光掩模坯料及其制造方法、光掩模、图案转印方法及溅射装置

    公开(公告)号:CN103424984B

    公开(公告)日:2019-04-05

    申请号:CN201310182559.6

    申请日:2013-05-16

    Abstract: 本发明涉及光掩模坯料及其制造方法、光掩模、图案转印方法及溅射装置。本发明提供光学浓度等特性的偏差小且缺陷少品质高、并且具有高蚀刻速度的功能性膜的制造技术。本发明的光掩模坯料的制造方法中,在制造透明衬底上具备至少一层功能性膜的光掩模坯料时,功能性膜由含有铬元素和与铬的混合体系成为液相的温度为400℃以下的金属元素的铬系材料构成,在形成该功能性膜的工序中,使铬靶(靶A)和以至少一种所述金属元素作为主要成分的靶(靶B)同时溅射(共溅射:Co‑Sputtering)。另外,除了可以采用上述靶A和靶B各使用一个的方式以外,还可以采用其中任意一种靶使用多个的方式或两种靶都使用多个的方式。

    光掩模坯料、光掩模的制造方法以及相移掩模的制造方法

    公开(公告)号:CN103424980B

    公开(公告)日:2016-05-25

    申请号:CN201310182376.4

    申请日:2013-05-16

    CPC classification number: G03F1/26 G03F1/30 G03F1/54 G03F1/80

    Abstract: 本发明涉及光掩模坯料、光掩模的制造方法以及相移掩模的制造方法。本发明提供能够在确保由铬系材料构成的遮光膜所要求的光学特性和化学特性等各种特性的同时提高该遮光膜的干蚀刻速度的新技术。设置在透明衬底(1)上的遮光膜(2)具有单层结构或多层结构,至少一层由含有锡的铬系材料形成。另外,该遮光膜(2)的光学浓度为2以上且4以下并且具有防反射功能。构成遮光膜(2)的由含有锡的铬系材料构成的层能够在不使遮光性降低的情况下显著提高含氧的氯类干蚀刻时的蚀刻速度。因此,将图案转印到该遮光膜上时对抗蚀剂图案和硬掩模图案的负荷得到减轻,能够以高精度进行图案转印。

    环氧树脂组合物
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119998351A

    公开(公告)日:2025-05-13

    申请号:CN202380072690.9

    申请日:2023-10-04

    Abstract: 本发明为一种环氧树脂组合物,其包含(A)在一分子内包含2个以上环氧基的环氧树脂、(B)下述式(1)所表示的含介晶基团的聚有机硅氧烷、(C)环氧树脂固化剂。可提供一种包含具有介晶基团的聚有机硅氧烷的环氧树脂组合物。在式(1)中,R1彼此独立地表示选自碳原子数为1~12的烷基、碳原子数为6~12的芳基及碳原子数为7~12的芳烷基中的基团或羟基,p为0~100的整数,R2彼此独立地表示下述式(2)或式(3),在式(2)及式(3)中,R3及R4彼此独立地表示氢原子或碳原子数为1~10的一价烃基,L为碳原子数为1~12的二价烃基,a及b为0~4的整数,G为缩水甘油基。#imgabs0##imgabs1##imgabs2#

    微小构造体移载用压印部件
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116615798A

    公开(公告)日:2023-08-18

    申请号:CN202180084291.5

    申请日:2021-11-16

    Abstract: 本发明提供一种微小构造体移载用压印部件,其特征在于,在基板上形成有有机硅系橡胶膜,与所述基板为相反侧的所述有机硅系橡胶膜表面具有一个以上的封闭凹部,该封闭凹部在表面开口部以外封闭。由此,可提供一种能够在短时间内优化有机硅系橡胶膜压印表面的临时粘接力的微小构造体移载用压印部件。

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