光电探测器阵列及其制备方法、光电探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN112054074A

    公开(公告)日:2020-12-08

    申请号:CN202010908886.5

    申请日:2020-09-02

    Abstract: 本发明提供了一种光电探测器阵列及其制备方法、光电探测器及其制备方法,光电探测器包括衬底以及依次层叠设置于衬底上的背电极、CIGS吸收层、缓冲层、窗口层及透明电极层,CIGS吸收层中Cu元素的物质的量与Ga、In元素物质的量之和的比例为0.7~1;和/或CIGS吸收层中Ga元素的物质的量与Ga、In元素物质的量之和的比例为0.48~0.52,通过将CIGS材料作为吸收层的材料并通过调节CIGS吸收层中Cu元素和/或Ga元素的物质的量与Ga、In元素物质的量之和的比例来降低光电探测器的暗电流,从而提升光电探测器的性能。本申请的光电探测器阵列通过对整面探测器基片进行刻蚀获得阵列设置的多个光电探测器,相对于整面探测器降低了有效接触面积,进一步提升了光电探测性能。

    光电探测器阵列及其制备方法、光电探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN112054074B

    公开(公告)日:2023-04-14

    申请号:CN202010908886.5

    申请日:2020-09-02

    Abstract: 本发明提供了一种光电探测器阵列及其制备方法、光电探测器及其制备方法,光电探测器包括衬底以及依次层叠设置于衬底上的背电极、CIGS吸收层、缓冲层、窗口层及透明电极层,CIGS吸收层中Cu元素的物质的量与Ga、In元素物质的量之和的比例为0.7~1;和/或CIGS吸收层中Ga元素的物质的量与Ga、In元素物质的量之和的比例为0.48~0.52,通过将CIGS材料作为吸收层的材料并通过调节CIGS吸收层中Cu元素和/或Ga元素的物质的量与Ga、In元素物质的量之和的比例来降低光电探测器的暗电流,从而提升光电探测器的性能。本申请的光电探测器阵列通过对整面探测器基片进行刻蚀获得阵列设置的多个光电探测器,相对于整面探测器降低了有效接触面积,进一步提升了光电探测性能。

    光电探测器及其制作方法、光电探测系统

    公开(公告)号:CN111430483A

    公开(公告)日:2020-07-17

    申请号:CN202010205706.7

    申请日:2020-03-23

    Abstract: 本发明公开了一种光电探测器,包括:基底;设置于所述基底上的底电极;设置于所述底电极上的吸收层;所述吸收层采用基于Cu2-II-IV-VI4族光电薄膜吸收材料Cu2CdaZn1-aSnSe4制成,0≤a≤1;设置于所述吸收层上的缓冲层;设置于所述缓冲层上的窗口层;其中,在所述缓冲层与所述窗口层之间还设置有氧化物阻挡层。本发明还公开了一种光电探测器的制作方法。本发明也公开了一种包括上述光电探测器或者采用上述制作方法制得的光电探测器的光电探测系统。本发明通过采用基于Cu2-II-IV-VI4族光电薄膜吸收材料Cu2CdaZn1-aSnSe4作为光电探测器的吸收层的材料,且在缓冲层与窗口层之间设置氧化物阻挡层,可以阻挡由于漏电通道引起的载流子,降低探测器的暗电流,提高探测器的光电探测率。

Patent Agency Ranking