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公开(公告)号：CN105051880A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201480017857.2
申请日：2014-02-21
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： 格雷戈里·布雷迪 , 安德烈·V·舒杰葛洛夫 , 劳伦斯·D·罗特 , 德里克·萨乌夫尼斯 , 阿纳托利·夏册梅里尼 , 里亚·贝泽尔 , 穆沙米尔·阿蓝 , 阿纳托利·瓦西列夫 , 詹姆斯·艾伦 , 奥列格·舒列波夫 , 安德鲁·希尔 , 欧哈德·巴沙尔 , 摩西·马科维茨 , 亚龙·伊什-沙洛姆 , 利安·瑟拉 , 阿姆农·玛纳森 , 亚历山大·斯维泽尔 , 马克西姆·霍赫洛夫 , 阿维·阿布拉莫夫 , 奥列格·特斯布列维斯基 , 丹尼尔·坎德尔 , 马克·吉诺乌克
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明针对于用于向用于光学计量的测量头提供照明的系统。在本发明的一些实施例中，来自多个照明源的照明光束经组合以将处于一或多个选定波长的照明递送到所述测量头。在本发明的一些实施例中，递送到所述测量头的照明的强度及/或空间相干性被控制。在本发明的一些实施例中，处于一或多个选定波长的照明是从经配置用于提供处于连续波长范围的照明的宽带照明源递送的。
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公开(公告)号：CN104520982B
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201380041206.2
申请日：2013-06-26
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： 弗拉基米尔·莱温斯基 , 丹尼尔·坎德尔 , 依兰·阿米特
IPC: H01L21/66
CPC classification number: G01B11/272 , G01N21/47 , G01N21/956 , G03F7/70633 , H01L23/544 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 在一个实施例中，揭示一种用于检测衬底的两个或两个以上连续层之间或衬底的单个层上的两个或两个以上单独产生的图案之间的叠盖误差的半导体目标。所述目标包括：至少多个第一光栅结构，其具有可由检验工具分辨的粗略间距；及多个第二光栅结构，其相对于所述第一光栅结构而定位。所述第二光栅结构具有小于所述粗略间距的精细间距，且所述第一及第二光栅结构两者均形成于衬底的两个或两个以上连续层中或衬底的单个层上的两个或两个以上单独产生的图案之间。所述第一及第二光栅具有全部遵守预定义设计规则规格的特征尺寸。
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公开(公告)号：CN104903705B
公开(公告)日：2018-06-26
申请号：CN201380069795.5
申请日：2013-11-25
Applicant: 科磊股份有限公司
CPC classification number: G02B27/58 , G01B11/00 , G01N21/47 , G01N21/55 , G01N2201/06113 , G01N2201/068 , G03F7/70625 , G03F7/70633
Abstract: 本发明涉及用于光瞳成像散射测量的各种变迹方案。在一些实施例中，系统包含安置于照明路径的光瞳平面内的变迹器。在一些实施例中，所述系统进一步包含经配置以用变迹照明的至少一部分来扫描样本的表面的照明扫描仪。在一些实施例中，所述系统包含经配置以提供四极照明功能的变迹光瞳。在一些实施例中，所述系统进一步包含变迹收集场光阑。本文中描述的各种实施例可经组合以实现某些优点。
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公开(公告)号：CN110632703B
公开(公告)日：2020-10-27
申请号：CN201910763022.6
申请日：2014-02-21
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： 格雷戈里·布雷迪 , 安德烈·V·舒杰葛洛夫 , 劳伦斯·D·罗特 , 德里克·萨乌夫尼斯 , 阿纳托利·夏册梅里尼 , 里亚·贝泽尔 , 穆沙米尔·阿蓝 , 阿纳托利·瓦西列夫 , 詹姆斯·艾伦 , 奥列格·舒列波夫 , 安德鲁·希尔 , 欧哈德·巴沙尔 , 摩西·马科维茨 , 亚龙·伊什-沙洛姆 , 利安·瑟拉 , 阿姆农·玛纳森 , 亚历山大·斯维泽尔 , 马克西姆·霍赫洛夫 , 阿维·阿布拉莫夫 , 奥列格·特斯布列维斯基 , 丹尼尔·坎德尔 , 马克·吉诺乌克
Abstract: 本发明针对于用于向用于光学计量的测量头提供照明的系统。在本发明的一些实施例中，来自多个照明源的照明光束经组合以将处于一或多个选定波长的照明递送到所述测量头。在本发明的一些实施例中，递送到所述测量头的照明的强度及/或空间相干性被控制。在本发明的一些实施例中，处于一或多个选定波长的照明是从经配置用于提供处于连续波长范围的照明的宽带照明源递送的。
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公开(公告)号：CN110632703A
公开(公告)日：2019-12-31
申请号：CN201910763022.6
申请日：2014-02-21
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： 格雷戈里·布雷迪 , 安德烈·V·舒杰葛洛夫 , 劳伦斯·D·罗特 , 德里克·萨乌夫尼斯 , 阿纳托利·夏册梅里尼 , 里亚·贝泽尔 , 穆沙米尔·阿蓝 , 阿纳托利·瓦西列夫 , 詹姆斯·艾伦 , 奥列格·舒列波夫 , 安德鲁·希尔 , 欧哈德·巴沙尔 , 摩西·马科维茨 , 亚龙·伊什-沙洛姆 , 利安·瑟拉 , 阿姆农·玛纳森 , 亚历山大·斯维泽尔 , 马克西姆·霍赫洛夫 , 阿维·阿布拉莫夫 , 奥列格·特斯布列维斯基 , 丹尼尔·坎德尔 , 马克·吉诺乌克
Abstract: 本发明针对于用于向用于光学计量的测量头提供照明的系统。在本发明的一些实施例中，来自多个照明源的照明光束经组合以将处于一或多个选定波长的照明递送到所述测量头。在本发明的一些实施例中，递送到所述测量头的照明的强度及/或空间相干性被控制。在本发明的一些实施例中，处于一或多个选定波长的照明是从经配置用于提供处于连续波长范围的照明的宽带照明源递送的。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105051880B
公开(公告)日：2019-09-13
申请号：CN201480017857.2
申请日：2014-02-21
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： 格雷戈里·布雷迪 , 安德烈·V·舒杰葛洛夫 , 劳伦斯·D·罗特 , 德里克·萨乌夫尼斯 , 阿纳托利·夏册梅里尼 , 里亚·贝泽尔 , 穆沙米尔·阿蓝 , 阿纳托利·瓦西列夫 , 詹姆斯·艾伦 , 奥列格·舒列波夫 , 安德鲁·希尔 , 欧哈德·巴沙尔 , 摩西·马科维茨 , 亚龙·伊什-沙洛姆 , 利安·瑟拉 , 阿姆农·玛纳森 , 亚历山大·斯维泽尔 , 马克西姆·霍赫洛夫 , 阿维·阿布拉莫夫 , 奥列格·特斯布列维斯基 , 丹尼尔·坎德尔 , 马克·吉诺乌克
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明针对于用于向用于光学计量的测量头提供照明的系统。在本发明的一些实施例中，来自多个照明源的照明光束经组合以将处于一或多个选定波长的照明递送到所述测量头。在本发明的一些实施例中，递送到所述测量头的照明的强度及/或空间相干性被控制。在本发明的一些实施例中，处于一或多个选定波长的照明是从经配置用于提供处于连续波长范围的照明的宽带照明源递送的。
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公开(公告)号：CN104903705A
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201380069795.5
申请日：2013-11-25
Applicant: 科磊股份有限公司
CPC classification number: G02B27/58 , G01B11/00 , G01N21/47 , G01N21/55 , G01N2201/06113 , G01N2201/068 , G03F7/70625 , G03F7/70633
Abstract: 本发明涉及用于光瞳成像散射测量的各种变迹方案。在一些实施例中，系统包含安置于照明路径的光瞳平面内的变迹器。在一些实施例中，所述系统进一步包含经配置以用变迹照明的至少一部分来扫描样本的表面的照明扫描仪。在一些实施例中，所述系统包含经配置以提供四极照明功能的变迹光瞳。在一些实施例中，所述系统进一步包含变迹收集场光阑。本文中描述的各种实施例可经组合以实现某些优点。
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公开(公告)号：CN103843123A
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201280048728.0
申请日：2012-07-30
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： 阿姆农·玛纳森 , 丹尼尔·坎德尔 , 摩西·巴鲁赫 , 弗拉基米尔·莱温斯基 , 诺姆·沙皮恩 , 约埃尔·L·塞利格松 , 安迪·希尔 , 欧哈德·巴沙尔 , 达莉亚·内格里 , 奥弗·查哈兰
IPC: H01L21/66
CPC classification number: G03F7/70633
Abstract: 本发明可包含：测量跨从半导体晶片的第一覆盖目标反射的照明的一部分的光瞳平面的第一相位分布，其中所述第一覆盖目标经制造以具有第一有意覆盖；测量跨从第二覆盖目标反射的照明的一部分的所述光瞳平面的第二相位分布，其中所述第二覆盖目标经制造以具有与所述第一有意覆盖方向相反且量值相同的第二有意覆盖；确定与所述第一相位分布及所述第二相位分布的总和相关联的第一相位倾斜；确定与所述第一相位分布与所述第二相位分布之间的差相关联的第二相位倾斜；校准一组相位倾斜数据；及确定与所述第一覆盖目标及所述第二覆盖目标相关联的测试覆盖值。
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公开(公告)号：CN108762006A
公开(公告)日：2018-11-06
申请号：CN201810555453.9
申请日：2013-11-25
Applicant: 科磊股份有限公司
CPC classification number: G02B27/58 , G01B11/00 , G01N21/47 , G01N21/55 , G01N2201/06113 , G01N2201/068 , G03F7/70625 , G03F7/70633
Abstract: 本发明涉及用于光瞳成像散射测量的变迹法。在一些实施例中，系统包含安置于照明路径的光瞳平面内的变迹器。在一些实施例中，所述系统进一步包含经配置以用变迹照明的至少一部分来扫描样本的表面的照明扫描仪。在一些实施例中，所述系统包含经配置以提供四极照明功能的变迹光瞳。在一些实施例中，所述系统进一步包含变迹收集场光阑。本文中描述的各种实施例可经组合以实现某些优点。
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公开(公告)号：CN103843123B
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201280048728.0
申请日：2012-07-30
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： 阿姆农·玛纳森 , 丹尼尔·坎德尔 , 摩西·巴鲁赫 , 弗拉基米尔·莱温斯基 , 诺姆·沙皮恩 , 约埃尔·L·塞利格松 , 安迪·希尔 , 欧哈德·巴沙尔 , 达莉亚·内格里 , 奥弗·查哈兰
IPC: H01L21/66
CPC classification number: G03F7/70633
Abstract: 本发明可包含：测量跨从半导体晶片的第一覆盖目标反射的照明的一部分的光瞳平面的第一相位分布，其中所述第一覆盖目标经制造以具有第一有意覆盖；测量跨从第二覆盖目标反射的照明的一部分的所述光瞳平面的第二相位分布，其中所述第二覆盖目标经制造以具有与所述第一有意覆盖方向相反且量值相同的第二有意覆盖；确定与所述第一相位分布及所述第二相位分布的总和相关联的第一相位倾斜；确定与所述第一相位分布与所述第二相位分布之间的差相关联的第二相位倾斜；校准一组相位倾斜数据；及确定与所述第一覆盖目标及所述第二覆盖目标相关联的测试覆盖值。
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