-
公开(公告)号：CN114002799B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202111216079.8
申请日：2021-10-19
Abstract: 本发明公开了一种三轴弹性结构光学调整架，该调整架为一种弹性调节构型，利用结构件本身的弹性提供调整架所需的调节活动范围，并通过预制负角度的初始安装位置使弹性部件获得负极限调节位置，以此实现调节范围内始终能够获得预紧力，及调节零位正负方向上的调节能力；通过组合三对弹性调节结构，使其形成互相垂直的三个调节回转轴，对与安装在该调整架上的光学元件，可获得三轴转动的调节能力，并具有锁定功能。
-
公开(公告)号：CN112596349B
公开(公告)日：2024-01-19
申请号：CN202110046632.1
申请日：2021-01-14
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种基于多点阵产生和独立控制的双光子并行直写装置及方法，主要包含三个核心元件：数字微镜阵列DMD、空间光调制器SLM和微透镜阵列MLA，DMD将有效像素区域等分成N×N个单元，一个单元对应一个光斑，对DMD每个单元包含的m×m个微镜进行独立开关，实现各单元光斑强度和均匀度的独立调控；SLM将有效像素区域等分成N×N个单元，并与入射的各单元光斑一一对应并独立进行相位控制；MLA用于生成焦点阵列，其微透镜数N×N决定了点阵的数量，该点阵随后经凸透镜和物镜成像到物镜焦平面上进行加工，该装置与方法具有灰度光刻的功能，能够快速加工任意形状且高均匀度的曲面结构及真三维微结构，可应用于超分辨光刻等领域。
-
公开(公告)号：CN114486892B
公开(公告)日：2024-01-16
申请号：CN202210063094.1
申请日：2022-01-20
Abstract: 本发明公开了一种基于声光偏转扫描的结构光照明显微成像装置及方法，该装置将激发光通过偏振分光器分成两个对称的光路，每个光路各过一个声光偏转模块进行光束的扫描，两光束再通过合束器进行合束，在样品面上进行干涉产生照明条纹。每个光路中的声光偏转模块由两个互相垂直放置的两个声光偏转器以及两个透镜所构成的4f系统组成，通过控制加载在两个声光偏转模块中的各自的两个声光偏转器的载波频率，可以改变每个声光偏转器对光束的在xy平面上的扫描位置，进而得到不同方向的干涉条纹。利用声光偏转器对光束进行扫描，相比于振镜扫描可以获得更快的扫描速度；此外，相对于振镜，声光偏转器具有更高的扫描稳定性，可以实现更稳定的照明条纹。
-
公开(公告)号：CN117392025A
公开(公告)日：2024-01-12
申请号：CN202311684036.1
申请日：2023-12-11
Applicant: 浙江大学杭州国际科创中心
Abstract: 本发明公开一种X射线锥束CT位姿矫正方法、系统及装置，方法包括：获取多张X射线投影图像；对多张X射线投影图像进行分割预处理得到多张标定小球图像，基于多张标定小球图像得到所有标定小球的球心位置；得到矫正几何位姿参量，基于第三标定小球的球心位置得到摆放位置及旋转角，基于第二标定小球的球心位置与第一标定小球的球心位置之间的距离得到扭转角及倾斜角；基于矫正几何位姿参量对探测器的实际摆放位置及实际摆放角度进行矫正。本发明操作简单，几何位姿参量矫正只需一块几何位姿矫正标定板就可以实现对几何位姿参量的矫正，使得锥束CT系统后续的应用数据更加准确，同时对于射线源的投影角度要求精度不高，在操作实施中容易实现。
-
公开(公告)号：CN112326665B
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202011039692.2
申请日：2020-09-28
Abstract: 本发明公开了一种基于空间分步式移频照明的缺陷检测系统，包括光源、显微物镜、管镜、图像探测器、控制模块和数据处理模块，其中，光源包括垂直照明光源和倾斜照明单元。垂直照明光源和各倾斜照明单元的出射光能够照射到被观测样品上而激发出散射场，散射场经显微物镜收集后再经管镜整形而入射到图像探测器，并由数据处理模块转换成远场强度图。控制模块按时序控制各光源的点亮以及各光源照明下图像探测器对被观测样品散射场信号的采集。数据处理模块通过对被观测样品空间频谱信息的重构，最终实现无论是在透射式照明还是反射式照明条件下，被观测样品表面复杂缺陷特征轮廓信息和细节特征信息的检测成像。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112666804B
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202110049599.8
申请日：2021-01-14
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于干涉点阵和DMD的边缘光抑制阵列并行直写装置，该装置主要包含两路光：一路光通过偏振分束器产生偏振方向两两相同的四光束，四光束在物镜焦平面重叠，进行振幅和强度叠加后产生干涉点阵，点阵暗斑用作抑制涡旋光阵列；另一路光通过数字微镜器件DMD产生激发光点阵，并投影到物镜焦平面上和抑制涡旋光阵列重合，在大视场中可得到万束量级以上边缘光抑制阵列，可用于高通量超分辨的双光子直写。
-
公开(公告)号：CN116731338A
公开(公告)日：2023-09-12
申请号：CN202310708189.9
申请日：2023-06-15
Abstract: 本发明公开了一种基于飞秒激光直写的图案化UiO系列无机膜的制备方法以及凝胶化配体溶液。所述基于飞秒激光直写的图案化UiO系列无机膜的制备方法包括如下步骤：A：图案化ZrO2薄膜的制备；B：UiO系列无机膜的凝胶化配体溶液的制备；C：UiO系列无机膜的制备。本发明提供了一种用于制备UiO系列无机膜的凝胶化配体溶液，其通过如下方法制备：将有机配体和调节剂溶解在DMF中，制备得到凝胶化配体溶液；所述的调节剂为三乙胺或氢氧化钾；所述的有机配体为下列化合物a‑c中的一种。本发明采用凝胶法旋涂制备图案化UiO系列无机膜，不仅减少了溶剂用量，而且有效降低反应温度，能够获得微米尺度的图案化UiO系列无机膜。#imgabs0#
-
公开(公告)号：CN116560059A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310017454.9
申请日：2023-01-06
Abstract: 一种同时实现高精度激光直写与超分辨显微成像的方法，通过在光刻胶中掺杂可以闪烁的荧光染料，利用边缘光抑制效应的双光束实现高精度激光直写，以及利用随机光重构显微方法进行超分辨成像。一种同时实现高精度激光直写与超分辨显微成像的装置包括进行高精度激光直写的两个光源和进行超分辨显微成像的另两个光源；其中，前者两个光源分别为使光刻胶产生光聚合过程的激发光光源和对光刻胶产生抑制聚合的抑制光源；后者两个光源分别为对染料进行活化的激活光和激发荧光染料发荧光的激发光。本发明通过在一个系统中集成激光直写与光学显微成像，进而同时实现超分辨刻写与成像两个功能，实现刻写结构的无损、非侵入直写光学成像，操作简便，节约成本。
-
公开(公告)号：CN116554391A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310708192.0
申请日：2023-06-15
IPC: C08F220/14 , G03F7/20 , C08F220/18 , C08F212/08 , C08F220/20 , G03F7/038 , G03F7/027
Abstract: 本发明公开了一种飞秒激光直写光刻胶成膜树脂、负性飞秒激光直写光刻胶及其图案化方法。所述飞秒激光直写光刻胶成膜树脂的化学结构式如式(I)所示，该飞秒激光直写光刻胶成膜树脂为无规共聚物，重均分子量Mw在1.7‑2.2kDa之间，分布指数D在1.4‑2之间。本发明提供的负性飞秒激光直写光刻胶包括3‑5wt％所述的成膜树脂、5‑10wt％活性单体、0.1‑1wt％双光子引发剂和85‑91wt％溶剂。本发明所述的成膜树脂可以提高负性光刻组合物的抗刻蚀性，提升胶膜与晶圆的附着力，从而提高光刻图形的分辨率，改善图形形貌。
-
公开(公告)号：CN116500869A
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN202310572492.0
申请日：2023-05-18
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请涉及一种激光刻写方法、装置和系统。所述方法包括：获取目标结构的二维灰度图像以及激光刻写设备的刻写通道数；根据所述二维灰度图像，生成灰度刻写数据；将所述灰度刻写数据根据所述刻写通道数，拆分成对应不同刻写通道的单通道刻写数据；获取位移台的位置信息；基于所述位置信息，将对应每个所述刻写通道的所述单通道刻写数据发送至调制器阵列，以使激光刻写设备基于多个单通道刻写数据进行目标结构的刻写。采用本方法能够在大幅提升扫描速度的同时，还实现了表面粗糙度的提升，有效改善了传统3D激光直写方法刻写速度与刻写质量难以兼顾的问题。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
929
records
(took 0.064 seconds)
