公开(公告)号：CN1916760B

公开(公告)日：2010-10-13

申请号：CN200610126701.5

申请日：2002-06-28

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 江幡敏 ,  米田英司 ,  永井智树 ,  舍人达也 ,  王勇 ,  岩泽晴生 ,  西村幸生

IPC: G03F7/004 ,  C07D207/40 ,  C07D209/70 ,  C07D211/88 ,  C07D221/14 ,  C07D491/18

CPC classification number: C07C309/23 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07C381/12 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/86 ,  C07D333/46 ,  C07D333/78 ,  C07D335/02 ,  C07D347/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0757 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115

Abstract: 提供了一种含有下式(2)、(2-A)或(2-B)的结构的新的光致酸发生剂，其中各基团如说明书所定义当用于化学放大辐射敏感树脂组合物时，光致酸发生剂表现出高透明度、较高的可燃性，和没有生物累积，产生的酸表现出高酸性、高沸点、在树脂涂层中适度的扩散长度以及对掩模图形密度的低依赖性。