-
公开(公告)号：CN102402129B
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201110263560.2
申请日：2011-09-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G02B27/40 , G03F9/7049
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备、一种器件制造方法以及一种用于将图案应用至衬底的方法，其中光刻设备被布置成将图案从图案形成装置转移到衬底上，其中测量子系统包括朝向衬底引导的靠近图案形成子系统的图案化区域的一个或(优选地)更多的对准和水平传感器。对准传感器是可操作的以在定位子系统的控制之下在衬底和图案形成子系统的相对运动期间经过传感器来识别和测量衬底上的对准标记。处理器组合多个所述标记的相对区域的测量结果以提供对于定位子系统来说具有足够精确度的测量结果，来相对于对准标记在图案化区域处定位至少第一衬底部分。预备步骤获得了相对于图案形成装置上的已知图案的位置。在连续的衬底部分的曝光期间实时地进行测量和更新。
-
公开(公告)号：CN101598906A
公开(公告)日：2009-12-09
申请号：CN200910203129.1
申请日：2009-06-02
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707
Abstract: 本发明涉及一种衬底台、一种光刻设备和一种器件制造方法。所述衬底台在使用期间采用多种方法在台和支撑在台上的物体的边缘之间进行密封。尤其是，在位于台上的物体和台本身之间形成毛细通路。在毛细通路径向向内侧处过压的存在和/或弯液面钉扎特征将液体保持在所述通道内，并且帮助阻止液体进一步径向向内前进。实现这种功能的所述特征可以与围绕所述物体的部件相关联或形成在所述部件内。所述部件可以与所述台的一部分热隔离。
-
公开(公告)号：CN101819383A
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：CN200910253829.1
申请日：2009-12-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70875 , F25B21/00 , G03F7/70858 , Y02B30/66
Abstract: 一种光刻设备包括可移动的第一物体和包括热交换体的热交换器，该热交换体包括具有电热或磁热性质的材料并被配置以通过与可移动的第一物体进行热量交换来影响第一物体的温度；和发生器，其被配置以将电磁场供给至热交换体，以改变热交换体的温度，以便冷却或加热第一物体。
-
公开(公告)号：CN1898611A
公开(公告)日：2007-01-17
申请号：CN200480038919.4
申请日：2004-12-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： P·史密特斯 , P·J·C·H·斯穆尔德斯 , K·J·J·M·扎尔 , H·H·M·科西 , J·J·奥坦斯 , N·J·吉利森 , J·斯塔里弗尔德
CPC classification number: G03F7/70783
Abstract: 光刻装置包括用于提供辐射光束的照射系统和支撑构图部件的支撑结构。所述构图部件用于将图案在其截面赋予给光束。光刻装置还包括用于保持基底的基底台和用于将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统。所述装置具有用于支撑光刻装置中的对象如基底或构图部件的吸盘系统(100)。所述吸盘系统包括用于支撑对象的吸盘(120)、用于支撑吸盘的框架(110)以及用于相对于框架支撑吸盘的吸盘支撑结构(114)。所述吸盘支撑结构包括至少一个弯曲元件(130)，该弯曲元件在至少一个自由度上是柔性的，并耦合到吸盘和框架。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103135361B
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201210482715.6
申请日：2012-11-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： N·J·吉利森 , M·A·W·库杰帕斯 , 门诺·费恩 , A·J·C·斯吉本 , M·F·P·斯米茨
IPC: G03F7/20
CPC classification number: H01L21/6875 , G03F7/09 , G03F7/707 , H01L21/68735 , H01L21/68742
Abstract: 本发明公开了一种支撑件、光刻设备和器件制造方法。用于物体的支撑件具有配置成支撑所述物体的支撑表面；其中，所述支撑表面包括主要部分和可移动部分，所述支撑表面的可移动部分能够在缩回位置和延伸位置之间移动，在缩回位置处，支撑表面的可移动部分适配成基本上处于与支撑表面的主要部分相同的平面中，在延伸位置处，支撑表面的可移动部分从支撑表面的主要部分的平面突出。
-
公开(公告)号：CN102402129A
公开(公告)日：2012-04-04
申请号：CN201110263560.2
申请日：2011-09-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G02B27/40 , G03F9/7049
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备、一种器件制造方法以及一种用于将图案应用至衬底的方法，其中光刻设备被布置成将图案从图案形成装置转移到衬底上，其中测量子系统包括朝向衬底引导的靠近图案形成子系统的图案化区域的一个或(优选地)更多的对准和水平传感器。对准传感器是可操作的以在定位子系统的控制之下在衬底和图案形成子系统的相对运动期间经过传感器来识别和测量衬底上的对准标记。处理器组合多个所述标记的相对区域的测量结果以提供对于定位子系统来说具有足够精确度的测量结果，来相对于对准标记在图案化区域处定位至少第一衬底部分。预备步骤获得了相对于图案形成装置上的已知图案的位置。在连续的衬底部分的曝光期间实时地进行测量和更新。
-
公开(公告)号：CN103135361A
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201210482715.6
申请日：2012-11-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： N·J·吉利森 , M·A·W·库杰帕斯 , 门诺·费恩 , A·J·C·斯吉本 , M·F·P·斯米茨
IPC: G03F7/20
CPC classification number: H01L21/6875 , G03F7/09 , G03F7/707 , H01L21/68735 , H01L21/68742
Abstract: 本发明公开了一种支撑件、光刻设备和器件制造方法。用于物体的支撑件具有配置成支撑所述物体的支撑表面；其中，所述支撑表面包括主要部分和可移动部分，所述支撑表面的可移动部分能够在缩回位置和延伸位置之间移动，在缩回位置处，支撑表面的可移动部分适配成基本上处于与支撑表面的主要部分相同的平面中，在延伸位置处，支撑表面的可移动部分从支撑表面的主要部分的平面突出。
-
公开(公告)号：CN101598906B
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN200910203129.1
申请日：2009-06-02
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707
Abstract: 本发明涉及一种衬底台、一种光刻设备和一种器件制造方法。所述衬底台在使用期间采用多种方法在台和支撑在台上的物体的边缘之间进行密封。尤其是，在位于台上的物体和台本身之间形成毛细通路。在毛细通路径向向内侧处过压的存在和/或弯液面钉扎特征将液体保持在所述通道内，并且帮助阻止液体进一步径向向内前进。实现这种功能的所述特征可以与围绕所述物体的部件相关联或形成在所述部件内。所述部件可以与所述台的一部分热隔离。
-
公开(公告)号：CN100517074C
公开(公告)日：2009-07-22
申请号：CN200480038919.4
申请日：2004-12-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： P·史密特斯 , P·J·C·H·斯穆尔德斯 , K·J·J·M·扎尔 , H·H·M·科西 , J·J·奥坦斯 , N·J·吉利森 , J·斯塔里弗尔德
CPC classification number: G03F7/70783
Abstract: 光刻装置包括用于提供辐射光束的照射系统和支撑构图部件的支撑结构。所述构图部件用于将图案在其截面赋予给光束。光刻装置还包括用于保持基底的基底台和用于将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统。所述装置具有用于支撑光刻装置中的对象如基底或构图部件的吸盘系统(100)。所述吸盘系统包括用于支撑对象的吸盘(120)、用于支撑吸盘的框架(110)以及用于相对于框架支撑吸盘的吸盘支撑结构(114)。所述吸盘支撑结构包括至少一个弯曲元件(130)，该弯曲元件在至少一个自由度上是柔性的，并耦合到吸盘和框架。
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
9
records
(took 0.023 seconds)
