公开(公告)号：CN111352300B

公开(公告)日：2023-07-25

申请号：CN201911326113.X

申请日：2019-12-20

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 林栽范 ,  金瑆焕 ,  金昇炫 ,  金兑镐 ,  朴裕信 ,  梁善暎

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、硬掩模层及形成图案的方法。硬掩模组合物包含由化学式1表示的化合物和溶剂：[化学式1]在化学式1中，A、B以及n的定义与详细描述中描述的相同。本发明的硬掩模组合物及硬掩模层具有改进的耐蚀刻性和耐化学性。

公开(公告)号：CN110734528B

公开(公告)日：2022-07-05

申请号：CN201910644580.0

申请日：2019-07-17

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金瑆焕 ,  朴裕信 ,  郑铉日

IPC: C08G8/04 ,  G03F7/004 ,  G03F7/16

Abstract: 本申请公开一种包含由化学式1表示的第一化合物与由化学式2表示的第二化合物的反应产物的聚合物、包含聚合物的有机层组合物以及使用有机层组合物形成图案的方法。根据本发明的有机膜组合物在通过旋涂方法施加时可具有改进的平坦化特征和间隙填充特征，同时确保耐蚀刻性。[化学式1](CHO)n1‑Ar1‑X‑Ar2‑(CHO)n2[化学式2]Ar3‑(OH)m化学式1及化学式2的定义与在说明书中的描述相同。

公开(公告)号：CN106883380B

公开(公告)日：2019-11-19

申请号：CN201611079474.5

申请日：2016-11-30

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 南沇希 ,  金瑆焕 ,  金旼秀 ,  朴惟廷 ,  郑瑟基

IPC: C08G61/02 ,  C08L65/00 ,  C09D165/00 ,  G03F7/00 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明涉及一种聚合物、有机层组合物及形成图案的方法。所述聚合物包含由化学式1表示的结构单元：其中Ar1及Ar2独立地为经取代或未经取代的苯环或包含两个至四个稠合的经取代或未经取代的苯环的芳环，A1及A2独立地为经取代或未经取代的芳环，其限制条件是A1及A2中的至少一者经氢可键结官能基取代，且A1的氢可键结官能基的数量与A2的氢可键结官能基的数量的总和大于或等于3，L为二价有机基，且＊为连接点。本发明的聚合物具有令人满意的溶解性特征以及优异的机械特征、耐蚀刻性及耐热性。[化学式1]所述化学式1与具体实施方式中所定义的相同。

公开(公告)号：CN111542558B

公开(公告)日：2023-07-25

申请号：CN201880079125.4

申请日：2018-09-17

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 郑铉日 ,  金瑆焕 ,  金昇炫 ,  朴裕信 ,  朴惟廷 ,  辛乘旭 ,  林栽范

IPC: C08G61/12 ,  C09D183/04 ,  G03F7/11 ,  G03F7/09 ,  H01L21/027 ,  H01L21/033

Abstract: 本公开是有关于一种聚合物、包含所述聚合物的有机膜组成物以及使用所述有机膜组成物形成图案的方法，其中所述聚合物包括由化学式1表示的结构单元、以及由化学式2或3表示的结构单元。化学式1至3的定义与在说明书中的描述相同。[化学式1]；[化学式2]；[化学式3]

公开(公告)号：CN110713588B

公开(公告)日：2022-08-09

申请号：CN201910618657.7

申请日：2019-07-10

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 林栽范 ,  梁善暎 ,  金瑆焕 ,  金昇炫 ,  朴裕信

IPC: C08G61/10 ,  G03F7/11 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明公开一种硬掩模组合物、硬掩模层以及形成图案的方法，所述硬掩模组合物包括聚合物及溶剂，所述聚合物包括经取代的亚联苯基结构单元，其中所述经取代的亚联苯基结构单元包括具有羟基的C6到C30芳基以及具有羟基的C3到C30杂芳基中的至少一者。

公开(公告)号：CN106188504B

公开(公告)日：2019-11-19

申请号：CN201510409508.1

申请日：2015-07-13

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 南沇希 ,  金昇炫 ,  权孝英 ,  金瑆焕 ,  南宫烂 ,  文秀贤 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  宋炫知 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC: C08G61/12 ,  C08G65/00 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种聚合物、包含所述聚合物的有机层组合物、由所述有机层组合物制成的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述聚合物包含用化学式1表示的部分，所述化学式1的定义与具体实施方式中所定义的相同。所述聚合物同时确保抗蚀刻性和平面化特征。

公开(公告)号：CN109983053A

公开(公告)日：2019-07-05

申请号：CN201780069472.4

申请日：2017-07-21

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 郑铉日 ,  金瑆焕 ,  金昇炫 ,  朴裕信 ,  林栽范

IPC: C08G61/12 ,  C08G61/02 ,  H01L21/027 ,  H01L21/033 ,  G03F7/00 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明揭示一种聚合物，包含由化学式1表示的结构单元及由化学式2表示的结构单元；一种包含所述聚合物的有机膜组成物；以及一种使用所述有机膜组成物形成图案的方法。化学式1及化学式2与本说明书中所定义相同。

公开(公告)号：CN105622364A

公开(公告)日：2016-06-01

申请号：CN201510725055.3

申请日：2015-10-29

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 南沇希 ,  权孝英 ,  金瑆焕 ,  金昇炫 ,  南宫烂 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  文秀贤 ,  郑瑟基 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC: C07C43/23 ,  C07C49/84 ,  C08G61/12 ,  C08G61/04 ,  G03F7/00

CPC classification number: C07C43/23 ,  C07C2603/50 ,  C07C2603/52 ,  C08G61/02 ,  C08G2261/1422 ,  C08G2261/1424 ,  C08G2261/312 ,  C08G2261/314 ,  C08G2261/3424 ,  C08G2261/362 ,  C08G2261/45 ,  C08G2261/72 ,  C09D165/00 ,  C07C49/84 ,  C08G61/04 ,  C08G61/122 ,  G03F7/0035

Abstract: 本发明提供一种同时确保耐蚀刻性和平坦化特征的单体、聚合物、有机层组成物、有机层及形成图案的方法，其中，本发明公开由化学式1表示的单体、由化学式2表示的聚合物、包含用于有机层的化合物(即单体、聚合物或其组合)的有机层组成物、由有机层组成物制造的有机层以及通过固化有机层组成物获得的有机层。化学式1和化学式2与具体实施方式中所定义的相同。

公开(公告)号：CN119431748A

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202410984765.7

申请日：2024-07-22

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金瑆焕 ,  朴相熙 ,  金惠廷 ,  崔世一 ,  金修熙

IPC: C08G61/12 ,  G03F7/11 ,  G03F1/38 ,  G03F1/48 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40 ,  C08G8/20

Abstract: 一种硬掩模组合物、由所述硬掩模组合物制造的硬掩模层以及使用由所述硬掩模组合物制造的硬掩模层形成图案的方法，所述硬掩模组合物包含：聚合物，包括由以下化学式1表示的结构单元；以及溶剂，[化学式1]#imgabs0#

公开(公告)号：CN111383912B

公开(公告)日：2023-02-28

申请号：CN201911354471.1

申请日：2019-12-25

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金昇炫 ,  朴裕信 ,  朴亨锡 ,  金瑆焕 ,  郑铉日

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明公开一种硬掩模组成物、硬掩模层以及形成图案的方法，硬掩模组成物包含聚合物和溶剂，聚合物包含由化学式1表示的结构单元。在化学式1中，A和B的定义与详细描述中所描述的相同。[化学式1]。