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公开(公告)号:CN106054505A
公开(公告)日:2016-10-26
申请号:CN201610204684.6
申请日:2016-04-05
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G03B21/16
CPC classification number: G03B21/16 , G03B21/145
Abstract: 本发明提供一种投影仪,其能够抑制结露的影响。投影仪具备冷却装置,该冷却装置对作为冷却对象的电光学装置进行冷却,其中,冷却装置具备:密闭壳体,该密闭壳体在内部配置有电光学装置,在该密闭壳体中形成有供冷却空气流通的循环流路;循环风扇,该循环风扇使密闭壳体内的冷却空气循环;以及吸热器,该吸热器被配置在循环流路上,吸收密闭壳体内的冷却空气的热,密闭壳体在内侧具有形成环状的循环流路的内壁部,吸热器被配置在隔着内壁部而与电光学装置相反的一侧。
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公开(公告)号:CN104932177A
公开(公告)日:2015-09-23
申请号:CN201510093837.X
申请日:2015-03-03
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor: 长谷要
IPC: G03B21/14
CPC classification number: G03B21/142 , G03B21/16 , G03B21/2046 , G03B21/2066
Abstract: 本发明提供投影仪,通过针对温度变化允许构成部件的变形来抑制投影位置的偏移。投影仪(1)具备:具有包括光源装置(810)的光学系统的照明部(10);具有包括光调制装置(液晶面板851)的光学系统的图像形成部(20);具有包括投影透镜(861)的光学系统,结合图像形成部(20)并且与照明部(10)结合的投影部(30);及固定照明部(10)与投影部(30)中的一方,将另一方保持为能够沿与投影方向平行的方向移动的底架(50)。另外,在投影部固定于底架的情况下,投影部的第二固定部(投影用固定部32A、32B)被固定,照明部的第一固定部(照明用固定部12A~12G)以能够进行移动的方式被保持。
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公开(公告)号:CN102841491B
公开(公告)日:2015-07-08
申请号:CN201210204348.3
申请日:2012-06-18
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: G03B21/20 , F21V19/003 , F21V19/04 , F21V19/045 , F21V23/004 , G03B21/2033 , G03B21/2073 , G03B21/2093 , H04N9/315 , H04N9/3173 , H05K1/189 , H05K2201/10106
Abstract: 本发明涉及投影机,提供可谋求小型化的投影机。投影机(1)具备:光源装置(2);对从光源装置(2)出射的光束进行调制的光调制装置(5);对以光调制装置(5)调制的光束进行投影的投影光学装置;和一端连接于光调制装置(5)的柔性基板(6)。光源装置(2)包括安装于柔性基板(6)的发光元件,通过使柔性基板(6)弯曲,配设于相对于光调制装置(5)出射光束的出射位置。
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公开(公告)号:CN102841493A
公开(公告)日:2012-12-26
申请号:CN201210208837.6
申请日:2012-06-19
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: G03B21/20 , F21V19/003 , F21V19/045 , F21V23/004 , G03B21/006 , G03B21/145 , G03B21/16 , G03B21/2033 , G03B21/2046 , H04N9/315 , H04N9/3173 , H05K1/189
Abstract: 投影机,包含光源装置;调制从光源装置出射的光束的光调制装置;投影由光调制装置调制后的光束的投影光学装置;一端连接于光调制装置的柔性基板;以及收纳光源装置、光调制装置、以及投影光学装置的壳体。在壳体的配置光学调制装置的位置,形成用于将柔性基板引出到壳体外部的第一插通部和光调制装置的一部分插通的第二插通部。
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公开(公告)号:CN101963745A
公开(公告)日:2011-02-02
申请号:CN201010235955.7
申请日:2010-07-22
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: G03B21/16 , H04N9/3144
Abstract: 本发明提供利用冷却风扇的有效的配置,可以实现薄型化和/或平面尺寸的小型化的投影机。投影机1具有光学系统4,光学系统4包含光源装置410、对从光源装置410射出的光束进行调制而形成光学像的光调制元件(液晶面板441)、投影光学像的投影透镜461;该投影机1具备冷却风扇60,其对液晶面板441进行冷却,且其旋转轴C与气体排出方向构成为大致正交;其中,光学系统4,构成为俯视状态下其光源装置410的照明光轴A与投影透镜461的投影光轴B大致正交;冷却风扇60,在投影透镜461的附近配置在光源装置410的配置侧,此外其旋转轴C以沿着投影机1的厚度方向的方式配置。
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公开(公告)号:CN101937137A
公开(公告)日:2011-01-05
申请号:CN201010221447.3
申请日:2010-06-30
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: G03B21/16 , G02F1/133308 , G02F2001/133311 , G02F2001/133331
Abstract: 本发明提供能够高效地冷却液晶面板的光学装置及投影机。光学装置具备液晶面板(51),其具有元件基板(511)及对置基板(512),并根据图像信息对光束进行调制,元件基板(511)具有像素电极及与像素电极连接的开关元件,对置基板(512)与元件基板(511)相对地配设;框架(6),其对液晶面板(51)进行保持;以及入射侧防尘玻璃(52),其紧密附着地配置于对置基板(512)的光束所入射的入射侧端面(512N),防止尘埃附着于入射侧端面(512N);其中,入射侧防尘玻璃(52)其平面尺寸形成得比对置基板(512)的平面尺寸大,并配置于框架(6)的光路前级侧。
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公开(公告)号:CN119175881A
公开(公告)日:2024-12-24
申请号:CN202410803331.2
申请日:2024-06-20
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 本申请涉及支撑材料去除装置及支撑材料去除方法,抑制从三维造型物去除支撑材料时的负荷和成本。一种支撑材料去除装置,通过对由三维造型机所造型出的喷射对象物喷射液体而在喷射对象物中从三维造型物去除支撑材料,该三维造型机对于三维造型物边利用支撑材料进行支撑边进行造形,支撑材料去除装置具备:喷嘴,喷射液体;臂,抓持喷嘴;轨道计算部,基于第一形状信息和第二形状信息计算驱动臂的轨道,该第一形状信息表示附着有支撑材料的状态下的喷射对象物的形状,该第二形状信息表示已从喷射对象物去除支撑材料的状态所对应的三维造型物的形状;以及驱动部,基于由轨道计算部计算出的轨道驱动臂。
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公开(公告)号:CN113495408A
公开(公告)日:2021-10-12
申请号:CN202110284460.1
申请日:2021-03-17
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 提供投影仪,该投影仪能够简化设置。投影仪具有第1冷却对象、冷却装置和外装壳体。冷却装置具有:第1压缩部,其对气相的工作流体进行压缩;冷凝部,其将被第1压缩部压缩后的气相工作流体冷凝成液相工作流体;第1膨胀部,其对被冷凝部冷凝后的液相工作流体进行减压,使其变化为液相和气相混合的工作流体;第1蒸发部,其利用第1冷却对象的热使从第1膨胀部流入的工作流体变化为气相工作流体并向第1压缩部排出;第1配管,其连接第1压缩部和冷凝部;第2配管,其连接冷凝部和第1膨胀部;以及底座,第1压缩部、冷凝部和第1膨胀部固定于该底座。第1配管和第2配管设置于底座。
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公开(公告)号:CN108107657B
公开(公告)日:2020-08-28
申请号:CN201711146069.5
申请日:2017-11-17
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 本发明提供光学装置和投影仪,有效地冷却光学元件,能够实现小型化。该光学装置具有:光调制装置,其配置在入射的光的光轴上;以及保持部,其保持光调制装置。保持部具有:流入部,其流入从保持部的外部供给的液体;流路形成部,其具有流路,该流路沿着光调制装置的周缘配设成环状,来自流入部的液体在内部流通;以及流出部,其使流过流路的液体向保持部的外部流出。
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公开(公告)号:CN107949806B
公开(公告)日:2020-07-28
申请号:CN201680051766.X
申请日:2016-10-13
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G03B21/14 , F21K9/64 , F21V7/22 , F21V29/502 , F21V29/65 , F21V29/67 , F21V29/71 , F21V29/76 , F21V29/78 , G03B21/00 , G03B21/16 , H04N5/74
Abstract: 提供波长转换装置、照明装置和投影仪,能够高效地冷却荧光体。波长转换装置具有:基板(521),其具有包含荧光体的荧光体层(522);旋转装置(53),其使基板进行旋转;流通装置(55),其使冷却气体流通到基板;壳体(51),其收纳基板和流通装置,壳体具有间隔壁(513、514),该间隔壁(513、514)将第1空间(S2)与第2空间(S3)隔开,利用流通装置使冷却气体流通过第1空间(S2)而到达基板,通过基板的旋转而从基板呈放射状送出的冷却气体在第2空间(S3)中流通。
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