半导体装置
    43.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102460711B

    公开(公告)日:2014-10-08

    申请号:CN201080025949.7

    申请日:2010-06-01

    Inventor: 森胁弘幸

    CPC classification number: H01L27/0255 G02F1/136204 H01L27/016 H01L29/7869

    Abstract: 半导体装置具备:薄膜二极管(1);和保护电路,其包括保护用二极管(20),薄膜二极管(1)具备:半导体层,其具有第1区域、第2区域以及沟道区域;栅极电极;第1电极(S1),其与第1区域和栅极电极连接;以及第2电极(D1),其与第2区域连接,薄膜二极管(1)是N型,保护用二极管(20)的阳极侧的电极与配线(3)连接,所述配线(3)与薄膜二极管(1)的栅极电极或第1电极连接,或者,薄膜二极管是P型,保护用二极管的阴极侧的电极与如下配线连接:所述配线与薄膜二极管的栅极电极或第1电极连接,保护电路不具有使得电流的流动方向与保护用二极管(20)的电流的流动方向相反地与配线(3)连接的其它的二极管。由此,可以抑制电路规模的增大并抑制由ESD导致的薄膜二极管的劣化。

    基板和液晶显示装置
    45.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103238104A

    公开(公告)日:2013-08-07

    申请号:CN201180057753.0

    申请日:2011-11-24

    Inventor: 森胁弘幸

    Abstract: 本发明的目的在于提高所供给的薄膜材料向基板表面的配置精度。母玻璃(60)中的相当于玻璃基板(21)的区域被指定为薄膜形成区域(62),在薄膜形成区域(62)的外侧配置对准标记(70)。对准标记(70)作为用于指定薄膜材料的液滴(例如,取向膜材料(24)的液滴(24a))的滴下位置的位置指定部而发挥功能。对准标记(70)包括多个岛状的凹部(73)或凸部(75)被二维地排列而设置的凹凸形状(72),在上述凹凸形状(72)中,设定表示上述凹部(73)或上述凸部(75)的位置的坐标系。在上述凹凸形状(72)的局部部位形成被供给了上述取向膜材料(24)而形成的标记(78)。本发明能应用于例如液晶显示装置。

    显示装置及其制造方法
    46.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102792217A

    公开(公告)日:2012-11-21

    申请号:CN201180012800.X

    申请日:2011-04-06

    Inventor: 森胁弘幸

    Abstract: 在将混入有包含玻璃纤维粉碎物(42)和导电性颗粒(43)中的至少一方的密封材料混入物的密封材料(40)在第1基板(30)和第2基板(20)间的外周缘部配置为框状而在密封材料(40)的内侧形成有显示区域的显示装置中,在第1基板(30)上,在密封材料(40)的宽度方向中途部,以沿着密封材料(40)的方式且以与第2基板(20)具有间隙的方式朝向第2基板(20)侧突出设置有突状肋(36)。以如下方式设定:与突状肋(36)对应的区域(SL2)的密封材料(40)中的密封材料混入物的分布密度低于比突状肋(36)靠基板外侧的区域(SL1)的密封材料(40)中的密封材料混入物的分布密度;或者在与突状肋(36)对应的区域(SL2)在密封材料(40)中未混入密封材料混入物。

    液晶显示装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN102687066A

    公开(公告)日:2012-09-19

    申请号:CN201080059723.9

    申请日:2010-11-10

    Abstract: 在第1基板和第2基板的液晶层侧,以从像素区域向边框区域侧扩展的方式形成有具有流动性的取向膜材料固化从而形成的取向膜。第1基板和第2基板中的至少一方具有支撑基板和支撑结构部,支撑结构部形成于支撑基板上,支撑结构部的至少与支撑基板相反的一侧的表面由取向膜来直接覆盖。支撑结构部具有侧部,侧部以其切平面越朝向支撑基板侧就越向该支撑结构部的外侧倾斜的方式形成。支撑结构部的侧部配置于边框区域并且支撑取向膜的端缘部。

    电路基板和显示装置
    48.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101681931B

    公开(公告)日:2011-09-14

    申请号:CN200880018540.5

    申请日:2008-05-19

    Inventor: 森胁弘幸

    Abstract: 本发明涉及电路基板和显示装置。本发明提供一种在同一基板上形成有顶栅型TFT和底栅型TFT的电路基板中,能够提高TFT的可靠性的电路基板。本发明的电路基板,在基板上设置有从基板侧起叠层栅极电极、栅极绝缘膜和半导体层的底栅型薄膜晶体管,和从基板侧起叠层半导体层、栅极绝缘膜和栅极电极的顶栅型薄膜晶体管,上述电路基板在基板与顶栅型薄膜晶体管的半导体层之间具有2个以上的绝缘膜,上述2个以上的绝缘膜包括:在基板与底栅型薄膜晶体管的栅极电极之间配置的底涂膜,和底栅型薄膜晶体管的栅极绝缘膜。

    半导体装置及其制造方法
    50.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101569016B

    公开(公告)日:2011-03-23

    申请号:CN200880001187.X

    申请日:2008-01-22

    Inventor: 森胁弘幸

    CPC classification number: H01L27/1222 H01L27/1214 H01L29/0657

    Abstract: 具备具有第一半导体层的p型TFT和具有第二半导体层的n型TFT,在第一半导体层的外侧边缘部分的至少一部分上形成有向绝缘性基板侧锥状扩大的倾斜部,在第一半导体层的内侧形成的、倾斜部表面相对于绝缘性基板的表面的倾斜角度小于在第二半导体层的内侧形成的、第二半导体层的外侧边缘部分侧面相对于绝缘性基板的表面的角度。

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