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公开(公告)号：CN218179397U
公开(公告)日：2022-12-30
申请号：CN202222399120.6
申请日：2022-09-09
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司
IPC: F25D31/00
Abstract: 本实用新型提供了一种超吸水图案化金属纳米线薄膜，所述薄膜包括基层，所述基层的一表面具有第一微米柱阵列，所述基层的与所述一表面相反的另一表面具有第二微米柱阵列，所述第一微米柱阵列中微米柱的宽深比大于所述第二微米柱阵列中微米柱的宽深比。所述薄膜的第一微米柱阵列，由于具有较高的宽深比，可以利用毛细力增强自身的吸水效果，能有效降低莱顿弗罗斯特效应的不利影响；而第二微米柱阵列连接高温器件的表面进行传热降温，由于第二微米柱阵列具有较低的宽深比，因此能更有效地传导高温器件的热量。同时，薄膜的第二微米柱阵列和高温器件的表面之间能形成多个空腔，而空腔会保存大量的水分，从而实现加速冷却高温器件的目的。
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公开(公告)号：CN216979589U
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202220639921.2
申请日：2022-03-22
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司
Abstract: 本实用新型提供了一种基于激光直写光刻技术的抗菌结构，包括聚酯薄膜层及粘附于聚酯薄膜层上的紫外光固化胶水层，所述紫外光固化胶水层由正视为长六边形、第一矩形、第二矩形的三种形状周期性排列而成，其中，长六边形由两条长边及四条斜边构成，长边与所述斜边形成135°，两条相邻斜边均形成90°，长六边形沿长边的正交方向为行方向、长边方向为列方向进行排列，每行各相邻长六边形之间分别设置一个第一矩形，列方向上相邻的两个所述长六边形在行方向上错开一定距离，相邻行的两个长六边形的相对的两条斜边平行且两条斜边之间分别设置一个第二矩形。本实用新型采用疏水疏油的结构，极大地降低了结构表面堆积水、油的风险，从而降低细菌滋生的可能性。
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公开(公告)号：CN216979576U
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202220639918.0
申请日：2022-03-22
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司
IPC: G03B21/60
Abstract: 本实用新型提供了一种基于凹透镜微结构的抗光幕布，包括凹透镜微结构阵列及其表面上的反射层，所述凹透镜微结构阵列具有在横向和纵向周期性排列的多个凹透镜以及相邻凹透镜之间设置的隔离板。本实用新型的基于凹透镜微结构的抗光幕布，其表面具有金属喷涂层的凹透镜阵列具有很强的聚光性能，通过对投影仪出射光的汇聚，达到增强幕布上的成像亮度，降低自然光对成像的干扰，从而有效提高显示效果。本实用新型的抗光幕布具有环保、低能耗、显示效果好的优点。
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公开(公告)号：CN217170096U
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN202220792283.8
申请日：2022-04-07
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司
Abstract: 本实用新型提供了一种用于激光直写柔性显示屏的多层材料贴合设备，包括多个材料放出装置，其中每个材料放出装置用于放出一层材料；多层材料贴合装置，其用于将所述多个材料放出装置放出的多层材料进行贴合，所述每个材料放出装置包括：放出单元、方向改变单元、张力校正单元及位移同步单元。本实用新型通过多级贴合张力施加，可以有效地减少贴合过程中材料的失效，进一步提高贴合精度。
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公开(公告)号：CN215005943U
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN202121277696.4
申请日：2021-06-08
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司 , 武汉大学
IPC: G02B3/00
Abstract: 本实用新型提供了一种用于微透镜阵列制造的一体化装置，包括：用于光刻的激光直写腔、第一真空过渡舱门、用于光刻胶显影的显影转运腔、第二真空过渡舱门以及用于刻蚀加工的等离子体刻蚀腔，所述激光直写腔与所述显影转运腔通过所述第一真空过渡舱门转运样品并实现彼此隔离，所述显影转运腔与所述等离子体刻蚀腔通过第二真空过渡舱门转运样品并实现彼此隔离。本实用新型将激光直写光刻设备、显影设备、等离子体刻蚀机的多个功能集成于一体，能够实现微透镜阵列的一体化制造。由于本实用新型装置集成度高，中间步骤少，洁净度高，有效减少了芯片制造工艺中的风险。另外，本实用新型所述的装置自动化程度高，结构简单，节省了人工成本和设备成本。
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