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公开(公告)号：CN103873740B
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201310656763.7
申请日：2013-12-06
Applicant: 富士通株式会社
CPC classification number: G06T5/003 , G06T5/20 , G06T2207/20012 , H04N5/217 , H04N5/3572
Abstract: 一种信息处理方法，包括：使用具有图像的分辨率各向异性的有限的第一空间滤波器和其中元素的总和的值为零并且至少两个元素具有非零值的有限滤波器来计算元素数目的大小大于图像的模糊大小的第二空间滤波器；以及根据第二空间滤波器来生成具有预定数目或少于预定数目个元素的多个空间滤波器。
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公开(公告)号：CN103454768A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201310129518.0
申请日：2013-04-15
Applicant: 富士通株式会社
CPC classification number: G06K9/00033
Abstract: 本发明涉及一种成像装置和电子设备。一种成像装置可以包括形成光导的照射光学系统和设置在该照射光学系统的内侧上的成像光学系统。由第一表面接收到的来自光源的光被反射和漫射，并且来自与该第一表面相反的第二表面的光照射目标物。该照射光学系统接收从该目标物反射的光，并且与该目标物的至少一部分相对应的图像成像在成像元件上。该照射光学系统的第二表面可以具有凹面形状。
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公开(公告)号：CN101390020B
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：CN200680053412.5
申请日：2006-02-23
Applicant: 富士通株式会社
IPC: G03H1/26
CPC classification number: G11B7/0065 , G03H1/16 , G03H1/26 , G11B7/1372
Abstract: 全息记录装置(A1)构成为能够使物镜(8)与靠近该物镜(8)的中继镜(7b)之间的光学距离改变。由此，能够利用到达记录介质(B1)的激光的状态的变化来进行散焦多重记录。
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公开(公告)号：CN101443711B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN200680054628.3
申请日：2006-05-16
Applicant: 富士通株式会社
IPC: G03H1/04 , G11B7/0065 , G11B7/1378
CPC classification number: G03H1/04 , G03H1/0465 , G03H1/265 , G03H2222/35 , G11B7/0065 , G11B7/00772 , G11B7/08564 , G11B7/128 , G11B7/1392
Abstract: 全息记录装置(A)对于全息记录介质(B)，经由空间光调制器(2)以向预定方向倾斜的状态构成预定入射角地照射记录光(S)，同时以向与记录光(S)相反的方向倾斜的状态与记录光构成预定的交叉角地照射参考光(R)，并利用记录光(S)与参考光(R)之间的干涉在全息记录介质(B)上记录全息图，其中包括光束调制装置(1)，光束调制装置(1)将强度分布呈高斯分布形状的高斯光束转换成强度分布趋于均匀的平行光，并使所述平行光作为记录光(S)向空间光调制器(2)前进，并且高斯光束的中心轴(Gs)偏离光束调制装置(1)的光轴(1A)，该偏离方向包含与记录光(S)相对于全息记录介质(B)所倾斜的方向相同的方向或者其反方向上的分量。
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公开(公告)号：CN101501580A
公开(公告)日：2009-08-05
申请号：CN200680055439.8
申请日：2006-07-28
Applicant: 富士通株式会社
IPC: G03H1/26 , G11B7/0065 , G11B7/125 , G11B7/135
Abstract: 一种全息记录装置(A1)，包括：光源(1)，发出激光；分光器(3)，将来自所述光源(1)的激光分离成记录光(S)和参考光(R)；空间光调制器(5)，根据应记录的信息来调制记录光(S)；记录光学系统，向全息记录介质(B)的预定部位照射被调制了的记录光(S)；以及参考光学系统，在使相对于全息记录介质(B)的入射角变化的情况下照射参考光(R)，以使参考光(R)在预定部位以各种角度与记录光(S)干涉；通过记录光(S)与参考光(R)的干涉而将全息图多重记录在预定部位，全息记录装置(A1)还包括：光量调节单元(8)，根据相对于全息记录介质(B)的入射角来可变地调节从分光器(3)射出后的参考光(R)的光量，以使预定部位上的参考光(R)的照度成为预定的稳定水平。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100511439C
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200610058344.3
申请日：2006-03-03
Applicant: 富士通株式会社
IPC: G11B7/0065 , G11B7/09 , G11B7/007 , G11B7/13 , G03H1/22
CPC classification number: G11B7/0065 , G11B7/083 , G11B7/08564 , G11B7/0956
Abstract: 一种全息图记录和再现装置通过对参考光束相对于全息图记录介质的倾斜进行伺服控制，来使再现错误最小。该装置包括用于伺服控制的光检测器和用于再现信号转换的光传感器。像素图案发生器在记录光束的波面上生成与要记录的信息相对应的离散分布的记录像素图案和用于伺服控制的特殊定形并且定位的伺服像素图案。分束器将来自全息图记录介质的反射光束分光为被导向用于再现信号转换的光检测器的再现光束和被导向用于伺服控制的光检测器的伺服光束。伺服控制器基于来自伺服控制光检测器的输出信号来控制参考光束相对于全息图记录介质的倾斜。
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公开(公告)号：CN101473280A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200680055125.8
申请日：2006-06-28
Applicant: 富士通株式会社
IPC: G03H1/26 , G11B7/0065 , G11B7/135
CPC classification number: G03H1/26 , G03H1/265 , G11B7/0065 , G11B7/1362
Abstract: 一种全息记录装置，向该全息记录介质(B)照射记录光(S)，并在可变地控制对全息记录介质(B)的入射角的情况下向记录光(S)的照射部位(p)照射参考光(R)，通过上述记录光(S)和参考光(R)之间的干涉在照射部位(p)复用记录全息图，所述全息记录装置包括在预定的角度范围内可变地控制参考光(R)的入射角的入射角可变控制单元，全息记录介质(B)具有随着入射光量增大而记录灵敏度降低的特性，并且入射角可变控制单元使参考光(R)的入射角从较大的角度向较小的角度变化来构成。
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公开(公告)号：CN100390873C
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：CN200610056972.8
申请日：2006-03-07
Applicant: 富士通株式会社
IPC: G11B7/0065 , G11B7/135 , G11B7/125 , G03H1/22
CPC classification number: G03H1/04 , G03H1/265 , G03H2223/13 , G03H2225/55 , G11B7/0065 , G11B7/128 , G11B7/1367 , G11B7/1381
Abstract: 本发明公开了一种全息记录仪，用于通过记录光束与参考光束的干涉而在全息记录介质上记录全息图。该记录仪包括：光源，用于输出相干光以分为记录光束和参考光束；空间光调制器，用于将记录光束调制为表示待记录信息的形式；物镜，用于输出记录光束；和相移掩模，其设置在空间光调制器的光入射表面上。该掩模构造成允许记录光束通过，同时还部分地改变通过该掩模的记录光束的相位。
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公开(公告)号：CN1639786A
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN02829351.7
申请日：2002-12-26
Applicant: 富士通株式会社
Inventor： 吉川浩宁
IPC: G11B11/105
CPC classification number: G11B13/045 , G11B11/10534 , G11B11/10554 , H01F3/10 , H01F7/20
Abstract: 本发明的目的是提供一种允许用诸如覆镀的简单制造技术制造并能够抑制涡流产生的磁场发生器，以及能够进行高速数据记录和重现的光磁信息存储装置。其具有环绕内孔的环形线圈(311)和多个磁棒(312)，磁棒(312)以线圈(311)的内孔为中心径向布置以交叠线圈(311)，磁棒(312)与线圈(311)绝缘并由磁性材料构成，每个棒的最大宽度不大于最小宽度的两倍。
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公开(公告)号：CN1402222A
公开(公告)日：2003-03-12
申请号：CN02107759.2
申请日：2002-03-21
Applicant: 富士通株式会社
CPC classification number: G11B5/17 , G11B5/127 , G11B5/3133 , G11B11/10534 , G11B11/10554 , G11B11/1058
Abstract: 一种磁头包括一个绝缘件、一个线圈和一个导热器。绝缘件具有固定成面向数据存储磁盘的对应表面。线圈产生所要求的磁场。线圈设置在绝缘件中或在绝缘件的对应表面中。导热器吸收线圈产生的热量，导热器具有的导热率高于绝缘件的导热率。导热器具有至少部分不规则的一个表面。
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