-
公开(公告)号：CN211530192U
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN202020492188.7
申请日：2020-04-07
Applicant: 桂林电子科技大学
IPC: H01Q15/00
Abstract: 本实用新型公开了一种全介质透射型超表面全相位调控器，包括所述周期性排列粒子、所述涂层和所述基底，位置从上往下依次重叠设置的是所述涂层、周期性排列的所述周期性排列粒子以及所述基底，所述周期性排列粒子包括所述水平臂和所述竖直臂，通过改变所述水平臂的长度观察透射谱的分布，最终确定所述水平臂长从而得到的透射谱，平均透射率高达80.3％，如此通过简单的结构可以具有较高的透射效率，可实现0～2π的相位调控。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
Search Results
41
records
(took 0.037 seconds)
筛选
AND
AND
过滤
NOT
NOT
Scan to Join
