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公开(公告)号：CN1774341A
公开(公告)日：2006-05-17
申请号：CN200480010149.2
申请日：2004-03-17
Applicant: 索尼株式会社
IPC: B41J2/05
CPC classification number: B41J2/14056 , B41J2/17509 , B41J2/17513 , B41J2/17553
Abstract: 一种利用加热电阻来控制喷墨方向的喷液头。一种喷液头在半导体衬底(101)上包括：加热电阻(102a，102b)，其设置为在墨液室(105)中彼此邻近，并且适于产生供给墨液室的墨泡，以从喷嘴(104a)喷墨；开关元件(121a)，其供应电力给加热电阻；开关元件(121b，121c)，其供应不同的电力给加热电阻或在不同时间供应电力给它们，从而控制喷墨的方向。在半导体衬底(101)上，用于供应电力给加热元件的能量供应配线图案(224)、和用于控制开关元件(121a，121b，121c)的控制配线图案(236)设置在各自的导电层上。
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公开(公告)号：CN1526550A
公开(公告)日：2004-09-08
申请号：CN200410032615.9
申请日：2004-02-10
Applicant: 索尼株式会社
Abstract: 本发明公开了一种液体排出设备及液体排出方法，该设备包括具有沿预定方向排列的喷嘴的多个液体排出器的喷头。至少两个彼此邻近的液体排出器能够将液滴排出到同一像素区域上。当存在由于液滴排出失败而存在关闭的液体排出器时，此信息被存储。根据所存储的信息，对应于应排出的液滴的关闭的排出器的排出信号转移给邻近该关闭的排出器的另一液体排出器。该另一液体排出器替代地排出液滴，使得液滴着落在与由关闭的排出器排出时所应着落的位置相同的位置。
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公开(公告)号：CN101229725B
公开(公告)日：2011-08-10
申请号：CN200810081476.7
申请日：2004-06-02
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: B41J2/2054 , B41J2/2121 , B41J2202/20
Abstract: 提供一种液体喷射方法和装置，用于通过从多个液体喷射单元之一喷射的至少一液滴落在液滴降落目标上形成象素，并且依照象素区域内降落的液滴数提供灰度等级，所述方法包括步骤：依照液滴数校正定义象素密度的液滴喷射信号，且修改形成象素的液滴数，使得液滴降落目标上象素的密度与依照液滴喷射信号的密度一致；和依照校正的液滴喷射信号控制多个液体喷射单元，以便依照修改的液滴数在液滴降落目标上形成象素。
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公开(公告)号：CN1537722B
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200410045165.7
申请日：2004-03-04
Applicant: 索尼株式会社
Inventor： 江口武夫
CPC classification number: G06F7/48 , G06F7/49942 , H03M7/3042
Abstract: 一种信号处理设备，其接收连续相关并顺序输入的数字信号，对每一个顺序输入的数字信号执行一个预定的运算，并输出运算的结果。该信号处理设备包括高位部分提取器，用于通过对输入的数字信号进行运算的结果进行舍入来提取需要的高位部分；差值计算器，用于计算进行运算所得到的结果与通过高位部分提取器所提取的高位部分之间的差值；以及反馈单元，用于将通过差值计算器所计算出的差值加入到下一个输入数字信号中。在该数字信号处理设备中，对信号进行处理而不会引起平滑度和频率特性的明显降低，即使通过该处理减小了输入的数字信号的位长度也是如此。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100522619C
公开(公告)日：2009-08-05
申请号：CN200610106105.0
申请日：2006-06-02
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: B41J2/14024 , B41J2/1603 , B41J2/1623 , B41J29/02
Abstract: 一种喷液头，包括：布置在一半导体基板上的能量产生元件，淀积在半导体基板上用于在能量产生元件周围形成液体腔室的栅隔层，以及接合到栅隔层上并具有在与能量产生元件相对位置处形成的喷嘴的喷嘴片，其中，喷液头通过能量产生元件以液滴形式从喷嘴喷出容纳在液体腔室中的液体，并且栅隔层设置有多个凹部，每个凹部都具有独立轮廓且布置在与所述喷嘴片接合的接合区域上的远离栅隔层边缘的范围内。
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公开(公告)号：CN100425447C
公开(公告)日：2008-10-15
申请号：CN200610004298.9
申请日：2006-01-12
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: B41J2/1645 , B41J2/14056 , B41J2/1433 , B41J2/162 , B41J2/1625 , B41J2/1628 , B41J2/1631 , B41J2/1639 , B41J2/1646 , B41J2002/14387 , Y10T29/49401
Abstract: 一种液体喷射头，包括：液体腔，其构造为容纳将要从喷嘴喷出的液体；包括该喷嘴的液体喷射构件；以及能量产生元件，其构造为将能量提供到容纳在该液体腔内的该液体。该能量产生元件从该喷嘴将容纳在该液体腔内的该液体喷射为液滴。围绕该喷嘴在该液体喷射构件的表面上形成凹陷，使得该凹陷的开口具有大于该喷嘴的开口的宽度的宽度，并且该喷嘴设置在该凹陷的底部。将该凹陷的底角的内角确定为大于90度。比率D/H大于或等于0.9，其中D为该喷嘴的开口的宽度，H为墨腔距离，该墨腔距离即为能量产生元件的表面和液滴喷射表面之间的距离。
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公开(公告)号：CN1830671A
公开(公告)日：2006-09-13
申请号：CN200610071172.3
申请日：2006-02-28
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: B41J2/04528 , B41J2/04533 , B41J2/04563 , B41J2/0458 , B41J2/1408
Abstract: 一种喷液头，包括容纳在常温下呈液态的喷射介质的液体室，用于喷射液体室中的喷射介质的喷嘴，用于向液体室中的喷射介质供给喷射能量的能量产生元件，和用于加热液体室的加热装置，所述液体室供给喷射能量到液体室中的喷射介质上。驱动能量产生元件以便以微滴形式由喷嘴中喷射出喷射介质。加热装置被供给基本的直流分量来产生热量，以便至少液体室的温度被恒定地保持在环境温度之上，而无与能量产生元件是否被驱动无关。
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公开(公告)号：CN1814448A
公开(公告)日：2006-08-09
申请号：CN200610004298.9
申请日：2006-01-12
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: B41J2/1645 , B41J2/14056 , B41J2/1433 , B41J2/162 , B41J2/1625 , B41J2/1628 , B41J2/1631 , B41J2/1639 , B41J2/1646 , B41J2002/14387 , Y10T29/49401
Abstract: 一种液体喷射头，包括：液体腔，其构造为容纳将要从喷嘴喷出的液体；包括该喷嘴的液体喷射构件；以及能量产生元件，其构造为将能量提供到容纳在该液体腔内的该液体。该能量产生元件从该喷嘴将容纳在该液体腔内的该液体喷射为液滴。围绕该喷嘴在该液体喷射构件的表面上形成凹陷，使得该凹陷的开口具有大于该喷嘴的开口的宽度的宽度，并且该喷嘴设置在该凹陷的底部。将该凹陷的底角的内角确定为大于90度。
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