公开(公告)号：CN102376899A

公开(公告)日：2012-03-14

申请号：CN201110226802.0

申请日：2011-08-04

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 原田成之 ,  佐佐木正臣 ,  高田美树子

IPC: H01L51/52 ,  H01L51/54 ,  H01L27/32 ,  C07D409/14 ,  C07D209/86 ,  C07D209/88 ,  C07D209/82 ,  C07F7/10

CPC classification number: H01L51/0072 ,  H01L51/0035 ,  H01L51/0037 ,  H01L51/0068 ,  H01L51/0094 ,  H01L51/502 ,  H01L2251/308 ,  H05B33/14

Abstract: 本申请公开了发光器件，具有基底和提供覆于基底的发光层，该发光层包含配位结合或连接有咔唑衍生物的半导体纳米晶体，该咔唑衍生物具有化学结构1所示化合物的芳香环，该芳香环具有一至三个取代基：化学结构1其中Ar1和Ar2独立地表示取代的或未取代的芳基，其共享键以与苯环、杂环基和氢原子形成环，Ar3表示取代的或未取代的芳基，该一至三个取代基由化学结构2表示：-X-Y-Z化学结构2其中X表示亚甲基、羰氧基、氧羰基、羰基、氧原子和硫原子，Y表示取代的或未取代的亚烷基，Z表示羧基、羟基和硫醇基。

公开(公告)号：CN101772529A

公开(公告)日：2010-07-07

申请号：CN200880102194.9

申请日：2008-09-11

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 匂坂俊也 ,  冈田崇 ,  佐佐木正臣 ,  鸟居昌史 ,  加藤拓司 ,  有贺保 ,  山本谕 ,  后藤大辅 ,  松本真二

IPC: C08G73/02 ,  H01L29/786 ,  H01L51/05 ,  H01L51/30 ,  H05B33/14

CPC classification number: C08G73/0266 ,  C08G61/12 ,  C08G73/02 ,  C08G73/026 ,  C08G2261/3162 ,  C08G2261/3422 ,  C08G2261/90 ,  C09D11/102 ,  C09D179/02 ,  C09K11/06 ,  C09K2211/1416 ,  C09K2211/1425 ,  C09K2211/1433 ,  C09K2211/1458 ,  H01L51/0035 ,  H01L51/0541 ,  H01L51/0545 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14

Abstract: 一种包含由通式(I)表示的重复单元的聚合物，其中Ar1表示取代或未取代的芳烃基团；Ar2和Ar3各自独立地表示取代或未取代的芳烃基团的二价基团；且R1和R2各自独立地表示氢原子、取代或未取代的烷基、或者取代或未取代的芳烃基团。通式(I)