偏振膜及其制造方法
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114096899B

    公开(公告)日:2025-01-03

    申请号:CN202080049735.7

    申请日:2020-05-07

    Inventor: 大桥亘 辻嘉久

    Abstract: 偏振膜,其包含:聚乙烯醇(A)、选自下述式(I)所示的单有机硼酸和在水的存在下能够转化为该单有机硼酸的化合物中的至少1种含硼化合物(B)、以及选自下述式(II)所示的二有机硼酸和在水的存在下能够转化为该二有机硼酸的化合物中的至少1种含硼化合物(C),源自含硼化合物(B)的硼元素相对于源自含硼化合物(C)的硼元素的质量比(B/C)为0.8~3.0,源自含硼化合物(B)的硼元素含量相对于聚乙烯醇(A)100质量份为0.15~3.0质量份。该偏振膜在高温下的收缩力小,光学性能和耐湿热性也优异。[式(I)中,R1是碳原子数为1~20的1价脂肪族基,R1与有机硼酸基通过硼‑碳键连接]。[式(II)中,R2是碳原子数为1~20的2价脂肪族基,R2与有机硼酸基通过硼‑碳键连接]。#imgabs0#[式(I)中,R1是碳原子数为1~20的1价脂肪族基,R1与有机硼酸基通过硼‑碳键连接]。#imgabs1#[式(II)中,R2是碳原子数为1~20的2价脂肪族基,R2与有机硼酸基通过硼‑碳键连接]。

    膜
    13.
    发明公开
    审中-实审

    公开(公告)号:CN115594934A

    公开(公告)日:2023-01-13

    申请号:CN202211488893.X

    申请日:2016-01-14

    Abstract: 本发明涉及膜。本发明提供可容易地制造光学特性和降收缩方面优异的光学膜的膜,以及使用了其的光学膜的制造方法。膜,其包含含羟甲基的乙烯醇系聚合物且软化点为63℃以下,所述含羟甲基的乙烯醇系聚合物包含乙烯醇单元和下述式(1)所示的结构单元;以及,光学膜的制造方法,其具备使用该膜进行单轴拉伸的工序。

    偏振膜和其制造方法
    15.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111615654B

    公开(公告)日:2022-06-17

    申请号:CN201980010049.6

    申请日:2019-01-24

    Abstract: 偏振膜,其是包含聚乙烯醇(A)、和选自下述式(I)所示的单硼酸和能够在水的存在下转化为该单硼酸的化合物中的至少1种含硼化合物(B)的偏振膜,该偏振膜中的源自含硼化合物(B)的硼元素含量相对于聚乙烯醇(A)100质量份为0.1~3.0质量份。该偏振膜在高温下的收缩力小、而且光学性能也优异。[式(I)中,R1是碳原子数为1~20的1价脂肪族基,R1和有机硼酸基通过硼‑碳键而连接。]。

    偏振膜和其制造方法
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111727387A

    公开(公告)日:2020-09-29

    申请号:CN201980009995.9

    申请日:2019-01-24

    Abstract: 偏振膜,其包含聚乙烯醇(A)、选自下述式(I)所表示的二硼酸和能够在水的存在下转化为该二硼酸的化合物中的至少1种的含硼化合物(B)、以及硼酸(C),前述偏振膜的从表面起向内侧至1μm的范围中的源自含硼化合物(B)的硼元素浓度(α)为1~7原子%,从中心起向外侧至1μm的范围中的源自含硼化合物(B)的硼元素浓度(β)为0.1~2原子%,且浓度(α)相对于浓度(β)之比(α/β)为1.5以上。该偏振膜的偏振性能和色相良好,而且收缩力低。[式(I)中,R1是碳原子数为1~20的2价有机基团,R1与2个有机硼酸基通过硼-碳键连接]。

    偏振膜和其制造方法
    18.
    发明授权

    公开(公告)号:CN115244440B

    公开(公告)日:2024-12-27

    申请号:CN202180020786.1

    申请日:2021-03-11

    Abstract: 偏振膜,其包含聚乙烯醇(A)、选自下述式(I)所示的单硼酸和在水的存在下能够转化为该单硼酸的化合物中的至少1种的含硼化合物(B)以及硼酸(C),其中,源自含硼化合物(B)的硼元素含量(bt)为0.3~2.0质量%,硼元素总含量(T)为3.0~7.0质量%,且(bt)相对于(T)之比(bt/T)为0.10~0.30,从至少一个表面向内侧至相对于整体厚度为7.5%为止的范围的、源自含硼化合物(B)的硼元素浓度(bo)为2.2~10.0原子%。该偏振膜为高偏振性能且高透射率的偏振膜。【化学式1】#imgabs0#式(I)中,R1是碳原子数为1~20的一价脂肪族基,R1与硼酸基以硼‑碳键连接。

    偏振膜的制造方法和偏振膜
    19.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116490335A

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN202180079334.0

    申请日:2021-11-22

    Abstract: 偏振膜的制造方法,其包括:利用二色性染料对PVA膜进行染色的染色工序;在包含硼酸的水溶液中进行单轴拉伸的拉伸工序;以及干燥工序,前述拉伸工序的水溶液的硼酸浓度为1质量%~3质量%,总拉伸倍率为5.5倍~7.4倍,式(1)所示的总颈缩率(A)为57.5%~61.0%,前述拉伸工序中的式(2)所示的颈缩率(B)为31.0%~38.0%,前述干燥工序中的式(3)所示的颈缩率(C)为9.8%~16.5%。(A)=((X1‑X2)/X1)×100 (1)(B)={(Y1‑Y2)/Y1}×100 (2)(C)={(Z1‑X2)/Z1}×100 (3)X1表示染色工序前的幅宽(m);X2表示干燥工序后的幅宽(m);Y1表示拉伸工序前的幅宽(m);Y2表示拉伸工序后的幅宽(m);Z1表示干燥工序前的幅宽(m)。

    偏振膜和其制造方法
    20.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115244440A

    公开(公告)日:2022-10-25

    申请号:CN202180020786.1

    申请日:2021-03-11

    Abstract: 偏振膜,其包含聚乙烯醇(A)、选自下述式(I)所示的单硼酸和在水的存在下能够转化为该单硼酸的化合物中的至少1种的含硼化合物(B)以及硼酸(C),其中,源自含硼化合物(B)的硼元素含量(bt)为0.3~2.0质量%,硼元素总含量(T)为3.0~7.0质量%,且(bt)相对于(T)之比(bt/T)为0.10~0.30,从至少一个表面向内侧至相对于整体厚度为7.5%为止的范围的、源自含硼化合物(B)的硼元素浓度(bo)为2.2~10.0原子%。该偏振膜为高偏振性能且高透射率的偏振膜。【化学式1】式(I)中,R1是碳原子数为1~20的一价脂肪族基,R1与硼酸基以硼‑碳键连接。

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