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公开(公告)号：CN105552004A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201511000843.2
申请日：2011-12-19
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/687 , H01J37/317
CPC classification number: H01L21/6831 , H01L21/67109 , H01L21/67 , H01J37/317 , H01J37/3171 , H01L21/67011 , H01L21/687 , H01L21/68714 , H01L21/68785
Abstract: 一种静电钳，包括基座，其具有第一表面；以及用于在制程腔室中支撑基底的外组件，外组件具有第二表面，其是以连结于基座的第一表面的至少一部分的方式布置。静电钳还包括耦合于外组件的外表面的第一环形部，第一环形部具有第一封合表面，以及包括第二环形部，其耦合于外组件的外表面且具有第二封合表面。且当基底被放置在第一封合表面以及第二封合表面上时，第一环形部可定义内隔室，第一环形部与第二环形部可一同定义同心于内隔室的外隔室。
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公开(公告)号：CN102203955A
公开(公告)日：2011-09-28
申请号：CN200980144167.2
申请日：2009-10-20
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L31/042 , H01L21/265
CPC classification number: H01L21/266 , H01J37/3171 , H01J2237/31711 , H01L31/18
Abstract: 一种制造太阳能电池的技术。在一特定的例示性实施例中，所述技术可以包括在太阳能电池的上方设置罩幕，所述罩幕包括多个条状物，其中所述多个条状物彼此相间隔以定义出至少一狭缝；将所需物种的带状离子束导向所述太阳能电池，以离子植入所述太阳能电池的一部分，其中所述太阳能电池的所述部分由所述罩幕的所述至少一狭缝所定义；以及定向所述带状离子束，使所述带状离子束的较长剖面尺寸在一平面上与所述狭缝垂直。
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公开(公告)号：CN107810547B
公开(公告)日：2019-07-30
申请号：CN201680037201.6
申请日：2016-06-24
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/67115 , H01L21/67109 , H01L21/6831
Abstract: 本发明揭示一种设备及利用发光二极管加热的静电夹具。所述利用LED加热的静电夹具包括包含LED加热器的第一子组合件和包括静电夹具的第二子组合件。所述LED衬底加热器子组合件包含具有凹部的基底。多个发光二极管LED安置在所述凹部内。所述LED可为GaN或GaP LED，其在容易由硅吸收的波长处发光，因此有效且快速地加热所述衬底。包括静电夹具的所述第二子组合件安置在所述LED衬底加热器子组合件上。所述静电夹具包含在由所述LED发射的所述波长处为透明的顶部电介质层和内部层。一或多个电极安置于所述顶部电介质层与所述内部层之间以形成所述静电力。
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公开(公告)号：CN107112258A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580062297.7
申请日：2015-10-29
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 朱利安·G·布雷克
IPC: H01L21/67
Abstract: 公开了一种用于在加工期间调制及控制工件的局部温度的系统及方法。所述系统使用具有一或多个壁的台板，所述一或多个壁在所述台板的顶面上界定多个分立的区。当工件安置于所述台板上时，形成多个隔室，其中每一隔室由所述工件的背面及所述台板的相应区界定。所述隔室中的每一隔室内的背面气体的压力可被单独地控制。背面气体的压力决定自所述工件传递至所述台板的热量的量。通过局部地调节背面气体的压力，所述工件的不同区可维持在不同温度。在某些实施例中，使用多个阀来控制流至所述隔室的流动速率。
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公开(公告)号：CN105993070A
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：CN201580008408.6
申请日：2015-02-04
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/683 , H02H9/00
CPC classification number: H01L21/6831 , H01J37/32715 , H01L21/67109
Abstract: 一种支撑基板的装置，可包括基座以及邻近于基座并配置来用于支撑基板表面的绝缘部分。所述装置还可包括电极系统，以提供夹持电压给基板，其中配置绝缘部分以藉由具有通道宽度的至少一通道来提供气体给基板，其中气体压力以及通道宽度的乘积小于气体的帕申最小值，其中帕申最小值为气体的崩溃电压为最小值下外壳的表面的间距与压力的乘积。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103339721B
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201280007039.5
申请日：2012-02-01
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/683
CPC classification number: H01L21/6831
Abstract: 揭示在卸除前更有效从衬底去除累积电荷的静电夹钳。目前，升降销与接地销是植入后用来从衬底去除电荷的唯一机制。本揭示描述一种静电夹钳，其在顶部介电表面中具有嵌入的导电区，例如在密封环中的环形导电区。因此，不论松开期间衬底的方向为何，衬底的至少一部分会接触在工件支撑件的介电层上的导电区。此导电区可通过使用介电层中的导电穿孔而接地。在一些实施例中，这些导电穿孔是用来将气体供应至衬底背面的流体导管。
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公开(公告)号：CN105308735A
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201480035023.4
申请日：2014-04-16
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/687 , H01L21/324
CPC classification number: H01L21/6831
Abstract: 一种静电卡盘，包括加热器及配置在加热器上的电极。此静电卡盘也包括绝缘体层及配置在绝缘体上的涂层，其中所述涂层用以支撑电极系统所产生的静电场以便吸住基板。
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公开(公告)号：CN101688295B
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN200880016940.2
申请日：2008-03-18
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: C23C14/50 , H01J37/20 , H01L21/683 , H01L21/687 , H02N13/00
CPC classification number: H02N13/00 , H01J37/20 , H01J2237/2007 , H01J2237/31701 , H01L21/6833
Abstract: 一种静电夹持装置及一种减少对耦接至静电夹持装置的工件造成污染的方法。根据一实施例，耦接工件的静电夹持装置包括位于本体的表面上的用以接触工件的浮雕部，以及位于所述本体内的至少两个电极，其中至少两个电极被所述浮雕部下方的分离部分开。
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公开(公告)号：CN102119242A
公开(公告)日：2011-07-06
申请号：CN200980131176.8
申请日：2009-06-19
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
CPC classification number: C30B11/003 , C01B33/037 , C30B11/001 , C30B28/06 , C30B29/02 , C30B29/06 , C30B29/08 , C30B29/406 , C30B29/60
Abstract: 揭示一种纯化熔体的装置。于腔室中在第一方向冷凝熔体的第一部分。在第一方向熔化第一部分的小部分。熔体的第二部分保持冷凝。从腔室流出熔体，以及从腔室移除第二部分。冷凝以在溶体及第二部分中浓缩溶质。第二部分可以是高溶质浓度的块体。此系统可以并入板形成装置及其他组件，例如泵、过滤器或微粒捕集阱。
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公开(公告)号：CN101971286A
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：CN200980102279.1
申请日：2009-01-16
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/16 , H01J2237/0213 , H01J2237/022 , H01J2237/0268 , H01J2237/31705
Abstract: 本设备包括配置于真空室的界面的衬层。一构件位于真空式内以定义该界面。该衬层配置成用以保护工件免受污染，或是用以避免因原子或离子植入界面所引起的界面产生气泡。在一些实施例中，衬层可由真空室中的界面丢弃以及移除并以新的衬层取代。在一些实施例中，此衬层可为具有粗糙面的聚合物，以碳为基质或是由纳米管构成。
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