激光蚀刻设备
    31.
    实用新型

    公开(公告)号:CN219786978U

    公开(公告)日:2023-10-03

    申请号:CN202320383222.0

    申请日:2023-02-28

    Abstract: 提供了一种激光蚀刻设备。所述激光蚀刻设备包括:激光蚀刻室;卡盘,设置在激光蚀刻室中;激光模块,朝向卡盘发射激光束;保护窗组件,在卡盘与激光模块之间;位置传感器,被构造为感测保护窗组件的位置;以及线性运动单元,被构造为移动保护窗组件。在形成孔的工艺期间从基底产生的颗粒堆积在保护窗上,所述激光蚀刻设备能够增加保护窗的替换周期。

    激光加工设备
    32.
    实用新型

    公开(公告)号:CN217647733U

    公开(公告)日:2022-10-25

    申请号:CN202221205008.8

    申请日:2022-05-19

    Abstract: 提供了激光加工设备。激光加工设备包括处理腔室、布置在处理腔室的表面中的窗、布置在处理腔室内部并且面对窗的衬底载体、通过窗向衬底载体照射激光的激光照射器、布置在处理腔室的一侧上的保护器供给器、布置在处理腔室的与处理腔室的一侧相对的相对侧上的保护器回收器以及将保护器供给器与保护器回收器连接的保护器,其中,保护器的至少一部分在处理腔室中布置在衬底载体与窗之间。

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