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公开(公告)号:CN103097947A
公开(公告)日:2013-05-08
申请号:CN201180042068.0
申请日:2011-08-23
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/133711 , G02F1/133723 , G02F1/133753 , G02F1/133788
Abstract: 为了提高液晶面板和液晶显示装置的基本性能和高画质化,在能够实现均匀的显示品质和高可靠性的光取向性、优异的电光学特性(透过率、对比度、视野角、响应)的光取向液晶面板中,作为光取向膜,优选的聚合物的结构组成不明。本发明,作为光取向膜,为了能够通过含有具有光取向性的化合物而具有光取向性,将光聚合物共聚比和改性比优化,发现了优选的聚合物的结构组成。本发明的目的是高效地生产和提供具有优异的电特性光学特性、且具有充分的液晶显示品质和可靠性的显示面板和液晶显示装置。
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公开(公告)号:CN102147545A
公开(公告)日:2011-08-10
申请号:CN201110032727.4
申请日:2008-02-26
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G02F1/1337 , C08G73/10 , C08G69/00 , C08G77/04 , C09K19/56
CPC classification number: G02F1/133362 , G02F1/133711 , G02F1/133723 , G02F1/133788 , G02F2001/133746 , G02F2001/133757
Abstract: 本发明提供能够抑制AC模式下的影像残留的发生的液晶显示装置和取向膜材料用聚合物。本发明的液晶显示装置具有在一对基板间夹持有包含液晶分子的液晶层的结构,并在至少一个基板的液晶层一侧的表面具有取向膜,其中,上述取向膜是对使用取向膜材料形成的膜实施基于光照射的取向处理而得到的取向膜,上述取向膜材料含有以第一结构单元和第二结构单元作为必要结构单元的聚合物,上述第一结构单元通过光照射表现出对液晶分子进行取向控制的特性,上述第二结构单元无论是否进行光照射都表现出对液晶分子进行取向控制的特性。
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公开(公告)号:CN101606100A
公开(公告)日:2009-12-16
申请号:CN200880004765.5
申请日:2008-02-26
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/133362 , G02F1/133711 , G02F1/133723 , G02F1/133788 , G02F2001/133746 , G02F2001/133757
Abstract: 本发明提供能够抑制AC模式下的影像残留的发生的液晶显示装置和取向膜材料用聚合物。本发明的液晶显示装置具有在一对基板间夹持有包含液晶分子的液晶层的结构,并在至少一个基板的液晶层一侧的表面具有取向膜,其中,上述取向膜是对使用取向膜材料形成的膜实施基于光照射的取向处理而得到的取向膜,上述取向膜材料含有以第一结构单元和第二结构单元作为必要结构单元的聚合物,上述第一结构单元通过光照射表现出对液晶分子进行取向控制的特性,上述第二结构单元无论是否进行光照射都表现出对液晶分子进行取向控制的特性。
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公开(公告)号:CN110320715B
公开(公告)日:2022-04-19
申请号:CN201910242362.4
申请日:2019-03-28
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G02F1/1343 , G02F1/1337 , G02F1/1333
Abstract: 提供可抑制具有视角依赖性的显示不均的液晶面板。其依次具备:具有多个像素电极、多根栅极布线以及第一取向膜的第一基板;液晶层;以及具有共用电极和第二取向膜的第二基板的液晶,在行方向上连续的至少30个像素中,晶畴排列相同,多根栅极布线在显示单位区域的行之间通过并延伸,位于第n行的显示单位区域中的晶畴配置顺序为第一晶畴、第二晶畴、第三晶畴、第四晶畴,像素电极具有与各晶畴的取向矢量平行的多根微小狭缝,在与像素电极的行方向平行的两端设置无所述微小狭缝的区域,且在与像素电极的列方向平行的两端的一个或两个设置无所述微小狭缝的区域,无所述微小狭缝的区域的宽度最大的部分包括与像素电极的行方向平行的两端的一个或两个。
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公开(公告)号:CN110998425A
公开(公告)日:2020-04-10
申请号:CN201880054083.9
申请日:2018-08-15
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G02F1/1337
Abstract: 本发明提供即使减少取向处理次数也能够维持充分的透射率的液晶显示面板。在本发明的液晶显示面板中,液晶层未被施加电压时的、与第一垂直取向膜相邻的液晶分子相对于第一垂直取向膜的第一倾斜角不同于与第二垂直取向膜相邻的液晶分子相对于第二垂直取向膜的第二倾斜角,在俯视液晶显示面板,并定义了以液晶分子的第一基板侧的长轴端部为起点、第二基板侧的长轴端部为终点的取向矢量时,第一垂直取向膜和第二垂直取向膜中的任意一方垂直取向膜是以在一个显示单位区域内形成取向矢量互不相同的多个畴的方式被进行了取向处理的光取向膜,在液晶层被施加电压时,显示单位在俯视时沿着显示单位的第一方向按顺序包含取向矢量互不相同的第一畴、第二畴、第三畴以及第四畴。
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公开(公告)号:CN110998423A
公开(公告)日:2020-04-10
申请号:CN201880049957.1
申请日:2018-07-27
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G02F1/1337
Abstract: 本发明提供光利用效率和显示的均匀性优异的液晶显示面板。本发明的液晶显示面板具有:第一基板,其具有第一光取向膜;液晶层;以及第二基板,其具有第二光取向膜,在液晶显示面板中,在定义了以液晶分子的第一基板侧的长轴端部为起点、第二基板侧的长轴端部为终点的取向矢量时,第一和第二光取向膜以在与单个像素电极重叠的显示单位区域内沿着显示单位区域的长边方向形成第一~第四畴的方式被进行了取向处理,在俯视时,第一畴与第二畴的取向矢量是终点彼此相面对并且相互正交,第二畴与第三畴的取向矢量是起点彼此相面对并且相互平行,第三畴与第四畴的取向矢量是终点彼此相面对并且相互正交。
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公开(公告)号:CN110967854A
公开(公告)日:2020-04-07
申请号:CN201910933312.0
申请日:2019-09-27
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1337 , G09G3/36
Abstract: 一种液晶面板,既维持视野角改善效果,又抑制透射率的下降。液晶面板(100)的各像素(P)包含亮子像素(BS)和暗子像素(DS),亮子像素(BS)具有液晶分子(41)的取向方向相互不同的4个亮畴(BD),暗子像素(DS)具有液晶分子(41)的取向方向相互不同的2个暗畴(DD)。
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公开(公告)号:CN110858043A
公开(公告)日:2020-03-03
申请号:CN201910760690.3
申请日:2019-08-16
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G02F1/1337 , G02F1/1343
Abstract: 本发明是一种液晶面板,具有:第一基板,其具有第一取向膜;液晶层;以及第二基板,其具有第二取向膜,在上述液晶面板中,在定义了以液晶分子的第一基板侧的长轴端部为起点、以第二基板侧的长轴端部为终点的取向矢量时,第一取向膜和第二取向膜在多个像素内以沿着列方向形成第一畴~第四畴的方式进行取向处理,像素电极在第二畴内设置有与第二畴的取向矢量平行地延伸的第一微细狭缝,在第三畴内设置有与第三畴的取向矢量平行地延伸的第二微细狭缝,并且在第二畴与第三畴的边界设置有沿着边界延伸的中间狭缝,第一微细狭缝与第二微细狭缝经由中间狭缝被连接。
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公开(公告)号:CN110320710A
公开(公告)日:2019-10-11
申请号:CN201910242363.9
申请日:2019-03-28
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G02F1/1337 , G02F1/1333
Abstract: 本发明提供可抑制具有视角依赖性的显示不均的液晶面板。一种液晶面板,其依次具备:第一基板,其具有多个像素电极、多根栅极布线以及第一取向膜;液晶层;以及第二基板,其具有共用电极和第二取向膜,在行方向上连续的至少30个像素中,晶畴排列相同,多根栅极布线在显示单位区域的行之间通过并延伸,位于第n行的显示单位区域中的晶畴配置顺序是第一晶畴、第二晶畴、第三晶畴、第四晶畴的顺序,位于第n+1行的显示单位区域中的晶畴配置顺序是第一晶畴以及第四晶畴位于第二晶畴以及第三晶畴之间,像素电极具有与各晶畴的取向矢量平行的多根微小狭缝。
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公开(公告)号:CN102298235B
公开(公告)日:2015-05-27
申请号:CN201110163242.9
申请日:2007-01-25
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G02F1/1337 , G03F7/20
CPC classification number: G02F1/133788 , G02F1/133753
Abstract: 本发明提供一种液晶显示装置的制造方法,即使分割基板进行取向处理的情况下,也能够抑制显示画面上产生接缝,能够提高成品率。该制造方法包括将基板面内分割为两个以上的曝光区域,通过设置有透光部和遮光部的光掩模在每个曝光区域中进行取向膜的曝光的曝光工序,在对光源和光掩模的组合、以及基板中的至少任一个进行扫描的同时进行扫描曝光,并且以相邻的曝光区域的一部分重复的方式重复曝光,该光掩模具有配置有透光部的半色调部,该透光部的开口率小于在其它部分设置的透光部的开口率,该半色调部与重复曝光的区域对应设置,重复曝光的区域的曝光量的合计相对于不重复曝光的区域的曝光量为70~150%。
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