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公开(公告)号：CN119024654A
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202410424324.1
申请日：2024-04-10
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: G03F7/32
Abstract: 提供一种形成图案的方法，所述方法包括在衬底上涂覆含金属抗蚀剂组合物；进行干燥并加热以在衬底上形成含金属抗蚀剂膜；使用经图案化掩模对含金属抗蚀剂膜进行曝光；以及涂覆显影剂组合物以移除未曝光区，进而形成抗蚀剂图案。与显影前抗蚀剂膜的厚度相比，显影后抗蚀剂膜的厚度增加了约5％到约100％，且基于原子总数计，显影后的抗蚀剂膜的表面可包含约5at％到约20at％的选自磷元素及硫元素中的至少一者。
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公开(公告)号：CN119024641A
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202410640016.2
申请日：2024-05-22
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 一种被配置用于从含金属抗蚀剂移除边珠和/或作为含金属抗蚀剂的显影剂组合物的组合物是无水的，并且包含有机溶剂和选自氨基酸类化合物、含硫的酸化合物和含硫的胺类化合物中的至少一种添加剂。一种组合物、使用所述组合物形成图案的方法及形成图案的系统，所述方法包括：在衬底上涂布含金属的抗蚀剂组合物；沿着衬底的边缘涂布本实施例的被配置用于从含金属抗蚀剂移除边珠的所述组合物；进行干燥和加热以在衬底上形成含金属的抗蚀剂膜；对含金属的抗蚀剂膜进行曝光；以及利用含金属抗蚀剂的显影剂组合物对含金属的抗蚀剂膜进行显影。
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公开(公告)号：CN115685674A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202210845633.7
申请日：2022-07-19
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂底层组合物，所述抗蚀剂底层组合物包含：聚合物，包含主链、侧链或包含在环中包含两个或大于两个氮原子的杂环的主链和侧链；化合物，包含由化学式1表示的部分；以及溶剂；以及一种使用抗蚀剂底层组合物形成图案的方法：化学式1的定义与实施方式中所描述的相同。[化学式1]
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公开(公告)号：CN115598942A
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN202210794402.8
申请日：2022-07-07
Applicant: 三星SDI株式会社(KR) , 三星电子株式会社(KR)
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明提供了一种从含金属的抗蚀剂去除边缘珠的组合物，及包括使用组合物去除边缘珠的步骤的形成图案的方法。该从含金属的抗蚀剂去除边缘珠的组合物包含有机溶剂、以及被至少一个羟基(‑OH)取代的七角环化合物，其中该七角环化合物在该环中具有至少两个双键。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113138532A
公开(公告)日：2021-07-20
申请号：CN202110056902.7
申请日：2021-01-15
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂底层组合物，包含：(A)包含由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的化合物或其组合的聚合物；(B)包含其中由化学式3或化学式4表示的部分中的至少一个和由化学式7表示的部分彼此键结的结构的聚合物；以及(C)溶剂；且还公开一种使用抗蚀剂底层组合物形成图案的方法，化学式1到化学式4和化学式7的定义如说明书中所描述。
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公开(公告)号：CN106883380B
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201611079474.5
申请日：2016-11-30
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C08G61/02 , C08L65/00 , C09D165/00 , G03F7/00 , G03F7/09
Abstract: 本发明涉及一种聚合物、有机层组合物及形成图案的方法。所述聚合物包含由化学式1表示的结构单元：其中Ar1及Ar2独立地为经取代或未经取代的苯环或包含两个至四个稠合的经取代或未经取代的苯环的芳环，A1及A2独立地为经取代或未经取代的芳环，其限制条件是A1及A2中的至少一者经氢可键结官能基取代，且A1的氢可键结官能基的数量与A2的氢可键结官能基的数量的总和大于或等于3，L为二价有机基，且＊为连接点。本发明的聚合物具有令人满意的溶解性特征以及优异的机械特征、耐蚀刻性及耐热性。[化学式1]所述化学式1与具体实施方式中所定义的相同。
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公开(公告)号：CN106046695B
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201510919236.X
申请日：2015-12-11
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C08K5/18 , C08G2261/12 , C08G2261/124 , C08G2261/135 , C08G2261/1424 , C08G2261/3142 , C08G2261/3162 , C08G2261/3424 , C08G2261/344 , C08G2261/76 , C08K5/06 , C08K5/07 , C08K5/13 , C08L65/00 , G03F7/11 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/36
Abstract: 本发明涉及有机层组合物，所述有机层组合物包含具有经取代或未经取代的芴结构的聚合物、由下述化学式1表示的添加剂、以及溶剂；通过固化所述有机层组合物形成的有机层；以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述有机层组合物能够改善间隙填充特征和平坦化特征以及耐蚀刻性。化学式1中各符号的定义与实施方式中所定义相同。
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公开(公告)号：CN106046695A
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201510919236.X
申请日：2015-12-11
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C08K5/18 , C08G2261/12 , C08G2261/124 , C08G2261/135 , C08G2261/1424 , C08G2261/3142 , C08G2261/3162 , C08G2261/3424 , C08G2261/344 , C08G2261/76 , C08K5/06 , C08K5/07 , C08K5/13 , C08L65/00 , G03F7/11 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/36 , C08G61/12 , G03F7/0035
Abstract: 本发明涉及有机层组合物，所述有机层组合物包含具有经取代或未经取代的芴结构的聚合物、由下述化学式1表示的添加剂、以及溶剂；通过固化所述有机层组合物形成的有机层；以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述有机层组合物能够改善间隙填充特征和平坦化特征以及耐蚀刻性。化学式1中各符号的定义与实施方式中所定义相同。
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公开(公告)号：CN117616109A
公开(公告)日：2024-02-27
申请号：CN202280047982.2
申请日：2022-06-27
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C11D7/26 , H01L21/027 , G03F7/20 , G03F7/004
Abstract: 提供一种用于从含金属抗蚀剂中去除边珠的组合物以及一种形成图案的方法，所述方法包括使用所述组合物来去除边珠的步骤，且所述组合物包括有机溶剂及经至少一个羟基(‑OH)取代的环状化合物，其中所述环状化合物具有5至30的碳数，且所述环状化合物在环中具有至少一个双键。
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