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公开(公告)号:CN2924597Y
公开(公告)日:2007-07-18
申请号:CN200620003258.8
申请日:2004-08-06
Applicant: 兄弟工业株式会社
Inventor: 石井亮
Abstract: 本实用新型提供了一种感光构件盒,可包括感光构件,支撑该感光构件的感光构件框架,去除感光构件上的外来物质的外来物质去除构件,支撑该外来物质去除构件的外来物质去除单元和将外来物质去除单元向感光构件推进的推进构件。采用这样的结构,推进构件可朝向感光构件推进外来物质去除单元。从而,不管外来物质去除单元的安装精度如何,外来物质去除构件都可以均匀地接触感光构件。即使每次外来物质构件去除单元安装在感光构件盒上时相对于感光构件的位置都有所偏差,但仍可以实现稳定的去除外来物质的性能。
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公开(公告)号:CN2919308Y
公开(公告)日:2007-07-04
申请号:CN200520113139.3
申请日:2005-08-03
Applicant: 兄弟工业株式会社
CPC classification number: G03G21/1857 , G03G15/087 , G03G15/0887 , G03G21/1867
Abstract: 本实用新型提供了一种显影剂盒,其包括框架、显影剂提供部分、显影剂容纳部分以及延伸部分。所述框架包括第一侧壁和第二侧壁,所述第一侧壁和第二侧壁基本沿长度方向延伸。显影剂提供部分将显影剂提供到感光体盒,所述显影剂提供部分沿与长度方向基本垂直的宽度方向从第一侧壁延伸到第二侧壁。显影剂容纳部分容纳显影剂,且显影剂容纳部分在第一侧壁和第二侧壁之间沿宽度方向延伸。显影剂容纳部分包括:显影剂容纳部分在该处邻接显影剂提供部分的开口端,以及和开口端相对的闭合端。所述闭合端包括从显影剂容纳部分的基本上的最底部延伸到显影剂容纳部分的顶部的外表面。所述延伸部分包括在基本垂直于宽度方向的第一方向远离显影剂容纳部分延伸的第一延伸部分和在与第一方向不同的第二方向远离第一延伸部分延伸的第二延伸部分。
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公开(公告)号:CN2786663Y
公开(公告)日:2006-06-07
申请号:CN200520012098.9
申请日:2005-03-31
Applicant: 兄弟工业株式会社
Inventor: 石井亮
CPC classification number: G03G21/1821 , G03G15/751
Abstract: 一种能够精确地确定图像保持构件和充电装置之间相对位置的处理盒,和一种包括这种处理盒并且能够形成高质量图像的成像设备。支撑栅控式电晕充电器的上框架被提供有接纳感光鼓的辊轴的轴承构件。支撑转印辊的下框架被提供有接纳轴承构件的轴承构件接纳部分。当轴承构件接纳部分接收该轴承构件时,上框架和下框架经由该轴承构件被装配并固定。最终,上框架和下框架之间的相对位置可以被精确地确定。
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公开(公告)号:CN2731504Y
公开(公告)日:2005-10-05
申请号:CN200420065939.8
申请日:2004-07-09
Applicant: 兄弟工业株式会社
CPC classification number: G03G21/181 , G03G2221/1853 , G03G2221/1876
Abstract: 一种可拆卸地装在成像设备上的感光体盒,包括:感光体,下框架和位于上方与下框架装在一起的上框架,上框架包括与下框架接合的上接合部分,下框架包括与上框架接合的下接合部分,当将上框架装配到下框架上时,上接合部分与下接合部分反向延伸,并通过上接合部分与下接合部分之间的交迭实现上框架与下框架的接合。一种可拆卸地装配到成像设备体上的处理装置,包括:框架,感光体和定位元件。一种成像设备,包括可拆卸地装入成像设备体的处理装置。
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