一种APCVD在线低辐射镀膜废气处理装置

    公开(公告)号:CN103727548B

    公开(公告)日:2016-06-08

    申请号:CN201310678781.5

    申请日:2013-12-14

    Abstract: 本发明公开一种APCVD在线低辐射镀膜废气处理装置,包括通过管道依次连通的变频废气风机(1)、焚烧炉(2)、高温静电除尘装置(3)、洗涤塔(4)、重力脱水装置(5)与引风机(6);通过各个废气处理装置的有序配合,处理高温、酸性、含尘、含氟的镀膜废气;洗涤塔(4)废液出口及重力脱水装置(5)出水口还连通有回水池(9),回水池(9)通过抽液泵(13)与冷却塔(14)与供液池(8)构成循环通路,使洗涤塔(4)中未反应完全的碱液循环利用,反应完全后的废液经泥浆泵(15)抽至压滤机(16),通过压滤机(16)的固液分离,使滤液进入废水池(10)后再经废水泵(17)喷入焚烧炉(2)燃烧处理,滤渣可回收利用,从而实现了在镀膜废气处理过程中产生废水的循环净化,达到无污染排放的目的。

    一种在浮法线上生产镀膜玻璃的装置

    公开(公告)号:CN103951272A

    公开(公告)日:2014-07-30

    申请号:CN201410194864.1

    申请日:2014-05-10

    Abstract: 本发明公开一种在浮法线上生产透明导电膜玻璃的装置,包括退火窑(40)以及设置在退火窑中的镀膜器(10),退火窑中还设有使镀膜器输出的前驱气体光致解离的激光装置,包括:设置于退火窑一侧的升降台(21),升降台上设有激光器(22)和相应的掩膜版(23),在退火窑的两侧分别设有与掩膜版对应的入射窗口(24)和出射窗口(25),激光器射入退火窑的激光束(27)位于镀膜器底部与退火窑中的玻璃板(41)之间,退火窑另一侧设有与出射窗口相对应的激光功率计(26)。本发明利用激光驱动化学气相反应的发生,降低了镀膜反应的温度,对提高薄膜质量、提高前驱气体利用率、降低锡槽能耗和锡液损耗、降低镀膜器制作成本和操作难度,具有积极效果。

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