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公开(公告)号：CN117780787A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202311795267.X
申请日：2023-12-22
Abstract: 本申请涉及结构超滑领域，公开了一种具有非平整接触表面的滑动装置，包括：相对设置且接触的顶部接触体和底部接触体；所述底部接触体与所述顶部接触体相对的表面上间隔分布有超滑凸起；所述顶部接触体与所述底部接触体相对的表面的粗糙度范围为1纳米至200微米。滑动装置中顶部接触体与底部接触体相对的表面是粗糙的，底部接触体与顶部接触体相对的表面具有超滑凸起，即两个接触表面为不平整的接触表面。由于底部接触体上的凸起为超滑凸起，顶部接触体的接触表面粗糙度比较小，所以当顶部接触体与底部接触体相对滑动时，两个接触表面上的凸起接触面之间产生的摩擦和磨损很小，可以减小相对滑动时碰撞产生的刮擦，减小对两个接触表面带来破坏。
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公开(公告)号：CN114974317A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210636917.5
申请日：2022-06-07
Abstract: 本申请公开了硬盘磁头及其制备方法和硬盘，该硬盘磁头的超滑垫片的顶端通过粘接材料与磁头滑块底部固定连接，底端与不设有润滑层的磁盘上表面接触；其中，磁头滑块倾斜设置，且运动时，磁头滑块的底面与磁盘上表面之间具有夹角θ；磁头滑块一侧的读写头与磁盘的磁介质层之间的距离小于或等于预设头盘间距。超滑垫片的设置，可将安装在磁头滑块一侧的读写头以一定高度稳定的支撑于磁盘上表面上方，有利于降低对磁头臂的加工精度和飞行高度控制的精度要求，避免长期磨损磁盘和读写头；还可很好地解决传统硬盘在气流、防冲击和磁盘表面磨损等方面的缺陷，大大提高硬盘的稳定性和安全性，故本硬盘磁头易于实现更低飞高的调定和硬盘性能的提升。
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公开(公告)号：CN113746365B
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202111018964.5
申请日：2021-09-01
IPC: H02N1/08
Abstract: 本发明涉及基于结构超滑的集成微发电机、电容式控制电路及其微型分布式器件。基于结构超滑的集成微发电机，包括定子层与动子层，定子层与动子层相对设置，定子层与动子层相对滑动，动子层包括连接层和至少一个动子，动子固定连接于连接层的朝向定子层的一侧，且动子朝向定子层的一侧面为超滑面，动子与定子层超滑接触。电容式控制电路，用于供给用电器电能，至少一个集成微发电机并联或串联并经整流元件与用电器相连接。微型分布式器件，包括基于结构超滑的集成微发电机的电容式控制电路。
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公开(公告)号：CN113746365A
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN202111018964.5
申请日：2021-09-01
IPC: H02N1/08
Abstract: 本发明涉及基于结构超滑的集成微发电机、电容式控制电路及其微型分布式器件。基于结构超滑的集成微发电机，包括定子层与动子层，定子层与动子层相对设置，定子层与动子层相对滑动，动子层包括连接层和至少一个动子，动子固定连接于连接层的朝向定子层的一侧，且动子朝向定子层的一侧面为超滑面，动子与定子层超滑接触。电容式控制电路，用于供给用电器电能，至少一个集成微发电机并联或串联并经整流元件与用电器相连接。微型分布式器件，包括基于结构超滑的集成微发电机的电容式控制电路。
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公开(公告)号：CN115602199A
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN202211183107.5
申请日：2022-09-27
Applicant: 深圳清华大学研究院(CN) , 清华大学(CN)
Abstract: 本申请实施例公开了硬盘磁头及其制备方法和硬盘，该制备方法包括：对超滑基材进行加工处理，以得到用于嵌入磁传感元件的内凹槽；将磁传感元件置于内凹槽，以得到包含超滑基材和磁传感元件的硬盘磁头，磁传感元件在磁盘的磁场作用下存在磁场电效应。与在磁传感元件下方附着超滑垫片，以实现对飞高调控的传统方案相比，本申请无需制作和粘接传统超滑垫片等的流程，操作过程简便且易实现大规模的集成制造。而本申请利用超滑基材内嵌磁传感元件制得硬盘磁头，可使得硬盘磁头和磁盘之间近距离、无磨损地直接接触，有效缩减头盘间距，且可实现多个磁传感元件在磁盘上表面的并行滑动，有效提高磁盘的存储密度和硬盘磁头的读写速率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119574286A
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN202411808605.3
申请日：2024-12-10
Abstract: 本申请适用于层状结构的剪切力检测领域，提供了一种检测附加件、检测装置和层状结构剪切力的检测方法。其中，检测附加件用于辅助层状结构的微观剪切力检测，包括覆于所述层状结构的第一附加层，以及覆于所述第一附加层背离所述层状结构的一侧的第二附加层，所述第二附加层沿所述层状结构的剪切方向的长度小于所述第一附加层。本申请提供的检测附加件、检测装置和层状结构剪切力的检测方法，能够有效提高层状结构微观剪切力检测的准确性。
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公开(公告)号：CN117626446A
公开(公告)日：2024-03-01
申请号：CN202311719702.0
申请日：2023-12-13
Abstract: 本申请涉及材料处理领域，公开了一种展平的二维材料和去除二维材料的褶皱的方法，包括：将单独的、具有褶皱的二维材料转移至承托基板上；利用压头在二维材料上施加压力并控制压头在二维材料上移动，以使二维材料上的褶皱展开，得到展平的二维材料。本申请中将具有褶皱的二维材料放置在承托基板上，采用力学加压的方式对二维材料施加压力并控制压头在二维材料上滑移，几乎可以去除二维材料上所有被压头施加压力的区域的褶皱。通过压头在二维材料上加压、移动消除褶皱的方式，褶皱去除效率更高，推动实现大尺度结构超滑。具有褶皱的二维材料是转移到承托基底上的，所以展平的二维材料可以从承托基底上取下来，便于后续二维材料的使用。
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公开(公告)号：CN117626445A
公开(公告)日：2024-03-01
申请号：CN202311715445.3
申请日：2023-12-13
Abstract: 本申请涉及材料处理领域，公开了一种展平具有褶皱的二维材料的方法和展平的二维材料，包括：在待处理结构体中二维材料的表面涂覆液态胶体，并烘干液态胶体形成胶体层；其中，待处理结构体包括基底和二维材料；二维材料固定在基底上，且具有褶皱；液态胶体烘干过程中发生膨胀；去除基底，得到表面附着有胶体层的二维材料；去除胶体层，得到展平的二维材料。本申请中将二维材料表面的液态胶体烘干时发生膨胀，烘干后胶体层产生向下的压应力。当将基底去除后，二维材料的褶皱在胶体层的压应力作用下被拉平，然后再将胶体层去除，便得到单独的、展平的二维材料。展平后的二维材料是单独的，脱离了基底，便于后续二维材料的使用。
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公开(公告)号：CN115123994A
公开(公告)日：2022-09-30
申请号：CN202210891761.5
申请日：2022-07-27
Abstract: 本申请公开了一种边缘受压屈曲的结构超滑器件，涉及结构超滑技术领域，包括超滑片，所述超滑片中二维材料的边缘向背离超滑面的方向屈曲，所述超滑面的接触面区域为水平面。本申请中的结构超滑器件包括超滑片，超滑片二维材料的边缘向背离超滑面的方向屈曲，即边缘部分抬起一定的高度，从而避免超滑片二维材料的边缘与基底之间接触，极大地降低超滑片与基底之间的摩擦力，避免产生磨损。同时，超滑片超滑面的接触区域为水平面，使得超滑片与基底的接触为面接触，而不是点接触，从而避免出现应力集中，可以稳定地承受更高的载荷，同时便于通过电信号控制超滑片的运动。本申请还提供一种具有上述优点的制备方法。
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公开(公告)号：CN115123993A
公开(公告)日：2022-09-30
申请号：CN202210891732.9
申请日：2022-07-27
Abstract: 本申请公开了一种应力驱动边缘翘曲的结构超滑器件，涉及超滑技术领域，包括：超滑片，所述超滑片中二维材料的边缘向背离超滑面的方向翘曲；设于所述超滑片预设表面全部区域的薄膜层，其中，所述薄膜层在退火条件下产生体积收缩和热应力使所述超滑片的边缘翘曲，所述预设表面与所述超滑面相背。可见，本申请中的结构超滑器件包括超滑片和薄膜层，薄膜层位于超滑片预设表面的全部区域，该薄膜层在退火条件下可以产生体积收缩和热应力，从而使得超滑片的边缘发生翘曲，即边缘部分抬起一定的高度，从而避免超滑片的边缘与基底之间接触，极大地降低超滑片与基底之间的摩擦力，避免产生磨损。此外，本申请还提供一种具有上述优点的制备方法。
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