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公开(公告)号：CN103576434A
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：CN201310321261.9
申请日：2013-07-26
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03B21/204 , F21V7/00 , F21V13/04 , F21V13/08 , F21V13/14 , F21V29/70 , G02B6/4269 , G03B21/16 , G03B21/2013 , G03B21/2066
Abstract: 一种照明光束形成装置，包括投射环形光束组的第一光源单元、投射包括光束成组的情况的光束的第二光源单元、用于合成从第一光源单元投射出的光束组和从第二光源单元投射出的光束的合成单元，其中，合成单元包括被形成为反射光束组中的一个的反射部分、被设置为能够透射光束组中的另一个的透射部分，且当从包括反射部分的平面观察两个光束组时，从第二光源单元投射出的光束被设置在从第一光源单元投射出的光束组的内侧。本发明还提供了一种照明光源装置和一种图像显示装置。
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公开(公告)号：CN101221282B
公开(公告)日：2012-08-08
申请号：CN200710307781.9
申请日：2007-09-17
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G02B17/08 , G02B13/16 , G02B17/0812 , G02B17/0852 , G03B21/147 , G03B21/28 , H04N9/3102
Abstract: 本发明公开了一种投影光学系统，其包括：第一光学系统，其被配置为形成与第一图像共轭的第二图像；和第二光学系统，其被配置为包括反射来自第二图像的光的反射光学元件并被配置为将与第二图像共轭的第三图像投影到投影面，其中，第一光学系统包括光阑和被提供在该光阑和第二图像之间的至少一个具有正屈光力的光学元件和至少一个具有负屈光力的光学元件，并且，至少一个具有正屈光力的光学元件中具有最大正屈光力的光学元件被提供在光阑和至少一个具有负屈光力的光学元件中具有最大负屈光力的光学元件之间。
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公开(公告)号：CN102445829A
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN201110251460.8
申请日：2011-08-16
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03B21/204
Abstract: 公开了光源单元、照明设备及投影显示装置。该光源单元包括：能够被控制来旋转的圆柱形透明基底；在圆柱形透明基底的侧表面的圆柱部分上设置的多个分段区；在多个分段区中的至少两个分段区上布置不同荧光体层，不同荧光体被配置为在接收到激发光时发出指定波长带的光；以及在透明基底的内部或外部设置的激发光源，激发光源被配置为将激发光应用于荧光体。
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公开(公告)号：CN100547651C
公开(公告)日：2009-10-07
申请号：CN200680000255.1
申请日：2006-03-16
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G06T3/4023 , G09G3/007 , G09G2340/0407 , G09G2340/0457
Abstract: 一种对要输出到显示单元的图像数据执行分辨率转换的图像处理装置，包括：分辨率转换单元，被配置用来对图像数据执行分辨率转换，以便产生具有与显示单元分辨率的α倍一样高的分辨率的像素数据，其中α＞1；图像处理单元，被配置用来对像素数据执行图像处理；和抽取单元，被配置用来抽取已经执行了图像处理的像素数据以便具有等于或低于显示单元分辨率的分辨率，并且将所抽取的数据输出到显示单元。
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公开(公告)号：CN101221282A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：CN200710307781.9
申请日：2007-09-17
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G02B17/08 , G02B13/16 , G02B17/0812 , G02B17/0852 , G03B21/147 , G03B21/28 , H04N9/3102
Abstract: 本发明公开了一种投影光学系统，其包括：第一光学系统，其被配置为形成与第一图像共轭的第二图像；和第二光学系统，其被配置为包括反射来自第二图像的光的反射光学元件并被配置为将与第二图像共轭的第三图像投影到投影面，其中，第一光学系统包括光阑和被提供在该光阑和第二图像之间的至少一个具有正屈光力的光学元件和至少一个具有负屈光力的光学元件，并且，至少一个具有正屈光力的光学元件中具有最大正屈光力的光学元件被提供在光阑和至少一个具有负屈光力的光学元件中具有最大负屈光力的光学元件之间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119937227A
公开(公告)日：2025-05-06
申请号：CN202411565577.7
申请日：2024-11-05
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 本发明涉及一种可以按照焦点位置的变化来调整焦点位置的图像投影装置，该图像投影装置具备：光源；图像光生成部（2），用于接受从所述光源射出的光，生成图像光；以及投射光学系统（3），将所述图像光生成部（2）生成的所述图像光投射到投影面(P)上，图像投影装置被配置为投射具有规定光能的第一图像光时的焦点位置（b）和投射具有大于所属第一图像光的光能的第二图像光时的焦点位置（a）各自位于至少一部分所述投影面（P）的两侧。
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公开(公告)号：CN114563907B
公开(公告)日：2025-04-04
申请号：CN202111329870.X
申请日：2021-11-10
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 本发明涉及光源装置、图像投射装置及光源光学系统，其目的在于实现图像投射装置的小型化和光利用的高效率化。本发明的光源装置的特征为，具备将从光源出射的第一色光的至少一部分变换为与所述第一色光不同的第二色光后射出的多个光源部，以及将从多个光源部分别射出的第二色光的发光区域的多个共轭像形成为在使第二色光均化后射出的光均匀化元件的入射面上彼此邻接并且部分重叠的合成像的合成部，所述合成像的形成条件为，当设光均匀化元件的入射面上形成的多个共轭像中光强度为峰值强度的1/e2以上的部分的面积，即合成像的面积为SC，光均匀化元件的入射面的面积为SI时，满足条件式1.3＞SC/SI＞0.7。
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公开(公告)号：CN119472150A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202410986766.5
申请日：2024-07-23
Applicant: 株式会社理光
IPC: G03B21/20
Abstract: 本发明提供可在光源装置照射的光的照度低于规定照度时减少照度不均的光源装置和投影装置。光源装置具有从一个以上第一发光部射出第一光的第一光源部；从一个以上第二发光部射出第二光的第二光源部；可供入射的第一光及第二光透射的光透射部件；以及个别地驱动一个以上第一发光部和一个以上第二发光部的驱动部，照射经光透射部件透射的第一光及第二光，驱动部个别地减小第一光的光量和第二光的光量，或者个别地熄灭一个以上第一发光部和一个以上第二发光部，在从与光透射部件的中心轴正交的方向观察光透射部件时，第一光以与中心轴构成正角度入射光透射部件，第二光以与中心轴构成负角度入射光透射部件。
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公开(公告)号：CN114114796B
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202110999180.9
申请日：2021-08-27
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 本发明涉及可以提高投影图像对比度的图像投影装置，图像投影装置具备，光源，发射照明光；图像显示元件，其中具有多个微镜，通过改变各个微镜的反射面相对于该多个微镜的二维设置所形成的面即图像显示面的角度，改变照明光在反射面受到反射的反射光的方向；以及投射光学系统，用于将图像显示元件生成的反射光作为投影图像投射到被投射面，微镜的反射面相对于图像显示面的最大倾角θ1满足以下式(1)，图像显示面的对角线长度L以及投射光学系统的图像显示面最接近透镜的镜面的顶点与图像显示面之间在该投射光学系统的光轴上的距离BF满足以下式(2)，θ1≥14(1)，θ1的单位是deg，1.2＜BF/L＜2.2(2)。
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公开(公告)号：CN114995035B
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202210716647.9
申请日：2020-10-27
Applicant: 株式会社理光
IPC: G03B21/20
Abstract: 本发明的目的在于提供可以实现小型化并降低成本的光源装置和图像投影装置。本发明涉及的光源装置具备，射出第一色光的光源(101)；具有用于反射从光源(101)射出的第一色光的反射面(102a)的光学部件(102)；用于经过光学部件(102)反射的第一色光入射并将该第一色光转换为与第一色光具有不同波长的第二色光后射出的波长转换单元(103)，从波长转换单元(103)射出的第一色光的光束(Q)不通过光学部件(102)的反射面(102a)上的第一色光的投影图像中心点(P)，以及在光源和波长转换单元之间具有第一光学系统、第二光学系统和折射光学系统，第二光学系统和折射光学系统之间具有受到所述波长转换单元反射的激励光的聚光部。
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