公开(公告)号：CN110730720B

公开(公告)日：2022-02-01

申请号：CN201880036110.X

申请日：2018-04-17

Applicant: 索尼公司

Inventor： 栗原研一 ,  首藤绫 ,  平井畅一 ,  大石雄纪

IPC: B41J2/475 ,  B41J2/47 ,  G11B7/0045 ,  G11B7/1395

Abstract: 根据本公开内容的实施方式的光学装置是执行针对可逆记录介质执行信息的写入和擦除中的一者或两者的装置。这种光学装置包括：在近红外区域(700nm至2500nm)中具有不同发射波长的多个激光元件；对从多个激光元件输出的激光束进行合成的光学系统；以及在可逆记录介质上对由通过光学系统进行合成而获得的合成光束进行扫描的扫描器部。

公开(公告)号：CN111511567A

公开(公告)日：2020-08-07

申请号：CN201980006796.2

申请日：2019-10-08

Applicant: 索尼公司

Inventor： 栗原研一 ,  竹内太一 ,  星光成 ,  平井畅一

IPC: B41M5/42 ,  B41J2/475 ,  B41M5/28 ,  B41M5/44 ,  B41M5/46 ,  G11B7/0045 ,  G11B7/245 ,  G11B7/246 ,  G11B7/2542 ,  G11B7/2572

Abstract: 在根据本公开内容的实施方式的绘制方法中，当在记录层上方设置有面内具有凹凸形状的透光构件的热记录介质上进行绘制时，在所述透光构件上设置具有一个表面和另一个表面的光学补偿器，使得所述一个表面与透光构件彼此面对，并且经由光学补偿器向热记录介质照射激光束。光学补偿器的所述一个表面的形状与透光构件的凹凸形状相吻合，所述另一个表面是平坦的且面对所述一个表面。

公开(公告)号：CN109937432A

公开(公告)日：2019-06-25

申请号：CN201780067555.X

申请日：2017-08-29

Applicant: 索尼公司

Inventor： 大石雄纪 ,  栗原研一 ,  浅冈聪子 ,  贝野由利子 ,  首藤绫 ,  高桥功 ,  平井畅一 ,  手岛飞鸟 ,  竹内太一 ,  梶尾祐介

IPC: G06Q50/10 ,  H04N1/00

Abstract: 根据本公开的实施方式的请求处理设备包括选择单元和输出单元。从活动期间通过拍摄获得的拍摄数据的多个实例中，所述选择单元选择与活动之前或活动期间已经接受的请求相匹配的拍摄数据的一个或多个实例。所述输出单元输出用所述选择单元选择的拍摄数据的一个或多个实例。

公开(公告)号：CN109937144A

公开(公告)日：2019-06-25

申请号：CN201780069861.7

申请日：2017-10-17

Applicant: 索尼公司

Inventor： 首藤绫 ,  栗原研一 ,  贝野由利子

IPC: B41M5/28 ,  B41M5/333 ,  B41M5/337 ,  B41M5/46

Abstract: 本公开的实施方式的可逆性记录介质包括支撑基底和在支撑基底上设置的并且在记录状态和删除状态之间可逆地改变的记录层。记录层包括：光热转化材料，其包括具有酞菁骨架的化合物、具有方酸菁骨架的化合物、具有菁骨架的化合物和无机化合物中的至少一种类型，并且具有菁骨架的化合物在其分子中包含反离子SbF6、PF6、BF4、ClO4、CF3SO3和(CF3SO3)2N，或含有五元环或六元环的次甲基链的一个或两者；具有供电子性质的显色性化合物；和具有电子接收性质并且包括由通式(1)所表示的至少一种类型的水杨酸化合物以及通过含有酰胺部分的连接基团具有25至34个碳原子的直链烃基的显色/减色剂。

公开(公告)号：CN101800176A

公开(公告)日：2010-08-11

申请号：CN201010105598.2

申请日：2010-01-28

Applicant: 索尼公司

Inventor： 赤尾裕隆 ,  贝野由利子 ,  龟井隆广 ,  原昌辉 ,  栗原研一

IPC: H01L21/316 ,  H01L21/336 ,  C23C20/08

CPC classification number: H01L21/28229 ,  C23C18/1212 ,  C23C18/122 ,  C23C18/1225 ,  C23C18/1295 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02255 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02628 ,  H01L21/02664 ,  H01L21/28211 ,  H01L27/1285 ,  H01L27/1292 ,  H01L29/6675

Abstract: 一种膜沉积方法，包括以下步骤：将含有聚硅烷化合物的溶液涂覆于基板上，形成涂层膜，然后在惰性气氛下进行第一热处理，由此使所述涂层膜形成为硅膜；在所述硅膜上形成含有聚硅烷化合物的涂层膜，然后在惰性气氛或者还原气氛下进行第二热处理，由此使所述涂层膜形成为氧化硅前体膜；和在氧化气氛下进行第三热处理，由此使所述氧化硅前体膜形成为氧化硅膜，并且同时使所述硅膜致密化。

公开(公告)号：CN1239570A

公开(公告)日：1999-12-22

申请号：CN98801354.1

申请日：1998-07-17

Applicant: 索尼公司

Inventor： 岸井典之 ,  龟井隆広 ,  栗原研一 ,  小林健 ,  岩本浩 ,  松泽伸行

IPC: G11B5/71 ,  G11B5/72 ,  C10M105/00 ,  C10N40/18

CPC classification number: C10M171/00 ,  G11B5/71 ,  G11B5/725

Abstract: 一种在其最外层中保持了有所规定单环式、二环式和三环式结构的液晶分子作为润滑剂的磁记录介质；和一种磁记录/再现装置，包含一种用于记录信息的磁记录介质，和一种用于把信息记录在磁记录介质上和/或使磁记录介质上的信息再现的磁头，其中，磁记录介质和磁头的几何平均面之间的最小间隔是50nm或以下，且有规定结构的液晶分子作为一种润滑剂保持于磁记录介质的最外层中。该润滑剂含有呈从固相向液相的相转变状态并具有介于液体与固体之间的中间性质的液晶分子。该润滑剂能通过相转变释放出滑动所产生的动能。该磁记录介质和磁记录/再现装置能满足连续滑动耐久性、低粘着性和高月牙形力等全部特征。