特定的硅烷化合物(B)及含有催化剂的原溶液水解，并且使其进行脱水缩聚反应，将得到的形成膜用液密接于基材和成形模之间，膜状配置，然后，加热，将具有使所述成形模的表面形状翻转的形状的凹凸膜包覆在基材表面上，制成物品；所述形成膜用液其中对于所述原溶液中的所述硅烷化合物(A)及(B)的含量，分别含有0.5～40重量%及0.5～60重量%的未水解物的形态中的所述硅烷化合物(A)及(B)。并且，所述形成膜用液中的所述脱水缩聚反应生成的缩聚物分子量为300～1,900。本发明涉及在表面具有微细的凹凸形状的物品、特别是微小光学元件及其信息记录媒体基板、其制造方法及其使用的混合组合物。
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