扫描曝光装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108710263B

    公开(公告)日:2021-01-26

    申请号:CN201810312226.3

    申请日:2014-03-24

    Abstract: 本发明提供一种扫描曝光装置,其使在从中心线以规定的半径弯曲成圆筒状的外周面上形成有电子设备用的图案的圆筒光罩绕中心线旋转,使被支承为圆筒状或平面状的基板以对应于圆筒光罩的旋转速度的速度移动,由此将圆筒光罩的图案曝光至基板,其具有在曝光装置主体可旋转地支承向圆筒光罩的中心线延伸的方向上的两侧突出的转轴、并且在改变圆筒光罩的中心线与基板的距离的Z方向上能够相对于曝光装置主体移动圆筒光罩的支承机构,支承机构包括:可旋转地支承转轴的可动体;以改变可动体相对于曝光装置主体在Z方向上的位置的方式在Z方向上驱动可动体的驱动源;及用于利用曝光装置主体支承圆筒光罩的自重的大部分来减轻驱动源的负荷的弹性支承构件。

    基板处理装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108919607B

    公开(公告)日:2020-10-30

    申请号:CN201810608818.X

    申请日:2014-06-25

    Abstract: 本发明涉及基板处理装置,目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动,通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有:设在设置面(E)上的减振台(131);设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121);和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。

    基板处理装置的调整方法

    公开(公告)号:CN110083018A

    公开(公告)日:2019-08-02

    申请号:CN201811596980.0

    申请日:2015-03-31

    Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘的图案彼此随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式,沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。测量装置的反射光检测部设于多个描绘单元的每一个上,当检测到因投射光束的点光而从支承构件的支承面或基板反射的反射光时,基于当支承构件的基准标记位于多个描绘单元各自描绘的描绘线上时从反射光检测部输出的信号,来测量多个描绘线的配置关系。

    转印装置以及基板处理装置

    公开(公告)号:CN107253394B

    公开(公告)日:2019-05-03

    申请号:CN201710303738.9

    申请日:2013-08-02

    Inventor: 铃木智也

    Abstract: 本发明提供一种转印装置。转印装置具备:版保持部,其对转印版进行保持,该转印版具有由规定厚度的多孔质材料形成的多孔质板、以及形成于该多孔质板的一方的面侧的转印用的图案层;对象物保持部,其对能够供上述转印版的图案层转附的对象物以使得该对象物与转印版的一方的面密接或接近的方式进行保持;以及流体供给部,其从多孔质板的另一方的面侧向一方的面侧供给规定压力的流体。

    图案描绘装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107957660A

    公开(公告)日:2018-04-24

    申请号:CN201711205151.0

    申请日:2015-03-31

    Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式,沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息,并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。

    基板处理装置
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105752686A

    公开(公告)日:2016-07-13

    申请号:CN201610210419.9

    申请日:2012-11-01

    Inventor: 铃木智也

    CPC classification number: B65G49/065 B65G2249/04

    Abstract: 一种搬运基板的搬运装置,具有:支承构件,具有支承基板的一方的面的支承面,形成有贯通支承面和所述支承面的背面的多个贯通孔;保持机构,其具有气体吸引部,该气体吸引部与支承构件的背面中的、包含多个孔的第一区域相对配置;和气体供给部,该气体供给部与支承构件的背面中的第二区域相对配置,其中,第二区域是与第一区域不同的区域,所述保持机构通过相对于支承构件的背面进行气体的供给及吸引,以非接触状态保持支承构件的背面,并且经由多个贯通孔使基板吸附在支承面上。

    掩模单元以及基板处理装置

    公开(公告)号:CN104246618B

    公开(公告)日:2016-04-20

    申请号:CN201380020597.X

    申请日:2013-03-26

    Inventor: 铃木智也

    CPC classification number: G03F7/24

    Abstract: 一种掩模单元,其具备:掩模保持部(20),其从第一轴线(AX1)沿着规定半径的圆筒面保持掩模图案,并能够绕第一轴线旋转;支承部(22),其将掩模保持部支承为能够在非接触状态或低摩擦状态下绕第一轴线方向以及沿第一轴线方向移动;以及一对驱动部(MT),它们设置于掩模保持部的第一轴线方向的两侧,并对掩模保持部给予绕第一轴线方向的推力而使掩模保持部驱动。

    基板处理装置
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102741754B

    公开(公告)日:2015-12-02

    申请号:CN201180007819.5

    申请日:2011-02-10

    Inventor: 铃木智也

    CPC classification number: G03F7/70791 G03F7/70991

    Abstract: 本发明的基板处理装置,具备:搬送部,将带状的片材基板搬送于第一方向;复数个处理部,对片材基板中与第一方向交叉的第二方向的复数个区间分别进行处理;以及载台装置,系对应复数个处理部的各个而设置、用以支承片材基板。

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