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公开(公告)号：CN109312263B
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN201780034922.6
申请日：2017-05-31
Applicant: 巴斯夫欧洲公司
Abstract: 本发明描述了一种化学机械抛光后(CMP后)清洁组合物，其包含或由以下组成：(A)一种或多种通式(I)的水溶性非离子共聚物和其混合物，其中R1和R3彼此独立地为氢、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基或仲丁基，R2为甲基，且x和y为整数，(B)质量平均摩尔质量(Mw)为至多10,000g/mol的聚(丙烯酸)(PAA)或丙烯酸‑马来酸共聚物，和(C)水，其中所述组合物的pH在7.0至10.5范围内。
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公开(公告)号：CN107922787B
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN201680047306.X
申请日：2016-08-09
Applicant: 巴斯夫欧洲公司
IPC: C09G1/02
Abstract: 本发明涉及一种化学机械抛光(CMP)组合物(Q)用于化学机械抛光包含(i)钴和/或(ii)钴合金以及(iii)TiN和/或TaN的基材(S)的用途，其中CMP组合物(Q)包含(E)无机粒子，(F)至少一种包含氨基以及酸基(Y)的有机化合物，其中该化合物包含n个氨基以及至少n+1个酸性质子，其中n为≥1的整数。(G)至少一种氧化剂，其量基于相应CMP组合物总重量为0.2至2.5重量％，(H)水性介质，其中CMP组合物(Q)具有大于6且小于9的pH。
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公开(公告)号：CN105229097B
公开(公告)日：2017-11-17
申请号：CN201480026507.2
申请日：2014-05-05
Applicant: 巴斯夫欧洲公司
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , H01L21/02024 , H01L21/30612 , H01L21/30625
Abstract: 本发明描述一种化学机械抛光(CMP)组合物，其包含以下组分：(A)在范围介于2至6的pH值下具有‑15mV或‑15mV以下的负ζ电位的表面改性二氧化硅粒子，(B)一种或多种聚乙烯亚胺，(C)水，(D)任选一种或多种其他成分，其中组合物的pH值在2至6的范围内。
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公开(公告)号：CN102656250A
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN201080042105.3
申请日：2010-09-09
CPC classification number: C09K13/08 , C11D11/0047 , H01L31/02363 , Y02E10/50
Abstract: 本发明涉及一种适合使单晶和多晶硅衬底的表面纹理化的含水酸性蚀刻溶液，所述溶液基于溶液全部重量包含如下组分：3-10重量％氢氟酸；10-35重量％硝酸；5-40重量％硫酸；和55-82重量％水；涉及一种使单晶和多晶硅衬底的表面纹理化的方法，其包括如下步骤：(1)使衬底的至少一个主表面与所述含水酸性蚀刻溶液接触，(2)在足以得到由凹陷和突起组成的表面纹理的时间和温度下蚀刻所述衬底的至少一个主表面；和(3)从与含水酸性蚀刻溶液的接触中移开所述衬底的至少一个主表面；还涉及一种使用所述溶液和所述纹理化方法制造光伏电池和太阳能电池的方法。
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公开(公告)号：CN101679072B
公开(公告)日：2012-02-01
申请号：CN200880012266.0
申请日：2008-04-14
Applicant: 巴斯夫欧洲公司
IPC: H01M4/40
CPC classification number: C01G31/00 , C01P2002/72 , C01P2006/12 , C01P2006/40 , H01M4/131 , H01M4/485 , H01M10/052 , H01M2300/0082 , H01M2300/0091
Abstract: 本发明涉及制备富含锂的金属氧化物的方法以及可使用所述方法获得的富含锂的金属氧化物。本发明还涉及富含锂的金属氧化物在制备电池(特别是锂离子电池)的阴极中的用途，以及含有富含锂的金属氧化物的锂离子电池阴极。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108431931B
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN201680075204.9
申请日：2016-12-20
Applicant: 巴斯夫欧洲公司
IPC: H01L21/321 , C11D3/00 , C11D3/37 , C11D11/00
Abstract: 本发明描述了一种化学机械抛光后(CMP后)清洁组合物，其包含或由以下组成：(A)选自由如下组成的组的一种或多种非离子聚合物：聚丙烯酰胺、聚羟乙基(甲基)丙烯酸酯(PHE(M)A)、聚乙烯吡咯烷酮(PVP)、聚乙烯醇(PVA)、式(I)的聚合物和其混合物，其中R1为氢、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基或仲丁基，R2为氢或甲基，且n为整数，(B)质量平均摩尔质量(Mw)为至多10,000g/mol的聚(丙烯酸)(PAA)或丙烯酸‑马来酸共聚物，和(C)水，其中所述组合物的pH在7.0至10.5范围内。
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公开(公告)号：CN108473918A
公开(公告)日：2018-08-31
申请号：CN201680075224.6
申请日：2016-12-20
Applicant: 巴斯夫欧洲公司
IPC: C11D3/37 , C11D11/00 , H01L21/02 , H01L21/321
CPC classification number: C11D11/0047 , C11D3/3707 , C11D3/3719 , C11D3/3765 , C11D3/378 , C11D3/3784 , C11D11/0035 , H01L21/02074
Abstract: 本发明描述了一种化学机械抛光后(CMP后)清洁组合物，其包含或由以下组成：(A)质量平均摩尔质量(Mw)在400至8,000g/mol范围内的聚乙二醇(PEG)，(B)选自由如下组成的组的阴离子聚合物：聚(丙烯酸)(PAA)、丙烯酸-马来酸共聚物、聚天冬氨酸(PASA)、聚谷氨酸(PGA)、聚乙烯基膦酸、聚乙烯基磺酸、聚(苯乙烯磺酸)、聚羧酸酯醚(PCE)、PEG-亚磷酸和这些聚合物的共聚物，和(C)水，其中所述组合物的pH在7.0至10.5范围内。
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公开(公告)号：CN107109134A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580069662.7
申请日：2015-12-22
Applicant: 巴斯夫欧洲公司
IPC: C09G1/02
CPC classification number: C09G1/02 , B24B37/20 , C09K3/1409 , C23F3/06 , H01L21/3212 , H01L21/7684
Abstract: 本发明涉及化学机械抛光(CMP)组合物(Q)在化学机械抛光包含(i)钴和/或(ii)钴合金的基材(S)中的用途，其中该CMP组合物(Q)包含：(A)无机颗粒，(B)作为腐蚀抑制剂的具有至少一个羧酸官能团的经取代芳族化合物，(C)至少一种氨基酸，(D)至少一种氧化剂，(E)含水介质，其中该CMP组合物(Q)的pH为7至10。
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公开(公告)号：CN105229098A
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201480026565.5
申请日：2014-05-06
Applicant: 巴斯夫欧洲公司
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , H01L21/30625
Abstract: 本发明描述一种化学机械抛光(CMP)组合物，其包含以下组分：(A)在范围介于2至6的pH值下具有-15mV或-15mV以下的负ζ电位的表面改性二氧化硅粒子，(B)N,N,N',N'-四(2-羟基丙基)乙二胺或甲磺酸，(C)水，(D)任选一种或多种其他成分，其中组合物的pH值在2至6的范围内。
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公开(公告)号：CN101679072A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200880012266.0
申请日：2008-04-14
Applicant: 巴斯夫欧洲公司
IPC: C01G31/00
CPC classification number: C01G31/00 , C01P2002/72 , C01P2006/12 , C01P2006/40 , H01M4/131 , H01M4/485 , H01M10/052 , H01M2300/0082 , H01M2300/0091
Abstract: 本发明涉及制备富含锂的金属氧化物的方法以及可使用所述方法获得的富含锂的金属氧化物。本发明还涉及富含锂的金属氧化物在制备电池(特别是锂离子电池)的阴极中的用途，以及含有富含锂的金属氧化物的锂离子电池阴极。
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