包括用于从入口到出口引导流体的装置的设备

    公开(公告)号:CN101993130B

    公开(公告)日:2014-09-24

    申请号:CN201010250726.2

    申请日:2010-08-10

    CPC classification number: C02F1/325 C02F2201/3223 C02F2201/328 C02F2301/022

    Abstract: 一种包括用于从入口到出口引导流体的装置的设备,包括机壳(10),具有用于包含流体的内部空间(11);入口,用于让流体进入机壳(10);出口,用于让流体流出机壳(10);布置在机壳(10)内的元件(20);以及也布置在机壳(10)内的装置(31、32),用于围绕所述元件(20),从所述机壳(10)的入口侧向所述机壳(10)的出口侧引导流体。所述流体引导装置包括沿所述元件(20)的至少一部分延伸的两个之字形部件(31、32),其作为组合提供对所述元件(20)在圆周方向即围绕所述元件(20)的方向的完全覆盖,其中所述之字形部件(31、32)在圆周方向上部分地重叠。

    紫外线处理反应器
    53.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101678132B

    公开(公告)日:2014-01-29

    申请号:CN200780040394.1

    申请日:2007-11-02

    Inventor: K·G·伯彻

    Abstract: 一种用紫外线处理流体的装置包括:用于接收流体流的壳体,其具有流体入口、流体出口、反应腔、以及定位于反应腔中的至少第一对紫外线源和第二对紫外线源。第一对紫外线源具有上部紫外线源和下部紫外线源,它们相对彼此定位为跨度大于第二对紫外线源中的上部紫外线源和下部紫外线源之间的跨度。第二对紫外线源定位于流体流的上游或下游。随后的紫外线源或成对的紫外线源可有利地使用。该装置可与隔板布置组合地使用,其中隔板优选地定位为将流体流引导入处理区域中。

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