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公开(公告)号：CN109312135A
公开(公告)日：2019-02-05
申请号：CN201780037340.3
申请日：2017-06-06
Applicant: 株式会社ADEKA
Abstract: 本发明提供涂布性和固化物的耐久性高、液晶污染性低的水溶性组合物及由其构成的固化物。其含有：具有乙酰乙酸酯基的聚乙烯醇(A)、及选自由锆化合物(B1)和钛化合物(B2)组成的组中的一种以上交联剂(B)。优选进一步含有有机酸(C)，聚乙烯醇可以是将乙烯醇作为必须单体的均聚物，还可以是共聚物。
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公开(公告)号：CN107250913A
公开(公告)日：2017-10-13
申请号：CN201680009871.7
申请日：2016-02-23
Applicant: 株式会社ADEKA
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/039 , G03F7/095 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/2004 , G03F7/32 , G03F7/322
Abstract: 本发明提供一种能够得到抗蚀膜的各层间的密合性优异、赋予高精细的图案、阻气性和耐溶剂性高的层叠体的图案形成方法以及使用其制造的电子设备。一种图案形成方法，其包括：使用组合物在支承体上形成膜的工序(1)；对膜的规定部分照射活性能量射线而使规定部分的显影性发生变化的曝光工序(2)；将膜进行显影而得到图案的显影工序(3)，作为组合物，使用对于显影液的溶解性彼此不同的多种组合物，所得图案具有多层结构。
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公开(公告)号：CN111699204B
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN201980012123.8
申请日：2019-02-15
Applicant: 株式会社ADEKA
IPC: C08F4/00 , C08F20/00 , C07D335/16
Abstract: 本发明提供一种具有优异的灵敏度和在水中的溶解性的自由基聚合引发剂、含有其的组合物、其固化物、其制造方法和化合物。所述自由基聚合引发剂含有通式(A)所示的化合物(式(A)中，Z1为直接键合等，Z2表示>CR1022等，R1～R8表示氢原子等或者式(B1)(式(B1)中，L1表示直接键合等，B表示酸性基团的盐等，b表示1～10，*表示键合部位)所示的包含成盐基团的基团，R1～R8中的至少一者为包含成盐基团的基团，R101等表示氢原子等，R1～R8等所使用的烷基等中的氢原子的1个以上任选被烯属不饱和基团等取代，R1～R8等中的亚甲基的1个以上任选被双键等取代，R1、R2等邻近的基团任选相互键合而形成环，任选与式(A)中的苯环形成稠环，R'表示氢原子等)。
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公开(公告)号：CN109312135B
公开(公告)日：2021-07-06
申请号：CN201780037340.3
申请日：2017-06-06
Applicant: 株式会社ADEKA
Abstract: 本发明提供涂布性和固化物的耐久性高、液晶污染性低的水溶性组合物及由其构成的固化物。其含有：具有乙酰乙酸酯基的聚乙烯醇(A)、及选自由锆化合物(B1)和钛化合物(B2)组成的组中的一种以上交联剂(B)。优选进一步含有有机酸(C)，聚乙烯醇可以是将乙烯醇作为必须单体的均聚物，还可以是共聚物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110337454A
公开(公告)日：2019-10-15
申请号：CN201880014240.3
申请日：2018-03-13
Applicant: 株式会社ADEKA
IPC: C08F2/50 , C08F2/44 , C08F20/54 , C08F290/00
Abstract: 提供：保存稳定性优异、能适应于宽范围的光源、能形成高精细的图案的水溶性组合物、其固化物的制造方法及其固化物、以及酰基次膦酸盐。含有：下述通式(I)(式中，X1表示碳原子数6～15的芳基，X2表示碳原子数1～8的直链的烷基等，Am+表示碱金属离子等，m表示1～3的数。)所示的酰基次膦酸盐(A)、具有下述通式(II)(式中，R1表示氢原子等，Z1表示氧原子等，R2表示氢原子等，Z2表示碳原子数1～6的亚烷基，n表示0～30的数，*是指结合键，具有多个通式(II)所示的基团的情况下，多个存在的R1、X1、X2、n任选分别相同或不同。)所示的基团的化合物(B)。
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公开(公告)号：CN108026346A
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201680052596.7
申请日：2016-10-14
Applicant: 株式会社ADEKA
Abstract: 本发明提供透明性和涂布性优异、液晶污染性低的树脂组合物及使用其的光学薄膜。一种树脂组合物，其含有聚乙烯醇和聚酯，聚酯具有羧基和/或羧基的盐作为取代基。聚乙烯醇优选为以乙烯醇为必要单体的均聚物或共聚物，聚乙烯醇优选具有乙酰乙酸酯基。
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公开(公告)号：CN102575013A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201080044829.1
申请日：2010-10-01
Applicant: 株式会社ADEKA
IPC: C08G77/62 , C01B21/068 , C01B21/087 , C08L83/16 , C09D5/25 , C09D183/16 , H01L21/314 , H01L21/316
CPC classification number: C08G77/62 , C08G77/12 , C08L83/16 , C09D1/00 , C09D183/16 , H01B3/02 , H01L21/02164 , H01L21/02222 , H01L21/02282 , Y10T428/24008
Abstract: 本发明提供在水蒸气中的焙烧工序中的收缩小、不易发生二氧化硅覆膜的龟裂或与半导体基板的剥离的绝缘膜形成用涂布液、使用该涂布液的绝缘膜及该涂布液中使用的化合物的制造方法。该绝缘膜形成用涂布液具有无机聚硅氮烷和有机溶剂，在所述无机聚硅氮烷的1H-NMR谱中，来自SiH1基和SiH2基的4.5～5.3ppm的峰面积与来自SiH3基的4.3～4.5ppm的峰面积之比为4.2～50。绝缘膜使用上述绝缘膜形成用涂布液而得到。无机聚硅氮烷是通过使二卤代硅烷化合物、三卤代硅烷化合物或它们的混合物与碱反应形成加合物后，使加合物的溶液或分散液与氨在-50～-1℃下反应而得到的。
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公开(公告)号：CN101410432B
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN200780010951.5
申请日：2007-03-07
Applicant: 株式会社ADEKA
CPC classification number: G02B6/1221 , C08G59/22 , C08G59/226 , C08G59/306 , C08G77/14 , C08G77/70 , C08L63/00 , C09D183/06 , G02B6/138 , C08L2666/14
Abstract: 本发明的光学材料用固化性组合物，其特征在于：含有(A)特定的含硅聚合物；(B)特定的环氧树脂；和(C)能量线敏感性阳离子聚合引发剂作为必要的构成成分。
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公开(公告)号：CN101410432A
公开(公告)日：2009-04-15
申请号：CN200780010951.5
申请日：2007-03-07
Applicant: 株式会社ADEKA
CPC classification number: G02B6/1221 , C08G59/22 , C08G59/226 , C08G59/306 , C08G77/14 , C08G77/70 , C08L63/00 , C09D183/06 , G02B6/138 , C08L2666/14
Abstract: 本发明的光学材料用固化性组合物，其特征在于：含有(A)特定的含硅聚合物；(B)特定的环氧树脂；和(C)能量线敏感性阳离子聚合引发剂作为必要的构成成分。
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