公开(公告)号：CN105980934B

公开(公告)日：2018-10-09

申请号：CN201580008223.5

申请日：2015-01-07

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 斯蒂芬·亨斯克 ,  V·维拉恩基

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明披露一种用于器件制造过程的由计算机实施的缺陷预测方法，该器件制造过程涉及将图案加工至衬底上，该方法包括从该图案识别出工艺窗口限制图案(PWLP)；确定所述PWLP被加工所依据的工艺参数；和使用所述工艺参数来确定或预测利用所述器件制造过程由所述PWLP产生的缺陷的存在、存在机率、特性、或其组合。

公开(公告)号：CN105980934A

公开(公告)日：2016-09-28

申请号：CN201580008223.5

申请日：2015-01-07

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 斯蒂芬·亨斯克 ,  V·维拉恩基

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G06F17/5009 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70525 ,  H01L22/20

Abstract: 本发明披露一种用于器件制造过程的由计算机实施的缺陷预测方法，该器件制造过程涉及将图案加工至衬底上，该方法包括从该图案识别出工艺窗口限制图案(PWLP)；确定所述PWLP被加工所依据的工艺参数；和使用所述工艺参数来确定或预测利用所述器件制造过程由所述PWLP产生的缺陷的存在、存在机率、特性、或其组合。

公开(公告)号：CN102662309B

公开(公告)日：2014-10-01

申请号：CN201210140632.9

申请日：2006-09-08

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 叶军 ,  斯蒂芬·亨斯克

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/36 ,  G06F17/50

CPC classification number: G06F17/5081 ,  G03F1/36 ,  G03F1/84 ,  G03F7/70441 ,  G03F7/705

Abstract: 本发明公开了系统和方法，所述系统和方法用于检验所制造的光刻掩模；从掩模检验数据中提取物理掩模数据；基于在所述物理掩模数据和掩模布局数据之间的差别确定系统的掩模误差数据；基于所述系统的掩模误差数据生成系统的掩模误差参数；形成具有系统的掩模误差参数的独立的掩模误差模型；采用特定的掩模和/或特定的投影系统预期光刻过程的图案化性能；以及预期工艺修正，所述工艺修正优化图案化性能并由此优化最终器件产量。