衬底清洗装置及衬底清洗方法

    公开(公告)号:CN103769376A

    公开(公告)日:2014-05-07

    申请号:CN201310506970.4

    申请日:2013-10-24

    CPC classification number: H01L21/02057 H01L21/67046 H01L22/26 H01L21/02041

    Abstract: 本发明提供一种衬底清洗装置及衬底清洗方法,能够迅速地检测用于测定滚动载荷的测力传感器在衬底清洗时发生故障的情况,能够防止在从滚动清洗部件对衬底施加异常滚动载荷的状态下继续清洗的情况。该衬底清洗装置具有:滚动架,其支承长尺寸状地水平延伸的滚动清洗部件并使其旋转;升降机构,其随着具有控制设备的致动器的驱动,在清洗衬底时以使滚动清洗部件对衬底施加规定的滚动载荷的方式使滚动架升降;测力传感器,其测定滚动载荷;控制部,其基于测力传感器的测定值而经由控制设备对滚动载荷进行反馈控制;和监控部,其对控制设备的操作量是否偏离预先设定的与设定滚动载荷相应的操作量基准值的允许范围进行监视。

    基板清洗装置、基板清洗方法以及基板处理装置

    公开(公告)号:CN105895556A

    公开(公告)日:2016-08-24

    申请号:CN201610086720.3

    申请日:2016-02-16

    Inventor: 田中英明

    Abstract: 公开一种基板清洗装置,该基板清洗装置使基板旋转,并使清洗部件与旋转的基板接触而清洗基板。基板清洗装置具有:自清洁部件,该自清洁部件设置于支承所述清洗部件的臂,与所述清洗部件接触而对清洗部件进行自我清洗;以及移动机构,该移动机构设置于支承所述清洗部件的臂,使所述自清洁部件在与所述清洗部件接触的位置和从所述清洗部件离开的位置之间移动。

    基板清洗装置、基板清洗方法以及基板处理装置

    公开(公告)号:CN112908901A

    公开(公告)日:2021-06-04

    申请号:CN202110147106.4

    申请日:2016-02-16

    Inventor: 田中英明

    Abstract: 公开一种基板清洗装置,该基板清洗装置使基板旋转,并使清洗部件与旋转的基板接触而清洗基板。基板清洗装置具有:自清洁部件,该自清洁部件设置于支承所述清洗部件的臂,与所述清洗部件接触而对清洗部件进行自我清洗;以及移动机构,该移动机构设置于支承所述清洗部件的臂,使所述自清洁部件在与所述清洗部件接触的位置和从所述清洗部件离开的位置之间移动。

    基板清洗装置及基板处理装置

    公开(公告)号:CN104517808B

    公开(公告)日:2019-10-11

    申请号:CN201410512730.X

    申请日:2014-09-29

    Inventor: 田中英明

    Abstract: 提供一种基板清洗装置,具有:辊子组件(95),其至少包含与基板(W)接触的辊子清洗部件(46)及将该辊子清洗部件(46)支撑成旋转自如的辊子臂(42);支撑臂(58),其用于支撑辊子组件(95);调整螺杆(83),其贯通支撑臂(58),并拧入辊子组件(95)内;以及螺杆支撑件(84),其将调整螺杆(83)相对于支撑臂(58)的上下方向的相对位置予以固定,并将调整螺杆(83)支撑成可旋转。采用本发明,可将测力传感器搭载在最佳位置上,且可实现大幅度的调整,减少药液喷管或冲洗液喷管等布置设计的制约。

    衬底清洗装置及衬底清洗方法

    公开(公告)号:CN103769376B

    公开(公告)日:2017-10-17

    申请号:CN201310506970.4

    申请日:2013-10-24

    CPC classification number: H01L21/02057 H01L21/67046

    Abstract: 本发明提供一种衬底清洗装置及衬底清洗方法,能够迅速地检测用于测定滚动载荷的测力传感器在衬底清洗时发生故障的情况,能够防止在从滚动清洗部件对衬底施加异常滚动载荷的状态下继续清洗的情况。该衬底清洗装置具有:滚动架,其支承长尺寸状地水平延伸的滚动清洗部件并使其旋转;升降机构,其随着具有控制设备的致动器的驱动,在清洗衬底时以使滚动清洗部件对衬底施加规定的滚动载荷的方式使滚动架升降;测力传感器,其测定滚动载荷;控制部,其基于测力传感器的测定值而经由控制设备对滚动载荷进行反馈控制;和监控部,其对控制设备的操作量是否偏离预先设定的与设定滚动载荷相应的操作量基准值的允许范围进行监视。

    基板清洗装置、基板清洗方法以及基板处理装置

    公开(公告)号:CN105895556B

    公开(公告)日:2021-02-26

    申请号:CN201610086720.3

    申请日:2016-02-16

    Inventor: 田中英明

    Abstract: 公开一种基板清洗装置,该基板清洗装置使基板旋转,并使清洗部件与旋转的基板接触而清洗基板。基板清洗装置具有:自清洁部件,该自清洁部件设置于支承所述清洗部件的臂,与所述清洗部件接触而对清洗部件进行自我清洗;以及移动机构,该移动机构设置于支承所述清洗部件的臂,使所述自清洁部件在与所述清洗部件接触的位置和从所述清洗部件离开的位置之间移动。

    基板清洗装置及基板处理装置

    公开(公告)号:CN104584197B

    公开(公告)日:2017-11-24

    申请号:CN201380042968.4

    申请日:2013-08-20

    Inventor: 田中英明

    Abstract: 本发明是涉及一种基板清洗装置,一边使辊清洗构件接触基板表面,一边旋转基板及辊清洗构件并擦刷清洗基板表面。基板清洗装置具有:辊支架(42),对辊清洗构件(46)进行支撑并使该辊清洗构件(46)旋转;升降机构(60),具有随着具备控制机器(62)的致动器(56)的驱动而升降的升降部(58),并在基板清洗时,以辊清洗构件(46)对基板W施加辊载荷的方式,使连结于升降部(58)的辊支架(42)升降;测力传感器(54),设置于升降机构(60)的升降部(58)与辊支架(42)之间,并测定辊载荷;及控制部(66),根据测力传感器(54)的测定值,经由致动器(56)的控制机器(62)而反馈控制辊载荷。

    基板清洗装置
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109037106B

    公开(公告)日:2022-03-18

    申请号:CN201810836516.8

    申请日:2014-09-29

    Inventor: 田中英明

    Abstract: 提供一种基板清洗装置,具有:辊子组件(95),其至少包含与基板(W)接触的辊子清洗部件(46)及将该辊子清洗部件(46)支撑成旋转自如的辊子臂(42);支撑臂(58),其用于支撑辊子组件(95);调整螺杆(83),其贯通支撑臂(58),并拧入辊子组件(95)内;以及螺杆支撑件(84),其将调整螺杆(83)相对于支撑臂(58)的上下方向的相对位置予以固定,并将调整螺杆(83)支撑成可旋转。采用本发明,可将测力传感器搭载在最佳位置上,且可实现大幅度的调整,减少药液喷管或冲洗液喷管等布置设计的制约。

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