信息记录介质及其制造方法

    公开(公告)号:CN1314028C

    公开(公告)日:2007-05-02

    申请号:CN03121628.5

    申请日:2003-03-18

    Abstract: 提供即使在记录层和电介质层之间不设置界面层,也能够确保高可靠性和良好的反复重写性能的信息记录介质。本发明的信息记录介质,在基片(1)的表面形成记录层(4)及电介质层(2)和(6),记录层(4)通过光照射或施加电能在结晶相和非结晶相之间产生相变,电介质层(2)和(6)是含有选自Ti、Zr、Hf、Nb、Ta、Cr和Si构成的组GM中的至少一种元素的氧化物和、选自La、Ce、Pr、Nd、Gd、Dy、Ho、Er和Yb构成的组GL中的至少一种元素的氟化物的氧化物-氟化系材料层。

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