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公开(公告)号：CN105093687A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201510221188.7
申请日：2015-05-04
Applicant: JSR株式会社
IPC: G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/1339 , G02F1/133711 , G02F1/133723
Abstract: 本发明提供一种液晶显示元件及其制造方法。所述液晶显示元件(10)具备一对基板(11)与基板(14)、液晶取向膜(17)、液晶取向膜(18)、密封构件(19)及含有液晶分子(21)的液晶层(22)。液晶取向膜(17)、液晶取向膜(18)的表面上配置有密封构件(19)。液晶取向膜(17)、液晶取向膜(18)为含有在主链中具有(1)或(2)的部分结构的聚合物(P)的薄膜。其中所述聚合物(P)在主链中具有下述(1)或(2)的部分结构，(1)碳数3以上的亚烷基链，(2)在碳数3以上的亚烷基链的碳-碳键间，具有选自由-CO-、-O-、-NH-及-Si(R1)2-(其中，R1为碳数1～12的一价烃基)所组成的组群中的一种以上的结构。所述液晶显示元件能满足窄边缘化的要求、可靠性高且残像特性优异。
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公开(公告)号：CN101923240B
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201010196217.6
申请日：2010-06-03
Applicant: JSR株式会社
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1337
Abstract: 提供一种在高亮度下能高速响应且电特性优良的液晶显示元件的制造方法。上述液晶显示元件的制造方法的特征在于，在形成具有下式(I-1-2)表示的结构为代表的特定结构的高分子膜的两块基板各自的膜间夹持介电各向异性为负的向列型液晶，进行在上述两块基板的各透明像素电极间施加电压，在液晶取向的状态下照射光的步骤，式(I-1-2)中，R1是氢原子、卤素原子、氰基、硝基或NCS基或碳原子数为1～12的烷基，该烷基可以用氟取代，一个或两个不相邻的-CH2-基可以被氧原子、-COO-、-OCO-或-CO-替换，-CH2CH2-基可以被-CH＝CH-替换。
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公开(公告)号：CN101735825B
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：CN200910222711.2
申请日：2009-11-12
Applicant: JSR株式会社
IPC: C09K19/56 , G02F1/1337 , G03F7/031
Abstract: 本发明涉及一种液晶取向剂、聚有机硅氧烷、液晶取向膜及其形成方法以及液晶显示元件。提供能够形成可通过光取向法产生预倾角，并且所产生的预倾角随时间的稳定性优良的液晶取向膜的液晶取向剂。上述液晶取向剂含有使具有环氧基的特定聚有机硅氧烷与(A)肉桂酸衍生物和(B)具有优选选自苯乙酮结构、二苯酮结构、蒽醌结构、联苯结构、咔唑结构、硝基芳基结构、芴结构、萘结构、蒽结构、吖啶结构和吲哚结构的光增敏性结构的特定化合物反应而制得的感射线性聚有机硅氧烷。
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公开(公告)号：CN103045268A
公开(公告)日：2013-04-17
申请号：CN201210348180.3
申请日：2012-09-18
Applicant: JSR株式会社
IPC: C09K19/56 , G02F1/1337 , G02F1/1333
Abstract: 本发明提供一种印刷性优异的液晶配向剂、液晶配向膜及液晶显示元件。液晶配向剂含有：A）选自由聚酰胺酸及该聚酰胺酸进行脱水闭环而成的聚酰亚胺所构成的群组的至少一种聚合物（A），所述聚酰胺酸是使四羧酸二酐与包含在分子内具有一个以上羧基的二胺化合物（a1）的二胺反应而所得；B）选自由1,3-二甲基-2-咪唑烷酮、N-乙基-2-吡咯烷酮及下述式（1）所表示的化合物所构成的群组的至少一种溶剂（B）。
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公开(公告)号：CN102604652A
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：CN201210014797.1
申请日：2012-01-12
Applicant: JSR株式会社
IPC: C09K19/56 , G02F1/1337 , G02F1/1333
Abstract: 本发明涉及液晶取向剂、液晶显示元件及其制造方法，其目的在于提供：可形成高速响应性等诸特性优异的PSA方式的液晶显示元件的液晶取向剂、具备由该液晶取向剂形成的液晶取向膜的PSA方式的液晶显示元件以及这样的液晶显示元件的制造方法。本发明为形成PSA方式的液晶显示元件中的液晶取向膜用的液晶取向剂，其特征在于，含有[A]具有由下述式(1)表示的基团的化合物(以下，亦称为“[A]化合物”)。，式(1)中，R1为至少具有两个单环结构的基团。R2为包含双键、三键、醚键、酯键或氧原子的连结基团。a为0～1的整数。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102241990A
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：CN201110122358.8
申请日：2011-05-09
Applicant: JSR株式会社
IPC: C09K19/56 , G02F1/1337 , C08G73/10
CPC classification number: Y02P20/582
Abstract: 本发明涉及一种液晶取向剂、液晶取向膜、液晶显示元件、聚酰胺酸以及聚酰亚胺。提供即使在液晶取向膜形成后，在空气中暴露一段时间，也具有没有产生膜吸水引起的恶化，涂膜的剥离性优异，同时印刷性也优异的液晶取向剂。上述液晶取向剂含有由聚酰胺酸和将该聚酰胺酸脱水闭环形成的聚酰亚胺构成的群组中选出的至少一种聚合物，该聚酰胺酸是使四酸二酐和二胺反应得到的，其特征在于：前述二胺包含具有苯基-二氢化茚结构的特定二胺和具有羧基的二胺。
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公开(公告)号：CN102236209A
公开(公告)日：2011-11-09
申请号：CN201110097478.7
申请日：2011-04-15
Applicant: JSR株式会社
IPC: G02F1/1337 , G02F1/1333 , C09D183/07 , C09D179/08
Abstract: 本发明涉及一种液晶显示元件的制造方法、聚合物组合物以及液晶显示元件。该液晶显示元件的视野角宽广，液晶分子的响应速度快，并且显示特性和长期可靠性优良。该制造方法经过了下述工序，在具有导电膜的一对基板的该导电膜上，分别涂布含有(A)聚合物和(B)有机溶剂的聚合物组合物，形成涂膜，并隔着液晶分子层，将形成了前述涂膜的一对基板对向配置，使前述涂膜彼此相对，以形成液晶盒，然后在对前述一对基板所具有的导电膜间施加电压的状态下，对前述液晶盒进行光照射，前述(A)聚合物包含一种聚合物，该聚合物具有下述结构和聚合性不饱和键这两者，该结构为通过光照射而产生自由基的结构和具有光敏化功能的结构中的至少一种。
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公开(公告)号：CN102147546A
公开(公告)日：2011-08-10
申请号：CN201110037624.7
申请日：2011-01-31
Applicant: JSR株式会社
Inventor： 吉泽纯司
IPC: G02F1/1337 , G02F1/1333 , C09D133/04 , C09D179/08 , C09D183/04
Abstract: 本发明涉及一种液晶显示元件的制造方法、聚合物组合物和液晶显示元件。本发明提供一种视野角度宽，液晶分子的响应速度快，显示特性和长期可靠性优异的液晶显示元件的制造方法。上述液晶显示元件制造方法的特征在于，经过如下工序：在具有导电膜的一对基板的该导电膜上，分别涂布含有(A)具有下式(A-I)表示的基团的聚合物和(C)有机溶剂的聚合物组合物，形成涂膜，将形成上述涂膜的一对基板以夹着液晶分子的层的方式对向设置，使上述涂膜相对，从而形成液晶盒，在具有上述一对基板的导电膜之间施加电压的状态下，向上述液晶盒进行光照射，在式(A-I)中，R为氢原子或甲基，Y1和Y2各自独立地为氧原子或硫原子。
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公开(公告)号：CN101923240A
公开(公告)日：2010-12-22
申请号：CN201010196217.6
申请日：2010-06-03
Applicant: JSR株式会社
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1337
Abstract: 本发明提供一种在高亮度下能高速响应且电特性优良的液晶显示元件的制造方法。上述液晶显示元件的制造方法的特征在于，在形成具有下式(I-1-2)表示的结构为代表的特定结构的高分子膜的两块基板各自的膜间夹持介电各向异性为负的向列型液晶，进行在上述两块基板的各透明像素电极间施加电压，在液晶取向的状态下照射光的步骤，，式(I-1-2)中，R1是氢原子、卤素原子、氰基、硝基或NCS基或碳原子数为1～12的烷基，该烷基可以用氟取代，一个或两个不相邻的-CH2-基可以被氧原子、-COO-、-OCO-或-CO-替换，-CH2CH2-基可以被-CH＝CH-替换。
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公开(公告)号：CN101328298A
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：CN200810128340.7
申请日：2005-11-28
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种组合物，其含有聚合物，该聚合物含有下述聚合单元：来自(a1)具有环氧乙基或氧杂环丁基的聚合性不饱和化合物、(a2)具有以甲基丙烯酸1－二乙基丙酯为代表的特定结构的聚合性不饱和化合物的聚合单元及(a3)与上述聚合单元(a1)、(a2)不同的聚合单元。上述组合物能够形成保存稳定性优良、平坦性高的固化膜，而且，优选用于形成透明性及表面硬度高、耐热耐压性、耐酸性、耐碱性、耐溅射性、蚀刻耐性等各种的耐性优良的光设备用保护膜。
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