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公开(公告)号：CN102960068A
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN201280001748.2
申请日：2012-04-09
Applicant: 松下电器产业株式会社
Inventor： 中谷修平
CPC classification number: H01L51/5203 , H01L27/3246 , H01L27/3283 , H01L51/56 , H05B33/10
Abstract: 本发明提供即使在线状隔堤间形成发光层的情况下，也能够抑制有机发光层涂覆不均引起的亮度不均或发光颜色不均的产生的、显示质量良好的有机电致发光显示面板及其制造方法。本发明在有机发光层上且以覆盖像素电极的边缘的方式形成成为有机发光层的涂覆不均的原因的绝缘层。能够抑制有机发光层的膜形状不均，从而能够提供和制造亮度不均或发光颜色不均少的显示质量优异的有机电致发光显示面板。另外，能够提供和制造防止了像素电极与对置电极之间的短路的有机电致发光显示面板。
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公开(公告)号：CN101855742B
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN200880115678.7
申请日：2008-12-02
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: H01L51/50 , H01L29/786 , H01L51/05 , H05B33/10 , H05B33/22
CPC classification number: H01L51/0029 , H01L27/3246 , H01L51/0025 , H01L51/0059 , H01L51/5088 , H01L51/56 , H01L2251/308
Abstract: 本发明涉及具备空穴传输层的有机EL器件的制造方法，所述空穴传输层具有平坦且未被污染的表面。本发明的制造方法包括：在基板上形成阳极的步骤；在所述阳极上形成空穴传输层的步骤；在所述基板和所述空穴传输层之上形成无机膜的步骤；在所述无机膜上形成隔堤以使形成在所述空穴传输层上的所述无机膜的至少一部分露出的步骤；将所述隔堤作为掩膜，对所述露出的无机膜进行蚀刻，使所述空穴传输层露出的步骤；以及在所述露出的空穴传输层上涂敷有机发光材料，形成有机发光层的步骤。另外，所述空穴传输层含有氧化钨或氧化钼。
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公开(公告)号：CN101689559B
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN200980000554.9
申请日：2009-06-02
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: H01L51/0005 , H01L27/3246 , H01L27/3283
Abstract: 有机电致发光显示屏包括：基板；第一隔堤，配置在所述基板上呈线状，并且规定线状的区域；第二隔堤，规定排列在所述线状的区域内的两个以上的像素区域；像素电极，配置在所述像素区域；线状的有机层，配置在所述线状的区域内，并且通过涂敷法形成在所述像素区域和所述第二隔堤上；以及对向电极，配置在所述有机层上，所述第一隔堤的高度高于所述第二隔堤的高度，所述第一隔堤和第二隔堤的材料为树脂，所述第一隔堤的顶点的苯甲醚的接触角为30°～60°，所述第二隔堤的顶点的苯甲醚的接触角为5°～30°。
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公开(公告)号：CN101855742A
公开(公告)日：2010-10-06
申请号：CN200880115678.7
申请日：2008-12-02
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: H01L51/50 , H01L29/786 , H01L51/05 , H05B33/10 , H05B33/22
CPC classification number: H01L51/0029 , H01L27/3246 , H01L51/0025 , H01L51/0059 , H01L51/5088 , H01L51/56 , H01L2251/308
Abstract: 本发明涉及具备空穴传输层的有机EL器件的制造方法，所述空穴传输层具有平坦且未被污染的表面。本发明的制造方法包括：在基板上形成阳极的步骤；在所述阳极上形成空穴传输层的步骤；在所述基板和所述空穴传输层之上形成无机膜的步骤；在所述无机膜上形成隔堤以使形成在所述空穴传输层上的所述无机膜的至少一部分露出的步骤；将所述隔堤作为掩膜，对所述露出的无机膜进行蚀刻，使所述空穴传输层露出的步骤；以及在所述露出的空穴传输层上涂敷有机发光材料，形成有机发光层的步骤。另外，所述空穴传输层含有氧化钨或氧化钼。
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