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公开(公告)号：CN106830634B
公开(公告)日：2018-06-15
申请号：CN201710064130.5
申请日：2012-06-22
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C3/087 , C03B18/02 , C03C3/085 , C03C4/18 , C03C21/006 , C03C2204/00 , Y02P40/57
Abstract: 本发明提供一种能够有效地抑制化学强化后的翘曲，并且能够省略或简化化学强化前的研磨处理等的化学强化用浮法玻璃。本发明涉及一种化学强化用浮法玻璃，其具有在成形时与熔融金属接触的底面和与该底面相对的顶面，其中，顶面的深度5～10μm处的标准化氢浓度与底面的深度5～10μm处的标准化氢浓度之差的绝对值为0.35以下，底面的深度5～10μm处的平均H/Si强度相对于顶面的深度5～10μm处的平均H/Si强度之比为1.65以下，以及底面的深度5～30μm处的表层β‑OH相对于顶面的深度5～30μm处的表层β‑OH之比为1.27以下。
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公开(公告)号：CN107721156A
公开(公告)日：2018-02-23
申请号：CN201711227551.1
申请日：2017-11-29
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C3/091 , C03B18/02 , C03B25/025 , C03C3/093
Abstract: 本发明涉及一种无碱玻璃基板，其特征在于，玻璃板的截面的折射率的最大值与最小值之差(Δn)为0.40×10-5以下。根据本发明的无碱玻璃基板，能够飞跃性地提高研磨性，能够缩短研磨时间从而提高生产效率。
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公开(公告)号：CN106946465A
公开(公告)日：2017-07-14
申请号：CN201611027590.2
申请日：2016-11-17
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明提供一种从衬纸向玻璃基板表面的异物的转印(附着)得到抑制的玻璃基板。所述玻璃基板是由硅酸盐玻璃构成的玻璃基板，其特征在于，从该玻璃基板的表面的Zeta电位减去通过对该玻璃基板进行蚀刻处理而得到的外部标准的玻璃基板的表面的Zeta电位而得到的值(ΔZeta电位)为－15mV以上。
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公开(公告)号：CN106830634A
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201710064130.5
申请日：2012-06-22
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C3/087 , C03B18/02 , C03C3/085 , C03C4/18 , C03C21/006 , C03C2204/00 , Y02P40/57
Abstract: 本发明提供一种能够有效地抑制化学强化后的翘曲，并且能够省略或简化化学强化前的研磨处理等的化学强化用浮法玻璃。本发明涉及一种化学强化用浮法玻璃，其具有在成形时与熔融金属接触的底面和与该底面相对的顶面，其中，顶面的深度5～10μm处的标准化氢浓度与底面的深度5～10μm处的标准化氢浓度之差的绝对值为0.35以下，底面的深度5～10μm处的平均H/Si强度相对于顶面的深度5～10μm处的平均H/Si强度之比为1.65以下，以及底面的深度5～30μm处的表层β‑OH相对于顶面的深度5～30μm处的表层β‑OH之比为1.27以下。
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公开(公告)号：CN104591523B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201410830179.3
申请日：2012-06-22
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C3/087 , C03B18/02 , C03C3/085 , C03C4/18 , C03C21/006 , C03C2204/00 , Y02P40/57
Abstract: 本发明提供一种能够有效地抑制化学强化后的翘曲，并且能够省略或简化化学强化前的研磨处理等的化学强化用浮法玻璃。本发明涉及一种化学强化用浮法玻璃，其具有在成形时与熔融金属接触的底面和与该底面相对的顶面，其中，顶面的深度5～10μm处的标准化氢浓度与底面的深度5～10μm处的标准化氢浓度之差的绝对值为0.35以下，底面的深度5～10μm处的平均H/Si强度相对于顶面的深度5～10μm处的平均H/Si强度之比为1.65以下，以及底面的深度5～30μm处的表层β‑OH相对于顶面的深度5～30μm处的表层β‑OH之比为1.27以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104812718B
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：CN201480003165.2
申请日：2014-07-15
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C21/002 , C03C3/085 , C03C3/087 , C03C3/091 , C03C15/00 , C03C21/006 , C03C23/0075 , G01B5/28
Abstract: 一种化学强化玻璃，其在表层具有通过离子交换法形成的压应力层，其中，表面粗糙度(Ra)为0.20nm以上，从玻璃的最外表面起的深度X的区域中的氢浓度Y在X＝0.1～0.4(μm)的情况下满足下述关系式(I)，通过环上球试验测定的面强度F(N)对于玻璃板的板厚t(mm)为F≥1500×t2，并且在表面上没有磨痕，Y＝aX+b(I)，式(I)中的各符号的含义如下所示：Y：氢浓度(按H2O换算，mol/L)，X：从玻璃最外表面起的深度(μm)，a：-0.270～-0.005，b：0.020～0.220。
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公开(公告)号：CN104245616B
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：CN201380017036.4
申请日：2013-03-18
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C21/002 , C03C15/00 , C03C23/008 , Y10T428/31 , Y10T428/315
Abstract: 本发明的目的在于提供能够有效地抑制化学强化后的翘曲、并且能够省略或简化化学强化前的研磨处理等的玻璃板。本发明涉及一种玻璃板，其中，一个表面的氟富集度比另一个表面的表面氟富集度高5以上。
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公开(公告)号：CN104039730B
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201280063064.5
申请日：2012-12-11
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C03C17/245 , G09F9/00 , G09F9/30 , C03C21/00
CPC classification number: C03C17/245 , C03C17/25 , C03C21/00 , C03C21/002 , C03C2217/213 , C03C2218/1525 , Y10T428/315
Abstract: 本发明的目的在于提供一种化学强化用玻璃基板，其中，在玻璃基板的表面上形成有能够在短时间内成膜并且在成膜后能够进行化学强化处理的膜。本发明涉及一种化学强化用玻璃基板，其为通过浮法成形的玻璃基板，其中，在至少一个面上形成有包含H原子浓度处于1.0×1015～1.0×1019个原子/mm3范围的无机物的膜。
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公开(公告)号：CN104203860B
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201380017057.6
申请日：2013-03-18
Applicant: 旭硝子株式会社
Inventor： 宫坂聪史 , 中田英子 , 林泰夫 , 府川真 , 仁平敏史 , 白井正信 , 冈畑直树 , 中川浩司 , 山中一彦 , 渡边邦夫 , 谷井史朗 , 井川信彰 , 小林大介 , 宫下纯一 , 加藤亮祐
CPC classification number: C03C3/112 , C03C4/18 , C03C15/00 , C03C21/002 , C03C23/0055 , C03C23/008 , C03C2204/00 , Y10T428/24355 , Y10T428/315
Abstract: 本发明的目的在于提供能够有效地抑制化学强化后的翘曲、并且能够省略或简化化学强化前的研磨处理等的玻璃板。本发明涉及一种玻璃板，其为在厚度方向上相对的一个表面的氟浓度高于另一个表面的氟浓度的玻璃板，其满足式(1)：0.07≤ΔF/ΔH2O。在此，氟浓度为深度1～24μm处的利用SIMS得到的平均氟浓度(摩尔％)。式(1)中，ΔF为从氟浓度高的表面的深度1～24μm处的利用SIMS得到的平均氟浓度(摩尔％)中减去氟浓度低的表面的深度1～24μm处的利用SIMS得到的平均氟浓度(摩尔％)而得到的值。式(1)中，ΔH2O为从氟浓度低的表面的深度1～24μm处的利用SIMS得到的平均H2O浓度(摩尔％)中减去氟浓度高的表面的深度1～24μm处的利用SIMS得到的平均H2O浓度(摩尔％)而得到的值的绝对值。
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公开(公告)号：CN104591537B
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201410749401.7
申请日：2012-06-22
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C3/087 , C03B18/02 , C03C3/085 , C03C4/18 , C03C21/006 , C03C2204/00 , Y02P40/57
Abstract: 本发明提供一种能够有效地抑制化学强化后的翘曲，并且能够省略或简化化学强化前的研磨处理等的化学强化用浮法玻璃。本发明涉及一种化学强化用浮法玻璃，其具有在成形时与熔融金属接触的底面和与该底面相对的顶面，其中，顶面的深度5～10μm处的标准化氢浓度与底面的深度5～10μm处的标准化氢浓度之差的绝对值为0.35以下，底面的深度5～10μm处的平均H/Si强度相对于顶面的深度5～10μm处的平均H/Si强度之比为1.65以下，以及底面的深度5～30μm处的表层β-OH相对于顶面的深度5～30μm处的表层β-OH之比为1.27以下。
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