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公开(公告)号：CN109991733B
公开(公告)日：2021-07-30
申请号：CN201910086058.5
申请日：2016-09-27
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明是一种图案描绘装置(EX)，其是一面将来自光源(LS)的射束(LB)根据图案信息进行强度调变，一面将射束(LB)投射至基板(P)上而于主扫描方向进行扫描，藉此于基板(P)上形成图案者，且具备：扫描装置(14)，其是为了使射束(LB)于主扫描方向上扫描，而将包含使来自光源(LS)的射束(LB)偏向的偏向构件(PM)的多个扫描单元(Un)，以投射至基板(P)上的射束(LB)的扫描轨迹相互错开的方式配置；及电光偏向装置(BDU)，其是为了将来自光源(LS)的射束(LB)分时供给至多个扫描单元(Un)的各者，而将来自光源(LS)的射束(LB)切换为偏向状态或非偏向状态，并且为了使射束(LB)的扫描轨迹于与主扫描方向交叉的副扫描方向移位，而可调整射束(LB)的偏向角。
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公开(公告)号：CN109061874B
公开(公告)日：2021-05-18
申请号：CN201811074000.0
申请日：2015-04-27
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
Abstract: 一种图案描绘装置，通过激光的扫描点在被照射体上描绘出规定的图案，具备：光源装置(14)，其射出上述激光；多个描绘单元(U1～U6)，其用于入射上述激光来生成上述扫描点，包含用上述激光进行扫描的光扫描部件和光学透镜系统，并设置成使上述扫描点在上述被照射体上的不同区域进行扫描；和多个选择用光学元件(50、58、66)，其为了对是否使来自上述光源装置的上述激光向上述多个描绘单元中的被选择的上述描绘单元入射进行切换，而沿着来自上述光源装置的上述激光的行进方向直列地配置。
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公开(公告)号：CN108227408B
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：CN201711449976.7
申请日：2014-03-26
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
IPC: G03F7/24
Abstract: 提供一种能够以高生产性来生产高质量基板的基板处理装置、器件制造方法以及光罩。具备：光罩支承部件，其在照明区域内以沿着按规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式支承光罩的图案；基板支承部件，其在投影区域内以沿着规定的第二面的方式支承所述基板；以及驱动机构，其以使光罩的图案向规定的扫描曝光方向移动的方式使光罩支承部件旋转，且以使基板向扫描曝光方向移动的方式使基板支承部件移动，光罩支承部件在将第一面的直径设为φ、将第一面在与扫描曝光方向正交的方向上的长度设为L的情况下，满足1.3≤L/φ≤3.8。
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公开(公告)号：CN106597816B
公开(公告)日：2019-08-27
申请号：CN201710064288.2
申请日：2013-03-08
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明的基板处理装置具有：刻度部件，其具有刻设为环状的刻度部；处理机构，其在进入区域与脱离区域之间的圆周方向的特定位置上，在片状基板上形成图案；第1图案检测装置，其在第1检测区域内，检测沿长度方向离散或连续地形成在片状基板上的特定图案；第1读取机构，其从中心线观察而与刻度部相对地配置在与第1检测区域相同的方位上，并读取刻度部；第2图案检测装置，其在第2检测区域内，检测片状基板的特定图案；和第2读取机构，其从中心线观察而与刻度部相对地配置在与第2检测区域相同的方位上，并读取刻度部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107390480B
公开(公告)日：2019-08-13
申请号：CN201710546115.4
申请日：2014-03-26
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
IPC: G03F7/24
Abstract: 提供一种能够以高生产性来生产高质量基板的基板处理装置、器件制造方法以及光罩。具备：光罩支承部件，其在照明区域内以沿着按规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式支承光罩的图案；基板支承部件，其在投影区域内以沿着规定的第二面的方式支承所述基板；以及驱动机构，其以使光罩的图案向规定的扫描曝光方向移动的方式使光罩支承部件旋转，且以使基板向扫描曝光方向移动的方式使基板支承部件移动，光罩支承部件在将第一面的直径设为φ、将第一面在与扫描曝光方向正交的方向上的长度设为L的情况下，满足1.3≤L/φ≤3.8。
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公开(公告)号：CN110095862A
公开(公告)日：2019-08-06
申请号：CN201910225249.5
申请日：2015-04-27
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
Abstract: 一种图案描绘装置，通过激光的扫描点在被照射体上描绘出规定的图案，具备：光源装置(14)，其射出上述激光；多个描绘单元(U1～U6)，其用于入射上述激光来生成上述扫描点，包含用上述激光进行扫描的光扫描部件和光学透镜系统，并设置成使上述扫描点在上述被照射体上的不同区域进行扫描；和多个选择用光学元件(50、58、66)，其为了对是否使来自上述光源装置的上述激光向上述多个描绘单元中的被选择的上述描绘单元入射进行切换，而沿着来自上述光源装置的上述激光的行进方向直列地配置。
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公开(公告)号：CN109991733A
公开(公告)日：2019-07-09
申请号：CN201910086058.5
申请日：2016-09-27
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明是一种图案描绘装置(EX)，其是一面将来自光源(LS)的射束(LB)根据图案信息进行强度调变，一面将射束(LB)投射至基板(P)上而于主扫描方向进行扫描，藉此于基板(P)上形成图案者，且具备：扫描装置(14)，其是为了使射束(LB)于主扫描方向上扫描，而将包含使来自光源(LS)的射束(LB)偏向的偏向构件(PM)的多个扫描单元(Un)，以投射至基板(P)上的射束(LB)的扫描轨迹相互错开的方式配置；及电光偏向装置(BDU)，其是为了将来自光源(LS)的射束(LB)分时供给至多个扫描单元(Un)的各者，而将来自光源(LS)的射束(LB)切换为偏向状态或非偏向状态，并且为了使射束(LB)的扫描轨迹于与主扫描方向交叉的副扫描方向移位，而可调整射束(LB)的偏向角。
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公开(公告)号：CN109343214A
公开(公告)日：2019-02-15
申请号：CN201811075026.7
申请日：2015-04-27
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
Abstract: 一种图案描绘装置，通过激光的扫描点在被照射体上描绘出规定的图案，具备：光源装置(14)，其射出上述激光；多个描绘单元(U1～U6)，其用于入射上述激光来生成上述扫描点，包含用上述激光进行扫描的光扫描部件和光学透镜系统，并设置成使上述扫描点在上述被照射体上的不同区域进行扫描；和多个选择用光学元件(50、58、66)，其为了对是否使来自上述光源装置的上述激光向上述多个描绘单元中的被选择的上述描绘单元入射进行切换，而沿着来自上述光源装置的上述激光的行进方向直列地配置。
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公开(公告)号：CN108885408A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201780022186.2
申请日：2017-03-28
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 一种曝光装置(EX)，其一面根据图案信息对来自光源装置(LS)的光束(LBn)进行强度调变，一面将光束(LBn)投射至基板(P)上并沿主扫描方向进行扫描，藉此于基板(P)上描绘图案，且具备：扫描单元(Un)，其具有光束扫描部，该光束扫描部包含为了实现光束(LBn)的扫描而使光束(LBn)偏向的多面镜(PM)，该光检测器(DTn)对光束(LBn)被投射至基板(P)时产生的反射光进行光电检测；电光学器件(36)，其以于形成于基板(P)上的第1图案(PT1)的至少一部分，重迭地描绘应重新描绘的第2图案(PT2)的至少一部分的方式，根据图案信息而控制光束(LBn)的强度调变；及测量部(116)，其于在基板(P)上描绘第2图案(PT2)的期间，根据自光检测器(DTn)输出的检测信号(PSn)而测量第1图案(PT1)与第2图案(PT2)的相对的位置关系。
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