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公开(公告)号：CN115894090A
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN202211439213.5
申请日：2022-11-17
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: C04B41/91
Abstract: 本发明公开了一种在脆硬材料表面制备高增透亚波长结构的方法，包括：制备待加工脆硬材料样品；对硬脆材料样品表面进行辐照改性，对硬脆材料样品表面进行扫描，对目标改性区域进行活化；在无掩模情况下，利用离子刻蚀技术对活化区域进行精准去除，获得亚波长增透结构；超声清洗，洁净空气吹干。本发明使用飞秒激光对硬脆材料表面进行精确辐照，使材料内部的结晶态发生转变，赋予材料表面一定的活性，在无掩模情况下利用离子刻蚀技术对改性区域进行精准去除，在硬脆材料表面获得亚波长增透结构，不但消除了飞秒激光加工过程中碎屑飞溅的影响，同时解决了离子刻蚀手段在面临超高硬度、低化学活性晶体材料时普遍存在的刻蚀效率低下的问题。
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公开(公告)号：CN112611741B
公开(公告)日：2022-03-04
申请号：CN202011417600.X
申请日：2020-12-07
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种用于光学元件表面荧光特性颗粒检测的装置及方法，包括：紫外荧光成像系统，其连接有控制电脑；运动机构，紫外荧光成像系统设置在运动机构上；将紫外荧光成像系统固定于运动机构上，将光学元件放置于底座内；通过运动机构的支架调整紫外荧光成像系统与光学元件的距离，使其成像最清晰；控制电脑控制紫外荧光成像系统，使用CCD相机拍照并分析检测结果；通过运动机构的纵向导轨、横向导轨和竖直导轨移动紫外荧光成像系统，并重复进行拍照分析，完成对光学元件的抽样检测。本发明可根据成像镜头的工作距离，通过运动机构调节紫外荧光成像系统与光学元件之间的距离。本发明检测方法为无损检测，与光学元件无接触，无二次污染产生。
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公开(公告)号：CN114018922A
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN202111301289.7
申请日：2021-11-04
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供了一种微纳光纤湿度传感器及其制备方法和应用，属于微纳光纤传感技术领域。本发明提供了一种微纳光纤湿度传感器的制备方法，包括以下步骤：在微纳光纤的部分表面形成敏感膜层，所述敏感膜层的材质包括SnO2、Al2O3、Ta2O5、石墨烯、SiO2和MnO2的一种或多种；在所述微纳光纤的剩余部分表面涂覆聚二甲基硅氧烷(PDMS)后固化，得到所述微纳光纤湿度传感器。本发明采用敏感膜层结合微纳光纤传感的方法，对环境湿度具有良好的湿度响应性能，可实现大范围湿度传感，提高对湿度检测的灵敏度；采用有机聚合物PDMS树脂作为柔性封装，生物兼容性好，可用于人体呼吸监测。
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公开(公告)号：CN111272772A
公开(公告)日：2020-06-12
申请号：CN202010189521.1
申请日：2020-03-18
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/94
Abstract: 本发明公开了一种基于微纳光纤长周期光栅的有机污染物在线监测装置及方法，包括：用于发出光源的超连续谱光源，其出射光的光路上依次连接有传感单元和光纤光谱仪，所述超连续谱光源上连接有控制电脑；其中，所述传感单元包括微纳光纤长周期光栅和包裹在微纳光纤长周期光栅表面的用于吸附有机污染物的溶胶-凝胶膜层。利用光在传感单元中传输，会形成调制，形成波谷，当镀有溶胶-凝胶敏感膜层的微纳光纤长周期光栅吸附有机污染物后，其表面折射率发生改变，同时影响表面倏逝波的传输特性，导致谐振波长发生变化，最后利用光纤光谱仪对这种偏移进行监测并反推空间中有机污染物浓度的变化，最终实现对有机污染物浓度的在线监测。
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公开(公告)号：CN110849897A
公开(公告)日：2020-02-28
申请号：CN201911291679.3
申请日：2019-12-16
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种光学元件表面非接触式洁净监测及处理系统，包括：光传输管道或箱体；光学元件支撑单元，其设置在光传输管道或箱体的底部；光学元件倾斜设置在光学元件支撑单元上；照明单元，其设置在光学元件支撑单元上；风刀单元，其设置在光学元件支撑单元上，其风刀单元位于光学元件的上边缘；相机监测单元，其设置在光传输管道或箱体的上方，且相机监测单元的照射镜头与光学元件的表面垂直。本发明的光学元件表面非接触式洁净监测及处理系统，可以实现对光学元件表面颗粒污染物的实时拍照采样，通过对污染物的粒径及分布信息进行统计，记录表面颗粒污染物的变化情况；该系统采用风刀单元可以实现对光学元件表面颗粒污染物的有效去除。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106896428B
公开(公告)日：2018-12-28
申请号：CN201710258100.8
申请日：2017-04-19
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B3/00
Abstract: 本发明公开了一种平面透镜的制备方法，包括：采用高折射率的纳米流体材料溶液滴加到疏松多孔、折射率低、损伤阈值高的凝胶块体材料上，通过纳米流体材料在凝胶块体材料中的扩散，利用纳米流体材料物理特性及凝胶块体材料孔洞结构，使纳米流体材料渗透后的凝胶块体材料折射率渐变(从中间横向纵向扩散或从边缘层层扩散)来制备平面透镜的方法，该方法过程简单，通过纳米流体材料和凝胶块体材料的选择，可以较好地控制形成透镜的折射率，形成的透镜比基于玻璃材料的透镜透过率更高，由本发明的方法形成的连续渐变折射率透镜，可以免去传统玻璃基透镜繁琐的制备工序，无需研磨、抛光等过程，节约生产成本，是一种较为理想的连续渐变折射率透镜。
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公开(公告)号：CN108971045A
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：CN201811243263.X
申请日：2018-10-24
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B08B1/00
Abstract: 本发明公开了一种用于光学元件在线表面洁净处理的装置，包括：水平运动机构，其包括导轨单元、水平滑块、水平丝杆、以及伺服电机；竖直伸缩机构，其包括竖直连接在水平滑块上的支撑块和连接在支撑块上的可伸缩机械臂；洁净处理机构，其包括连接在可伸缩机械臂顶端的水平支撑臂、连接在水平支撑臂末端的擦拭机构、连接在水平支撑臂上的无尘布传送机构、以及连接在支撑块上的无尘布收集机构；其中，无尘布传送机构上的无尘布绕过擦拭机构后收集在无尘布收集机构上；酒精擦拭辅助机构，其包括酒精壶和与酒精壶连通的抽送泵，抽送泵的输出端通过导管连接至擦拭机构。该装置可用于对光学元件的表面进行在线洁净处理，操作简单便捷。
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公开(公告)号：CN106645197A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201611233039.3
申请日：2016-12-29
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/94
CPC classification number: G01N21/94
Abstract: 本发明公开了一种检测精密光学元件表面颗粒物的在线检测系统，包括：箱体，其顶部设置有可供激光进入的入光口；设置在箱体内部的光学元件；其中，所述光学元件的镜框边缘上方相对设置有2个线光源；所述箱体一侧设置有光学显微成像装置；所述成像装置通过与其通信连接的上位机进而实现对光学元件表面颗粒物的在线检测。本发明提供一种检测精密光学元件表面颗粒物的在线检测系统，其能够通过光学元件与线光源，上位机与光学显微成像装置的配合，实现对光机装置中光学元件表面颗粒污染物的在线监测，并高效、高精度地实时提供光学元件表面洁净状态信息。本发明提供一种应用检测系统的方法。
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公开(公告)号：CN106370793A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：CN201610944245.9
申请日：2016-10-25
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N33/00
CPC classification number: G01N33/0047
Abstract: 本发明提供了一种可挥发有机污染物探测装置，所述装置采用基于声表面波技术的传感器作为探测器，四个探测器的信号通过同轴线缆传输给多路复用器，单片机控制多路复用器的通道切换，经过多路复用器选择的信号传给频率计数器，频率计数器输出探测器的频率信息经过计算机处理后，获得探测器的频率信号相对于探测器中心稳定频率的变化，进而得到可挥发有机污染物的吸附浓度。本装置的探测器中的敏感膜饱和后，可采用酒精冲洗解除敏感膜的表面吸附，敏感膜能够重复使用。本发明的可挥发有机污染物探测装置能够实现对污染物分窗口实时监测，测量精度高。
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公开(公告)号：CN105750272A
公开(公告)日：2016-07-13
申请号：CN201610245993.8
申请日：2016-04-20
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
CPC classification number: B08B7/0007 , B08B7/0021 , B08B13/00
Abstract: 本发明提供了一种自动化干法清洗装置。所述清洗装置中的高压二氧化碳气体经高压气管顺序通过控压阀、电控阀门、空气过滤器、以及智能喷射探头中的文丘里管喷出，变成固体、液体、气体混合物从而清除工件表面残留颗粒污染物。智能喷射探头兼具监测工件位置状态的功能。五自由度电位移台带动被清洗件完成自动清洗，以及调节被清洗件与文丘里管之间的距离和相对角度。长焦距显微镜的观察范围与文丘里管喷射出的二氧化碳气流在被清洗工件表面的覆盖区域一致，用于实时观察和记录清洗效果。本发明能够在保证清洗效率和清洗后工件表面洁净度稳定性的情况下，利用干法清洗方式实现去除半导体器件、光学镜片、金属器件等表面残留的微米、亚微米颗粒的目的。
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