公开(公告)号：CN112912458B

公开(公告)日：2023-10-03

申请号：CN201980067736.1

申请日：2019-11-20

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 斋藤隆仪 ,  河口宽子 ,  野村孝行 ,  清水春菜 ,  伊藤加奈

IPC: C09K3/00 ,  C11D1/14 ,  C11D1/28 ,  C23C26/00

Abstract: 本发明为一种亲水化处理剂组合物，其含有(A)支链型阴离子表面活性剂、(B)多价金属离子和水，且(A)与(B)的摩尔比以(B)/(A)计为0.01以上且10以下。

公开(公告)号：CN111448348A

公开(公告)日：2020-07-24

申请号：CN201880078610.X

申请日：2018-12-05

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 山胁有希子 ,  斋藤隆仪 ,  伊森洋一郎 ,  小山皓大

IPC: D06M15/09

Abstract: 本发明涉及一种通过对成为处理对象的布帛进行处理而能够提高清洗时的脏污的清洗性的布帛处理组合物和使用该布帛处理组合物的布帛的处理方法。一种布帛处理组合物，其含有在羟基烷基纤维素上键合有选自阳离子性基团和包含碳原子数4以上的烃基的疏水基团中的1种以上的羟基烷基纤维素(A)，表面活性剂(B)的含量相对于上述羟基烷基纤维素(A)1质量份为3.5质量份以下。

公开(公告)号：CN111433269A

公开(公告)日：2020-07-17

申请号：CN201880078647.2

申请日：2018-12-05

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 斋藤隆仪 ,  伊森洋一郎 ,  小山皓大 ,  山胁有希子

IPC: C08L1/26 ,  C11D1/52 ,  C11D1/83 ,  C11D3/37

Abstract: 本发明涉及一种通过对对象物进行处理而能够提高清洗时的污垢的清洗性的组合物。本发明的组合物含有改性羟基烷基纤维素与选自阴离子性表面活性剂及非离子性表面活性剂的1种以上，且该改性羟基烷基纤维素于自羟基烷基纤维素的羟基去除氢原子所得的基团上键合有阳离子性基团及式(1)所表示的疏水基。＊-Z-R1(1)(式(1)中，Z表示单键、或具有氧原子的烃基，R1表示碳数2以上的烃基，*表示与自羟基烷基纤维素的羟基去除氢原子所得的基团的键合位置)。

公开(公告)号：CN111448220B

公开(公告)日：2023-03-31

申请号：CN201880079107.6

申请日：2018-12-05

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 小山皓大 ,  伊森洋一郎 ,  斋藤隆仪 ,  小林圣史 ,  矢野贵大

IPC: C08B11/193 ,  C08B11/145 ,  C08B37/00 ,  C11D3/22

Abstract: 本发明涉及一种可提高衣物等的清洗性，并且可抑制清洗时的粉体污垢导致的再污染的多糖衍生物。本发明涉及一种多糖衍生物，其具有阳离子性基团以及碳数为2以上的烃基(R)，且上述烃基(R)是直接、或通过具有氧原子的烃基而与自羟基烷基化多糖的羟基中去掉氢原子而成的基团键合，羟基烷基化多糖为羟基乙基化多糖或羟基丙基化多糖，上述羟基烷基化多糖的重均分子量为1万以上且74万以下。

公开(公告)号：CN114026210A

公开(公告)日：2022-02-08

申请号：CN202080043253.0

申请日：2020-06-10

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 斋藤隆仪 ,  伊森洋一郎 ,  船坂怜司

IPC: C11D1/40 ,  C11D1/62 ,  C11D3/22 ,  D06M13/463 ,  D06M15/09

Abstract: 本发明涉及一种通过对于对象物进行处理而能够提高清洗时的污垢的清洗性的组合物。本发明的组合物含有(A)改性羟烷基纤维素和(B)阳离子性表面活性剂，该(A)改性羟烷基纤维素中，在从羟烷基纤维素的羟基中除去氢原子后的基团上键合有阳离子性基团和式(1)所示的疏水性基团，上述羟烷基纤维素中的羟烷基的取代度为0.1以上且3以下，相对于上述(A)改性羟烷基纤维素的1质量份，上述(B)阳离子性表面活性剂的含量超过1质量份且为1500质量份以下。(式(1)中，Z表示单键或具有氧原子的烃基，R1表示碳原子数2以上的烃基，＊表示与从羟烷基纤维素的羟基中除去氢原子后的基团的键合位置。)＊‑Z‑R1(1)。

公开(公告)号：CN111465733A

公开(公告)日：2020-07-28

申请号：CN201880078578.5

申请日：2018-12-05

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 斋藤隆仪 ,  伊森洋一郎 ,  小山皓大 ,  山胁有希子

IPC: D06M15/09 ,  C09D101/08 ,  C11D3/37

Abstract: 本发明涉及一种通过对对象物进行处理而能够提高清洗时的污垢的清洗性的去污剂、以及含有该去污剂的去污组合物。一种去污剂，其包含改性羟基烷基纤维素，该改性羟基烷基纤维素是在羟基烷基纤维素上键合有选自阳离子性基团及包含碳数4以上的烃基的疏水基团中的1种以上。