光信息存储媒体的原盘制造方法

    公开(公告)号:CN1573998A

    公开(公告)日:2005-02-02

    申请号:CN200410047691.7

    申请日:2004-05-26

    CPC classification number: G11B7/261 G11B7/24 G11B7/24076 G11B7/24085 G11B7/263

    Abstract: 本发明涉及光信息存储媒体的原盘制造方法,它利用热模式记录法,使用由基板(101)、因曝光状态发生变化的感热材料层(102)以及与感热材料层相接触配置的至少有一层的记录辅助层(103)所构成的记录原盘,通过任意的选择记录辅助层的热传导率、光学常数以及厚度等,用热学或光学的方法来控制感热材料层的曝光状态,从而容易的控制形成在原盘上的凹凸图形的截面形状。

    液体材料的涂布方法及其树脂层形成法

    公开(公告)号:CN1429664A

    公开(公告)日:2003-07-16

    申请号:CN02160492.4

    申请日:2002-12-27

    CPC classification number: G11B7/266 B05C11/08

    Abstract: 一种在平板上形成树脂层的方法,包括:(1)在平板(102)的第1主面(112)上涂布作为液体材料的光硬化性树脂组成物(110);(2)然后通过将光硬化性树脂组成物曝光而硬化、形成树脂层,光硬化性树脂组成物的涂布是通过将平板的侧面与导向构件(103、104)大致接触、并使导向构件的上面(114、120)位于相对平板的第1主面大致同一的水平面,在将平板配置于载物台上的状态下进行旋转涂布,而在平板的第1主面涂布光硬化性树脂组成物,形成向导向构件的上面和平板的第1主面延伸的涂膜,将该涂膜曝光。由此,通过旋转涂布可使形成的涂膜厚度均匀化,使最终形成的树脂层的厚度均匀化。

    光信息记录介质用母盘的制造方法、该母盘的圆盘

    公开(公告)号:CN1591633A

    公开(公告)日:2005-03-09

    申请号:CN200410068340.4

    申请日:2004-08-31

    CPC classification number: G11B7/263 G11B7/24 G11B7/261

    Abstract: 一种光信息记录介质用母盘的制造方法,包括:通过曝光使具有蚀刻层(102)以及形成在蚀刻层(102)上的光致抗蚀剂层(103)的原盘的光致抗蚀剂层(103)的特定部分(104)的结晶状态发生变化的工序;去除特定部分(104)的工序;去除与在光致抗蚀剂层(103)的去除部分重叠的部分蚀刻层(102)的工序;去除光致抗蚀剂层(103),形成导电膜(105)的工序;以导电膜(105)作为电极进行电铸的工序;从导电膜(105)剥离蚀刻层(102)的工序。

    光记录再生方法、光记录再生装置、程序和光记录介质

    公开(公告)号:CN101978422B

    公开(公告)日:2012-09-05

    申请号:CN200980109584.3

    申请日:2009-02-24

    Abstract: 若使用将记录再生光并用于倾斜伺服的SIL光学系统,则在倾斜伺服开始前SIL和光记录介质碰撞的可能性高。如下可避免该碰撞。光记录再生方法实施以下伺服,即,间隙伺服,利用由来自SIL的底面的光在光记录介质反射所得到的反射光,对光记录介质的表面和SIL的底面之间的间隙进行控制;聚焦伺服,对光的焦点和SIL的底面之间的距离进行控制;倾斜伺服,利用所述反射光控制所述SIL的底面相对于所述光记录介质的表面的倾斜。并且,光记录再生方法顺次进行以下工序。(A)在间隙比进行光记录再生时要大的状态下开始间隙伺服,并且使焦点从SIL的底面向光记录介质侧移动的工序;(B)倾斜伺服的开始的工序;(C)通过将间隙缩小而将所述SIL在既定的位置配置的工序。

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