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公开(公告)号：CN108431931B
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN201680075204.9
申请日：2016-12-20
Applicant: 巴斯夫欧洲公司
IPC: H01L21/321 , C11D3/00 , C11D3/37 , C11D11/00
Abstract: 本发明描述了一种化学机械抛光后(CMP后)清洁组合物，其包含或由以下组成：(A)选自由如下组成的组的一种或多种非离子聚合物：聚丙烯酰胺、聚羟乙基(甲基)丙烯酸酯(PHE(M)A)、聚乙烯吡咯烷酮(PVP)、聚乙烯醇(PVA)、式(I)的聚合物和其混合物，其中R1为氢、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基或仲丁基，R2为氢或甲基，且n为整数，(B)质量平均摩尔质量(Mw)为至多10,000g/mol的聚(丙烯酸)(PAA)或丙烯酸‑马来酸共聚物，和(C)水，其中所述组合物的pH在7.0至10.5范围内。
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公开(公告)号：CN108473918A
公开(公告)日：2018-08-31
申请号：CN201680075224.6
申请日：2016-12-20
Applicant: 巴斯夫欧洲公司
IPC: C11D3/37 , C11D11/00 , H01L21/02 , H01L21/321
CPC classification number: C11D11/0047 , C11D3/3707 , C11D3/3719 , C11D3/3765 , C11D3/378 , C11D3/3784 , C11D11/0035 , H01L21/02074
Abstract: 本发明描述了一种化学机械抛光后(CMP后)清洁组合物，其包含或由以下组成：(A)质量平均摩尔质量(Mw)在400至8,000g/mol范围内的聚乙二醇(PEG)，(B)选自由如下组成的组的阴离子聚合物：聚(丙烯酸)(PAA)、丙烯酸-马来酸共聚物、聚天冬氨酸(PASA)、聚谷氨酸(PGA)、聚乙烯基膦酸、聚乙烯基磺酸、聚(苯乙烯磺酸)、聚羧酸酯醚(PCE)、PEG-亚磷酸和这些聚合物的共聚物，和(C)水，其中所述组合物的pH在7.0至10.5范围内。
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公开(公告)号：CN107109134A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580069662.7
申请日：2015-12-22
Applicant: 巴斯夫欧洲公司
IPC: C09G1/02
CPC classification number: C09G1/02 , B24B37/20 , C09K3/1409 , C23F3/06 , H01L21/3212 , H01L21/7684
Abstract: 本发明涉及化学机械抛光(CMP)组合物(Q)在化学机械抛光包含(i)钴和/或(ii)钴合金的基材(S)中的用途，其中该CMP组合物(Q)包含：(A)无机颗粒，(B)作为腐蚀抑制剂的具有至少一个羧酸官能团的经取代芳族化合物，(C)至少一种氨基酸，(D)至少一种氧化剂，(E)含水介质，其中该CMP组合物(Q)的pH为7至10。
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公开(公告)号：CN119325501A
公开(公告)日：2025-01-17
申请号：CN202380043987.2
申请日：2023-05-26
Applicant: 巴斯夫欧洲公司
IPC: C11D1/04 , C11D1/10 , C11D1/14 , C11D1/22 , C11D1/34 , C11D3/00 , C11D3/28 , C11D3/30 , C11D17/00 , C11D11/00 , H01L21/02
Abstract: 本发明涉及一种用于清洁衬底的碱性组合物，该衬底包括铜或铜合金的结构和包含钴或钴合金的结构，该组合物包含：(a)按重量计0.0001％至0.2％的钴腐蚀抑制剂，该钴腐蚀抑制剂选自表面活性剂，该表面活性剂选自(i)C10至C20烷基磺酸或C12至C24烷基苯磺酸，(ii)C8至C17烷基膦酸或具有式I1的氨基膦酸(I1)，其中RI1是C8至C20烷基，RI2选自H、C1至C6烷基和‑XI1‑P(O)(OH)2，并且XI1选自C1至C6烷二基，(iii)C12至C18烷基羧酸或具有式I2的肌氨酸或椰油酰肌氨酸(I2)，其中RI1是C12至C20烷基，RI3选自H、C1至C6烷基和‑XI1‑C(O)‑OH，并且XI1选自C1至C6烷二基，(iv)磷酸的C10至C20单或二烷基酯，(i)至(iv)的这些烷基可以被一个或多个O间断或者可以包含一个或多个双键，(v)(i)至(iv)的盐；(b)按重量计0.0001％至0.5％的铜腐蚀抑制剂，该铜腐蚀抑制剂选自苯并三唑、5‑氯苯并三唑、4‑甲基苯并三唑；5‑甲基苯并三唑；四氢苯并三唑；和甲基‑苯并三唑‑1‑基)‑甲基‑亚氨基‑双乙醇；(c)按重量计0.05％至1％的C2至C7单氨基烷醇；以及(d)溶剂；其中该溶剂基本上由水组成。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN109312263A
公开(公告)日：2019-02-05
申请号：CN201780034922.6
申请日：2017-05-31
Applicant: 巴斯夫欧洲公司
CPC classification number: C11D1/721 , C11D1/722 , C11D3/3765 , C11D11/0047 , H01L21/02074 , H05K3/26
Abstract: 本发明描述了一种化学机械抛光后(CMP后)清洁组合物，其包含或由以下组成：(A)一种或多种通式(I)的水溶性非离子共聚物和其混合物，其中R1和R3彼此独立地为氢、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基或仲丁基，R2为甲基，且x和y为整数，(B)质量平均摩尔质量(Mw)为至多10,000g/mol的聚(丙烯酸)(PAA)或丙烯酸-马来酸共聚物，和(C)水，其中所述组合物的pH在7.0至10.5范围内。
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公开(公告)号：CN109153886A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201680084863.9
申请日：2016-04-27
Applicant: 巴斯夫欧洲公司
IPC: C09G1/02 , H01L21/321
Abstract: 本发明涉及化学机械抛光(CMP)组合物(Q)在化学机械抛光包含(i)钴和/或(ii)钴合金的基材(S)中的用途，其中该CMP组合物(Q)包含：(A)无机颗粒，(B)通式(I)的阴离子表面活性剂：R-S，其中R为C5-C20烷基、C5-C20链烯基、C5-C20烷基酰基或C5-C20链烯基酰基，且S为磺酸衍生物、氨基酸衍生物或磷酸衍生物或其盐或混合物，(C)至少一种氨基酸，(D)至少一种氧化剂，(E)含水介质，其中该CMP组合物(Q)的pH为7至10。
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