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公开(公告)号：CN109937384A
公开(公告)日：2019-06-25
申请号：CN201780070247.2
申请日：2017-10-02
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·A·范德凯克霍夫
Abstract: 一种辐射分析系统，包括：目标，所述目标包括彼此分离的两个标记，所述目标被配置成在用辐射照射时经历热膨胀；位置测量系统，被配置为测量标记的间隔中的变化；以及处理器，被配置为使用所测量的标记的间隔中的变化来确定辐射的功率。
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